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      柔性顯示設(shè)備,及用于制造柔性顯示設(shè)備的方法

      文檔序號(hào):7008610閱讀:195來源:國知局
      柔性顯示設(shè)備,及用于制造柔性顯示設(shè)備的方法
      【專利摘要】柔性顯示器包括:柔性襯底;以及設(shè)置在柔性襯底上并配置成顯示圖像的顯示器。柔性襯底包括:包括有機(jī)材料的柔性襯底主體;多個(gè)分離圖案,分布在柔性襯底主體的一側(cè)上;以及分離溝槽,位于柔性襯底主體的與分離圖案至少之一鄰近的一側(cè)上,分離溝槽從柔性襯底主體的一側(cè)的表面凹陷。
      【專利說明】柔性顯示設(shè)備,及用于制造柔性顯示設(shè)備的方法

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明的實(shí)施方式的方面涉及柔性襯底、柔性顯示設(shè)備、以及用于制造柔性顯示 設(shè)備的方法。更具體地,本發(fā)明的實(shí)施方式大體上涉及包括有機(jī)材料的柔性襯底、柔性顯示 設(shè)備、以及用于制造柔性顯示設(shè)備的方法。

      【背景技術(shù)】
      [0002] 顯示設(shè)備是顯示圖像的裝置。近來,有機(jī)發(fā)光二極管顯示器已經(jīng)引起了人們的注 〇
      [0003] 有機(jī)發(fā)光二極管顯示器具有自發(fā)光特征,并且不同于液晶顯示器,有機(jī)發(fā)光二極 管顯示器不需要單獨(dú)的光源,所以有機(jī)發(fā)光二極管顯示器可具有相對(duì)小的厚度和低的重 量。另外,有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備展現(xiàn)出高質(zhì)量以及諸如低功耗、高亮度、以及快速反應(yīng)速度等 期望的特性。
      [0004] 通常,有機(jī)發(fā)光二極管(0LED)顯示器包括:襯底、位于襯底上的有機(jī)發(fā)光二極管、 以及與襯底一起密封有機(jī)發(fā)光二極管的封裝層。
      [0005] 近來,已經(jīng)開發(fā)了包括由諸如聚酰亞胺的有機(jī)材料制成的柔性襯底的柔性顯示設(shè) 備。
      [0006] 通過在支承襯底(如玻璃)上形成柔性襯底、在柔性襯底上形成有機(jī)發(fā)光二極管和 封裝層、以及從支承襯底剝離柔性襯底來制造柔性顯示設(shè)備。
      [0007] 然而,由于當(dāng)柔性襯底從支承襯底剝離時(shí)形成并釋放的靜電,傳統(tǒng)的柔性顯示設(shè) 備會(huì)損壞形成在柔性襯底上的有機(jī)發(fā)光二極管。
      [0008] 背景部分中公開的以上信息僅用于增強(qiáng)對(duì)本發(fā)明背景的理解,因此其可以包括不 形成在該國中對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0009] 本發(fā)明的實(shí)施方式的方面涉及用于制造用于控制靜電的產(chǎn)生的柔性襯底的方法、 柔性顯示設(shè)備、以及制造柔性顯示設(shè)備的方法。
      [0010] 本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施方式提供一種柔性襯底,其包括:柔性襯底主體,包括有 機(jī)材料;多個(gè)分離圖案,分布在柔性襯底主體的一側(cè)上;以及分離溝槽,位于柔性襯底主體 的上述一側(cè)上并與分離圖案至少之一鄰近,分離溝槽從柔性襯底主體的一側(cè)的表面凹陷。
      [0011] 分離圖案可包括聚氧化銦錫(poly-ITO)。
      [0012] 分離模式可嵌入柔性襯底主體。
      [0013] 有機(jī)材料可包括聚酰亞胺。
      [0014] 另一實(shí)施方式提供了一種柔性顯示設(shè)備,其包括:根據(jù)上述實(shí)施方式的柔性襯底; 以及設(shè)置在柔性襯底上并配置成顯示圖案的顯示器。
      [0015] 顯示器可包括有機(jī)發(fā)光二極管。
