一種膜層圖案的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種膜層圖案的制作方法，先在基板上利用可擦除的制劑制作與所需的膜層圖案相互補(bǔ)的膜層圖案，然后在互補(bǔ)的膜層圖案上形成整層的膜層，接著通過(guò)清除互補(bǔ)的膜層圖案的方式得到所需的膜層圖案，相對(duì)于傳統(tǒng)的采用掩膜板制備膜層圖案的方式，省去了曝光顯影、以及刻蝕剝離等工藝，可以簡(jiǎn)化制作工藝；并且，在制作過(guò)程中省去了掩膜板的使用，可以降低膜層圖案的制作成本。
【專利說(shuō)明】一種膜層圖案的制作方法【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種膜層圖案的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在制作液晶顯示屏、電致發(fā)光器件、觸控模組以及太陽(yáng)能電池等器件時(shí)，需要采用薄膜形成相對(duì)應(yīng)部件的圖案。例如，在制備液晶顯示屏中的柵極、源極、漏極、像素電極等部件以及電容式觸控模組的觸控電極時(shí)，都需要在對(duì)應(yīng)膜層制作這些部件的圖案。
[0003]傳統(tǒng)制作膜層圖案的方法一般是采用掩模工藝，例如，在制作電容式觸控模組的觸控電極時(shí)，一般先在襯底基板上磁控濺射一層的ITO (Indium Tin Oxides，銦錫氧化物)膜層，然后在ITO膜層上涂覆光刻膠，再利用掩模板的圖案對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光顯影處理，接著濕法刻蝕ITO膜層，最后剝離剩下的光刻膠，得到所需的觸控電極的圖案。
[0004]可以看出，上述傳統(tǒng)的膜層圖案的制作方法工序較為復(fù)雜，而且，在制作過(guò)程中使用的掩膜板成本較高，也會(huì)導(dǎo)致制作膜層圖案的成本較高。因此，如何簡(jiǎn)化膜層圖案的制作步驟，并降低膜層圖案的制作成本，是本領(lǐng)域技術(shù)人員需要解決的技術(shù)問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供一種膜層圖案的制作方法，用以解決現(xiàn)有的膜層圖案的制作步驟較復(fù)雜且成本較高的問(wèn)題。
[0006]因此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種膜層圖案的制作方法，包括:
[0007]采用可擦除的制劑在基板上形成第一膜層圖案；
[0008]在形成有所述第一膜層圖案的基板上制備第二膜層；
[0009]清除所述基板上的所述第一膜層圖案以及所述第二膜層覆蓋所述第一膜層圖案的區(qū)域，得到與所述第一膜層圖案互補(bǔ)的第二膜層圖案。
[0010]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述膜層圖案的制作方法，先在基板上利用可擦除的制劑制作與所需的膜層圖案相互補(bǔ)的膜層圖案，然后在互補(bǔ)的膜層圖案上形成整層的膜層，接著通過(guò)清除互補(bǔ)的膜層圖案的方式得到所需的膜層圖案，相對(duì)于傳統(tǒng)的采用掩膜板制備膜層圖案的方式，省去了曝光顯影、以及刻蝕剝離等工藝，可以簡(jiǎn)化制作工藝；并且，在制作過(guò)程中省去了掩膜板的使用，可以降低膜層圖案的制作成本。
[0011]具體地，所述采用可擦除的制劑在基板上形成第一膜層圖案，包括:
[0012]采用繪制圖案或印刷的方式，在基板上形成第一膜層圖案。
[0013]較佳地，所述在形成有所述第一膜層圖案的基板上制備第二膜層，包括:
[0014]采用鍍膜工藝在形成有所述第一膜層圖案的基板上制備所述第二膜層。
[0015]進(jìn)一步地，所述第二膜層為透明導(dǎo)電氧化物膜層或金屬膜層。
[0016]具體地，所述透明導(dǎo)電氧化物膜層為銦錫氧化物膜層。
[0017]具體地，所述清除所述基板上的所述第一膜層圖案以及所述第二膜層覆蓋所述第一膜層圖案的區(qū)域，包括:[0018]采用擦除的方式或采用清洗劑的方式，清除所述基板上的所述第一膜層圖案以及所述第二膜層覆蓋所述第一膜層圖案的區(qū)域。
[0019]較佳地，所述清洗劑與所述可擦除的制劑的極性相同。
[0020]具體地，所述可擦除的制劑為墨水，所述清洗劑為乙醇溶液或丙酮溶液
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的膜層圖案的制作方法的流程圖；
[0022]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的基板上制作第一膜層圖案的示意圖之一；
[0023]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的基板上制作第一膜層圖案的示意圖之二 ；
[0024]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的基板上制作完第一膜層圖案的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的基板上制作完第二膜層的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的基板上清除第一膜層圖案的示意圖之一；
[0027]圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的基板上清除第一膜層圖案的示意圖之二 ；