      [0016] 又一實(shí)施方式提供了一種用于制造柔性顯示設(shè)備的方法,其包括:在支承襯底上 形成分離層;在分離層上形成光敏圖案;使用作為掩模的光敏圖案刻蝕分離層,以形成對(duì) 應(yīng)于光敏圖案的支承圖案和多個(gè)分離圖案,該多個(gè)分離圖案至少之一與支承圖案鄰近并分 布在支承襯底上;移除光敏圖案;將有機(jī)材料應(yīng)用至支承襯底,以形成覆蓋支承圖案和分 離圖案的柔性襯底主體;在柔性襯底主體上形成顯示器,該顯示器配置成顯示圖像;以及 使柔性襯底主體與支承襯底分離。
      [0017] 形成分離層可包括使非晶氧化銦錫(a-ITO)沉積在支承襯底上。
      [0018] 形成分離層可包括:使分離層形成為300A至1100A厚,以及在分離層上形成聚 氧化銦錫。
      [0019] 刻蝕分離層可包括使用干式刻蝕法,干式刻蝕法使用適于移除非晶氧化銦錫的蝕 刻劑。
      [0020] 使柔性襯底主體與支承襯底分離可包括將柔性襯底主體從支承襯底剝離。
      [0021] 使柔性襯底主體從支承襯底分離可包括:使嵌入柔性襯底主體的分離圖案與支 承襯底分離;使柔性襯底主體與支承圖案分離;以及在柔性襯底主體的一側(cè)上形成分離溝 槽,對(duì)應(yīng)于支承圖案,分離溝槽從柔性襯底主體的一個(gè)表面凹陷。
      [0022] 根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式之一,提供了用于控制靜電的產(chǎn)生的柔性襯底、柔性顯示 設(shè)備、以及用于制造柔性顯示設(shè)備的方法。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0023] 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明第一示例性實(shí)施方式的柔性顯示設(shè)備的剖視圖;
      [0024] 圖2示出了根據(jù)本發(fā)明第一示例性實(shí)施方式的柔性顯示設(shè)備的像素的配置的布 局圖;
      [0025] 圖3示出了沿圖2的線III-III截取的剖視圖;
      [0026] 圖4示出了用于制造根據(jù)本發(fā)明第二示例性實(shí)施方式的柔性顯示設(shè)備的方法的 流程圖;
      [0027] 圖5、圖6、圖7、圖8、圖9、圖10、以及圖11示出了用于制造根據(jù)第二示例性實(shí)施 方式的柔性顯示設(shè)備的方法。

      【具體實(shí)施方式】
      [0028] 在下文中將參照示出本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的附圖更加全面地描述本發(fā)明的 各種實(shí)施方式。如本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的,本文中描述的實(shí)施方式可以以各種不同的 方式進(jìn)行修改,并且所有的這些實(shí)施方式都不背離本發(fā)明的精神或范圍。
      [0029] 因此,附圖和描述應(yīng)認(rèn)為實(shí)質(zhì)上是說明性的而非限制性的,并且在整個(gè)說明書中 相同附圖標(biāo)記表示相同元件。
      [0030] 此外,在附圖中,為了描述方便起見,提供了部件的厚度和尺寸,但是本發(fā)明的實(shí) 施方式并不限于附圖中所示出的這些厚度和尺寸。
      [0031] 在附圖中,為了清晰起見,放大了層、膜、板、區(qū)域等的厚度。為了解釋方便起見,放 大了一些層和區(qū)域的厚度。當(dāng)描述到一個(gè)元件如層、膜、區(qū)域、板等形成在另一元件上時(shí),指 的是該元件直接位于另一元件上或該元件位于另一元件上并且兩者之間具有另外的元件。
      [0032] 另夕卜,除非明確地相反地說明,術(shù)語"包括(comprise)"及其變型如"包括 (comprises)"或"包括(comprising)"應(yīng)理解為是指包括所述元件而非排除任何其他元件。 在整個(gè)說明書中,應(yīng)理解,術(shù)語"位于......上"及類似的術(shù)語被一般地使用,而不必須與 重力參考相關(guān)。
      [0033] 下面將參照?qǐng)D1、圖2、圖3和圖4描述根據(jù)本發(fā)明第一示例性實(shí)施方式的柔性顯 示設(shè)備。在下文中,將描述用于顯示圖像的顯示器的有機(jī)發(fā)光二極管。在第一示例性實(shí)施 方式中,用于顯示圖像的顯示器包括有機(jī)發(fā)光二極管,而在另一示例性實(shí)施方式中,顯示器 可以是液晶顯示器、等離子體顯示器、或電子墨水顯示器。
      [0034] 在下文中,結(jié)晶化分離圖案表示分離圖案。
      [0035] 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明第一示例性實(shí)施方式的柔性顯示設(shè)備的剖視圖。
      [0036] 如圖1所示,柔性顯示設(shè)備1001包括:柔性襯底100、布線200、有機(jī)發(fā)光二極管 300、封裝層400、以及保護(hù)膜500。
      [0037] 柔性襯底100是透光的。布線200和有機(jī)發(fā)光二極管300設(shè)置在柔性襯底100上, 柔性襯底100面對(duì)封裝層400并且布線200和有機(jī)發(fā)光二極管300位于兩者之間。柔性襯 底100與封裝層400密封有機(jī)發(fā)光二極管300。柔性襯底100包括:柔性襯底主體110、結(jié) 晶化分離圖案120、以及分離溝槽130。
      [0038] 柔性襯底主體110由有機(jī)材料制成,該有機(jī)材料包括聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚 酰亞胺、聚碳酸酯、環(huán)氧樹脂、聚乙烯、以及聚丙烯酸酯中的至少一種。柔性襯底主體110還 可在有機(jī)材料中包括聚酰亞胺。柔性襯底主體110是柔性的并且是透光的。
      [0039] 結(jié)晶化分離圖案120分布并設(shè)置在柔性襯底主體110的底部上(例如分布在整個(gè) 底部上或分布在底部之上),其中柔性襯底主體110的底部可以是柔性襯底主體110的一 偵k結(jié)晶化分離圖案120包括聚氧化銦錫(poly-ΙΤΟ)。結(jié)晶化分離圖案120設(shè)置在柔性襯 底主體110中??梢杂卸鄠€(gè)具有顆粒形式的結(jié)晶化分離圖案120 (例如結(jié)晶化分離圖案可 包括多個(gè)顆粒),并且該多個(gè)具有顆粒形式的結(jié)晶化分離圖案120分別地連接、分離或間隔 開以分布在柔性襯底主體110中。結(jié)晶化分離圖案120可與柔性襯底主體110的底表面分 離(或間隔開)。結(jié)晶化分離圖案120至少之一與分離溝槽130相鄰(例如,結(jié)晶化分離圖案 的顆??赏ㄟ^分離溝槽130相互間隔開并且在分離溝槽130之間在柔性襯底主體110的區(qū) 域中聚集起來)。
      [0040] 分離溝槽與結(jié)晶化分離圖案120鄰近并且設(shè)置在柔性襯底主體110的底部處。分 離溝槽130從柔性襯底主體110的底表面凹陷(或形成為凹槽)。沿柔性襯底主體110的底 表面設(shè)置有多個(gè)分離溝槽130。
      [0041] 布線200包括第一薄膜晶體管10和第二薄膜晶體管20 (例如,如圖2所示),并向 有機(jī)發(fā)光二極管300發(fā)送信號(hào)以驅(qū)動(dòng)有機(jī)發(fā)光二極管300。有機(jī)發(fā)光二極管300根據(jù)由布 線200提供的信號(hào)發(fā)光。
      [0042] 有機(jī)發(fā)光二極管300設(shè)置在布線200上。
      [0043] 有機(jī)發(fā)光二極管300設(shè)置在柔性襯底100上并從布線200接收信號(hào)以顯示圖像。
      [0044] 參照?qǐng)D2和圖3,下面將更詳細(xì)地描述根據(jù)第一示例性實(shí)施方式的柔性顯示設(shè)備 1001的內(nèi)部配置。
      [0045] 圖2示出了根據(jù)第一示例性實(shí)施方式的柔性顯示設(shè)備的像素的配置的布局圖。圖 3示出了沿圖2的線III-III截取的剖視圖。