[0028]圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的基板上清除第一膜層圖案后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖9為圖8沿BB方向的截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030]下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的膜層圖案的制作方法的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。
[0031]附圖中各膜層的厚度不反映其真實(shí)比例，各膜層圖案的形狀不僅限于此，目的只是示意說(shuō)明本
【發(fā)明內(nèi)容】
。
[0032]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種膜層圖案的制作方法，如圖1所示，具體步驟包括:
[0033]S101、采用可擦除的制劑在基板上形成第一膜層圖案；
[0034]S102、在形成有第一膜層圖案的基板上制備第二膜層；
[0035]S103、清除基板上的第一膜層圖案以及第二膜層覆蓋第一膜層圖案的區(qū)域，得到與第一膜層圖案互補(bǔ)的第二膜層圖案。
[0036]具體地，上述制作方法中所指的基板可以是襯底基板，也可以是形成有其他膜層的基板，在此不做限定。
[0037]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述膜層圖案的制作方法，先在基板上利用可擦除的制劑制作與所需的膜層圖案相互補(bǔ)的膜層圖案，然后在互補(bǔ)的膜層圖案上形成整層的膜層，接著通過(guò)清除互補(bǔ)的膜層圖案的方式得到所需的膜層圖案，相對(duì)于傳統(tǒng)的采用掩膜板制備膜層圖案的方式，省去了曝光顯影、以及刻蝕剝離等工藝，可以簡(jiǎn)化制作工藝；并且，在制作過(guò)程中省去了掩膜板的使用，可以降低膜層圖案的制作成本。
[0038]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法可用于制作液晶顯示屏、電致發(fā)光器件、觸控模組以及太陽(yáng)能電池等器件中的膜層圖案。例如，可以采用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法制備液晶顯示屏中的柵極、源極、漏極、像素電極等部件的圖案。
[0039]此外，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法特別適用制作電容式觸控模組中觸控電極的圖案，下面以制作電容式觸控模組中觸控電極的圖案為例對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法中的各步驟進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。[0040]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法中，步驟SlOl采用可擦除的制劑在基板上形成第一膜層圖案，可以采用例如繪制圖案或印刷的方式在在基板上形成第一膜層圖案。
[0041]在具體實(shí)施時(shí)，如圖2所示，可采用手動(dòng)或自動(dòng)控制方式用記號(hào)筆4在基板3繪制第一膜層圖案I ;如圖3所示，也可以采用噴墨印刷的方式，例如用噴墨頭5在基板3上形成第一膜層圖案I ;在具體實(shí)施時(shí)，可以通過(guò)計(jì)算機(jī)編程設(shè)計(jì)圖案的方式設(shè)計(jì)記號(hào)筆4或噴墨頭5的軌跡以實(shí)現(xiàn)該第一膜層圖案I的制作。當(dāng)然，還可以采用其他類似手段在基板上形成第一膜層圖案，例如，采用絲網(wǎng)印刷、傳統(tǒng)膠印或數(shù)碼印刷等方式在基板上形成第一膜層圖案，只需形成的第一膜層圖案是可擦除的即可，具體形式在此不做限定。
[0042]采用上述方式形成第一膜層圖案時(shí)，例如，用于繪圖圖案和印刷的墨水為可擦除制劑制成，該可擦除制劑成分通常包括分散劑、可擦除劑和溶劑等的復(fù)配液，分散劑可以為高分子聚羧酸鹽類或脂肪酰二乙醇胺，可擦除劑可以為長(zhǎng)鏈脂肪酸酯，溶劑可以為聚乙烯醇類和低級(jí)醇。
[0043]在步驟SlOl中制作出的第一膜層圖案I如圖4中黑色陰影部分所示，為所需要的觸控電極圖案的互補(bǔ)圖案。其中，白色部分為所需要的觸控電極圖案。圖2和圖3為圖4沿AA方向的截面圖。
[0044]在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法中，步驟S102在形成有第一膜層圖案I的基板3上制備第二膜層，可以為采用鍍膜工藝在形成有所述第一膜層圖案的基板上制備所述第二膜層，在具體實(shí)施時(shí)，如圖5所示，可以采用磁控濺射工藝、蒸發(fā)鍍膜工藝或其他鍍膜工藝在形成有第一膜層圖案I的基板3上制備第二膜層2。較佳地，為了避免將第一膜層圖案I置于高溫環(huán)境而使得第一膜層圖案I凝固，可以采用其他低溫鍍膜工藝在形成有第一膜層圖案I的基板3上制備第二膜層2，在形成有第一膜層圖案I的基板3上制備第二膜層2的過(guò)程中，基板3的溫度控制在低于200°C為宜，當(dāng)然，具體鍍膜工藝可以根據(jù)基板和膜層材料的不同選擇適當(dāng)?shù)墓に?，在此不做限定?br> [0045]進(jìn)一步地，所制備的第二膜層2可以為透明導(dǎo)電氧化物膜層，也可以為金屬膜層。