      [0046] 圖2和圖3中示出了有機(jī)發(fā)光二極管300和布線200的詳細(xì)配置,但是本發(fā)明的 實(shí)施方式并不限于圖2和圖3所示的配置。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以各種配置形成布線200 和有機(jī)發(fā)光二極管300。例如,附圖中示出了每個(gè)像素具有兩個(gè)薄膜晶體管(TFT)和一個(gè)電 容器的2Tr-lCap有源矩陣(AM)型柔性顯示設(shè)備,但是本發(fā)明的實(shí)施方式并不限于此。柔 性顯示設(shè)備在布線、電容器、以及薄膜晶體管的數(shù)目方面并不受限制。像素表示用于顯示圖 像的單元,并且顯示設(shè)備使用多個(gè)像素以顯示圖像。
      [0047] 如圖2和圖3所示,柔性顯示設(shè)備1001包括用于每個(gè)像素的開關(guān)薄膜晶體管10、 驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管20、電容器80、以及有機(jī)發(fā)光二極管300。這里,開關(guān)薄膜晶體管10、驅(qū)動(dòng) 薄膜晶體管20、以及電容器80形成布線200。布線200還包括:設(shè)置在柔性襯底100的第 一方向上的柵極線(或掃描線)151、以絕緣方式與柵極線151相交的數(shù)據(jù)線171、以及公共 電源線172。這里,一個(gè)像素利用公共電源線172、數(shù)據(jù)線171、以及柵極線151的邊界限定, 但是本發(fā)明的實(shí)施方式并不限于此。
      [0048] 有機(jī)發(fā)光二極管300包括:第一電極710、形成在第一電極710上的有機(jī)發(fā)射層 720、以及形成在有機(jī)發(fā)光層720上的第二電極730,其中第一電極710、有機(jī)發(fā)射層720、以 及第二電極為有機(jī)發(fā)光二極管300的部件。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式,第一電極710作為陽極,即 空穴注入電極,第二電極730作為陰極,即電子注入電極。然而,本發(fā)明的實(shí)施方式不限于 此,根據(jù)用于驅(qū)動(dòng)柔性顯示設(shè)備的方法,第一電極710可以是陰極而第二電極730可以是陽 極。在一個(gè)實(shí)施方式中,空穴和電子從第一電極710和第二電極730注入有機(jī)發(fā)光層720 中,當(dāng)注入有機(jī)發(fā)光層720內(nèi)的空穴和電子結(jié)合形成的激子從激發(fā)態(tài)落到基態(tài)時(shí),有機(jī)發(fā) 光層720發(fā)光。此外,第一電極710和第二電極730可分別配置成能夠透光和能夠反射光。
      [0049] 電容器80包括兩個(gè)電容器極板158和178,并且中間層絕緣層161設(shè)置在這兩者 之間。這里,中間層絕緣層161為介電材料,并且電容器80的電容量由存儲(chǔ)在電容器80中 的電荷和電容器極板158和178之間的電壓確定。
      [0050] 開關(guān)薄膜晶體管10包括:開關(guān)半導(dǎo)體層131、開關(guān)柵電極152、開關(guān)源電極173、以 及開關(guān)漏電極174。驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管20包括:驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體層132、驅(qū)動(dòng)?xùn)烹姌O155、驅(qū)動(dòng)源 電極176、以及驅(qū)動(dòng)漏電極177。
      [0051] 開關(guān)薄膜晶體管10用作用于選擇像素以發(fā)光的開關(guān)。開關(guān)柵電極152連接至柵 極線1511。開關(guān)源電極173連接至數(shù)據(jù)線171。開關(guān)漏電極174與開關(guān)源電極173相分離 并連接至一個(gè)電容器極板158。
      [0052] 驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管20將驅(qū)動(dòng)功率電壓施加至第二電極730,其中該驅(qū)動(dòng)功率電壓用 于使選擇的像素中的有機(jī)發(fā)光二極管300的有機(jī)發(fā)光層720發(fā)光。驅(qū)動(dòng)?xùn)烹姌O155連接至 與開關(guān)漏電極174相連接的電容器極板158。驅(qū)動(dòng)源電極176和另外的電容器極板178連 接至公共電源線172。驅(qū)動(dòng)漏電極177與第一電極710設(shè)置在相同層上并且驅(qū)動(dòng)漏電極177 連接至第一電極710。
      [0053] 另外,驅(qū)動(dòng)漏電極可與第一電極設(shè)置在不同的層上,在這種情況下,第一電極穿過 接觸孔連接至驅(qū)動(dòng)漏電極。
      [0054] 在上述配置中,開關(guān)薄膜晶體管10由施加至柵極線151的柵電壓操作(或控制)并 將施加至數(shù)據(jù)線171的數(shù)據(jù)電壓傳輸至驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管20。對(duì)應(yīng)于從公共電源線172施加 至驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管20的公共電壓與由開關(guān)薄膜晶體管10提供的數(shù)據(jù)電壓之間的差的電壓 存儲(chǔ)在電容器80中,并且對(duì)應(yīng)于存儲(chǔ)在電容器80中的電壓的電流通過驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管20 流向有機(jī)發(fā)光二極管300以致使光從有機(jī)發(fā)光二極管300發(fā)出。
      [0055] 封裝層400設(shè)置在有機(jī)發(fā)光二極管300上。
      [0056] 封裝層400與柔性襯底100 -起密封有機(jī)發(fā)光二極管300,并且封裝層400包括有 機(jī)層410和無機(jī)層420。
      [0057] 有機(jī)層410由聚合物形成并且其可以是包括聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、 聚碳酸酯、環(huán)氧樹脂、聚乙烯、以及聚丙烯酸酯中的一種的沉積層或單層。在有機(jī)層410由 聚丙烯酸酯形成的實(shí)施方式中,其可包括聚合的單體組合物,其中該聚合的單體組合物包 括二丙烯酸鹽單體和三丙烯酸鹽單體。
      [0058] 無機(jī)層420設(shè)置在有機(jī)層410上并可以是包括金屬氧化物或金屬氮化物的堆疊層 或單層。例如,無機(jī)層420包括硅氮化物(SiN x)、氧化鋁(A1203)、硅氧化物(SiOx)、以及氧化 鈦(Ti0 2)中的至少一種。
      [0059] 在一些實(shí)施方式中,存在多個(gè)有機(jī)層410和無機(jī)層420,并且無機(jī)層420可設(shè)置在 利用多個(gè)有機(jī)層410和多個(gè)無機(jī)層420配置的封裝層400的最高層處。此外,有機(jī)層410 和無機(jī)層420可交替地層疊。
      [0060] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式,保護(hù)膜500附接至柔性襯底100的下表面。保護(hù)膜 500可利用聚合物形成,該聚合物用于加強(qiáng)柔性襯底100的強(qiáng)度和保護(hù)柔性襯底100免受外 部干擾。
      [0061] 根據(jù)第一示例性實(shí)施方式的柔性顯示設(shè)備1001可通過使用根據(jù)將被描述的第二 示例性實(shí)施方式的用于制造柔性顯示設(shè)備的方法來制造。
      [0062] 下面將參照?qǐng)D4、圖5、圖6、圖7、圖8、圖9、圖10、以及圖11描述根據(jù)第二示例性 實(shí)施方式的用于制造柔性顯示設(shè)備的方法。