[0046]具體地，上述的金屬膜層所使用的金屬可以是鉻、鎳、鈦、鎳-鉻合金、鋁、鋅、金、銀和銅等，金屬膜層可以是單層，也可以是不同金屬兩層以上層疊的多層結(jié)構(gòu)；上述透明導(dǎo)電氧化物膜層可以為ITO (Indium Tin Oxides，銦錫氧化物)膜層，也可以為其他類似性質(zhì)的透明導(dǎo)電氧化物膜層，如IZ0(Indium Zinc Oxides,銦鋅氧化物)、ZA0(Zinc AluminiumOxides,鋅招氧化物)等。在此不做限定。
[0047]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述方法中，步驟S103清除基板3上的第一膜層圖案I以及第二膜層2覆蓋第一膜層圖案I的區(qū)域，在具體實(shí)施時(shí)，如圖6所示，可以采用例如棉布、絲質(zhì)、塑料或金屬等材質(zhì)的擦頭6擦除的方式清除基板3上的第一膜層圖案I以及第二膜層2覆蓋第一膜層圖案I的區(qū)域；如圖7所示，也可以采用例如噴頭7噴灑清洗劑的方式清除基板3上的第一膜層圖案I以及第二膜層2覆蓋第一膜層圖案I的區(qū)域。
[0048]在清洗的過(guò)程中，采用例如墨水作為可擦除的制劑在基板3上制作出的第一膜層圖案I會(huì)不留痕跡的溶解于清洗劑中或被擦頭6擦除，同時(shí)覆蓋在第一膜層圖案I上的其他物質(zhì)即第二膜層2對(duì)應(yīng)區(qū)域也會(huì)隨著墨水的去除被一起去除掉，從而得到所需的與第一膜層圖案I互補(bǔ)的第二膜層圖案201，如圖8和圖9所示，圖9為圖8沿BB方向的截面圖。其中，第二膜層圖案201與第一膜層圖案I為互補(bǔ)圖案。
[0049]進(jìn)一步地，根據(jù)相似相容性，清洗劑與可擦除的制劑的極性需要相同，即清洗劑能夠溶解可擦除的制劑。
[0050]具體地，可擦除的制劑可以為墨水，清洗劑可以為乙醇溶液或丙酮溶液等，清洗劑還可以為濃度96%的酒精、濃度10%的氨水和水按1:1:1混合溶液，或者將連丙酮、雙氧水等作為清洗劑以去除第一膜層圖案。其中，墨水主要成分包括有機(jī)溶劑、表面活性劑、溶劑、分散劑、去離子水及PH調(diào)節(jié)劑等。當(dāng)然也可以采用其他化學(xué)制劑作為可擦除制劑和清洗齊U，在此不做限定。
[0051]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種膜層圖案的制作方法，先在基板上利用可擦除的制劑制作與所需的膜層圖案相互補(bǔ)的膜層圖案，然后在互補(bǔ)的膜層圖案上形成整層的膜層，接著通過(guò)清除互補(bǔ)的膜層圖案的方式得到所需的膜層圖案，相對(duì)于傳統(tǒng)的采用掩膜板制備膜層圖案的方式，省去了曝光顯影、以及刻蝕剝離等工藝，可以簡(jiǎn)化制作工藝；并且，在制作過(guò)程中省去了掩膜板的使用，可以降低膜層圖案的制作成本。
[0052]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種膜層圖案的制作方法，其特征在于，包括: 采用可擦除的制劑在基板上形成第一膜層圖案； 在形成有所述第一膜層圖案的基板上制備第二膜層； 清除所述基板上的所述第一膜層圖案以及所述第二膜層覆蓋所述第一膜層圖案的區(qū)域，得到與所述第一膜層圖案互補(bǔ)的第二膜層圖案。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用可擦除的制劑在基板上形成第一膜層圖案，包括: 采用繪制圖案或印刷的方式在基板上形成第一膜層圖案。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述第一膜層圖案的基板上制備第二膜層，包括: 采用鍍膜工藝在形成有所述第一膜層圖案的基板上制備所述第二膜層。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述第二膜層為透明導(dǎo)電氧化物膜層或金屬膜層。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述透明導(dǎo)電氧化物膜層為銦錫氧化物膜層。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述清除所述基板上的所述第一膜層圖案以及所述第二膜層覆蓋所述第一膜層圖案的區(qū)域，包括: 采用擦除的方式或采用清洗劑的方式，清除所述基板上的所述第一膜層圖案以及所述第二膜層覆蓋所述第一膜層圖案的區(qū)域。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述清洗劑與所述可擦除的制劑的極性相同。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述可擦除的制劑為墨水，所述清洗劑為乙醇溶液或丙酮溶液。
【文檔編號(hào)】H01L21/02GK103474329SQ201310432089
【公開(kāi)日】2013年12月25日 申請(qǐng)日期:2013年9月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月22日
【發(fā)明者】楊玉清, 樸承翊, 李炳天 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司