      [0063] 圖4示出了根據(jù)本發(fā)明第二示例性實(shí)施方式的用于制造柔性顯示設(shè)備的方法的 流程圖。圖5、圖6、圖7、圖8、圖9、圖10、以及圖11示出了根據(jù)第二示例性實(shí)施方式的用 于制造柔性顯示設(shè)備的方法。
      [0064] 非晶分離層可以是分離層,非晶支承圖案可以是支承圖案,并且結(jié)晶化分離圖案 可以是分離圖案。
      [0065] 如圖4和圖5所示,非晶分離層20形成在支承襯底10上(例如,參照?qǐng)D4的S100)。 [0066] 更詳細(xì)地,非晶分離層20形成在由玻璃、金屬、或無機(jī)材料(例如,陶瓷)制成的支 承襯底10上。通過將非晶氧化銦錫(a-ITO)沉積在支承襯底10上以形成非晶分離層20。 在這種情況下,當(dāng)非晶分離層20形成為300A到1100A厚時(shí),聚氧化銦錫形成在由非晶 氧化銦錫形成的非晶分離層20頂部。在形成非晶分離層20之后,將非晶分離層20加熱, 以在非晶分離層20的頂部形成聚氧化銦錫。
      [0067] 如圖6所示,光敏圖案30形成在非晶分離層20上(例如,參照?qǐng)D4的S200)。
      [0068] 更詳細(xì)地,光敏層形成在非晶分離層20上,通過使用包括對(duì)應(yīng)于光敏圖案30的透 光部分的掩模使光敏層暴露,并且使暴露的光敏層顯影以在非晶分離層20上形成光敏圖 案30。多個(gè)光敏圖案30沿非晶分離層20的上表面設(shè)置。
      [0069] 如圖7所示,使用作為掩模的光敏圖案30刻蝕非晶分離層20 (例如,參照?qǐng)D4的 S300)。
      [0070] 更詳細(xì)地,使用作為掩模的光敏圖案30刻蝕非晶分離層20,以形成對(duì)應(yīng)于光敏圖 案30的非晶支承圖案21,并且結(jié)晶化分離圖案120以分布的方式設(shè)置(例如,分布)在支承 襯底10上,其中結(jié)晶化分離圖案120至少之一與非晶支承圖案21相鄰(或鄰近)。
      [0071] 使用干式刻蝕法刻蝕非晶分離層20,其中干式刻蝕法使用用于移除非晶氧化銦錫 的蝕刻劑,并且因?yàn)榫垩趸熷a形成在非晶分離層20的頂部,非晶分離層20中對(duì)應(yīng)于光敏 圖案30的部分形成為來自非晶分離層20的非晶支承圖案21,非晶分離層20的剩余部分形 成為利用(例如,來自)聚氧化銦錫配置的結(jié)晶化分離圖案120。聚氧化銦錫主要形成在非 晶分離層20的頂部,從而結(jié)晶化分離圖案120通常與支承襯底10分離。結(jié)晶化分離圖案 120從支承襯底10流動(dòng)。
      [0072] 如圖8所示,光敏圖案30形被移除(例如,參照?qǐng)D4的S400)。
      [0073] 更詳細(xì)地,通過使用灰化工藝或剝離工藝可將光敏圖案30從非晶支承圖案21移 除。通過移除光敏圖案30,非晶支承圖案21和光敏圖案30被暴露。
      [0074] 圖9示出了在執(zhí)行用于制造柔性顯示設(shè)備的方法過程中形成的非晶支承圖案和 結(jié)晶化分離圖案。
      [0075] 如圖9所示,與非晶支承圖案21相鄰的(鄰近的)、暴露的非晶支承圖案21和結(jié)晶 化分離圖案120形成在支承襯底10上。
      [0076] 如圖10所示,將有機(jī)材料應(yīng)用至支承襯底10以形成柔性襯底主體110 (例如,參 照?qǐng)D4的S500)。
      [0077] 更詳細(xì)地,通過將有機(jī)材料應(yīng)用至支承襯底10而在支承襯底10上形成柔性襯底 主體110,以覆蓋非晶支承圖案21和結(jié)晶化分離圖案120。因此,結(jié)晶化分離圖案120設(shè)置 (例如,嵌入)在柔性襯底主體110的底部內(nèi)。例如,通過將聚酰亞胺應(yīng)用至支承襯底10而 在支承襯底10上形成柔性襯底主體110。
      [0078] 有機(jī)發(fā)光二極管300作為顯示器形成在柔性襯底主體110上(例如,參照?qǐng)D4的 S600)。
      [0079] 更詳細(xì)地,通過使用光刻工藝和沉積工藝而在柔性襯底主體110上形成布線200 和有機(jī)發(fā)光二極管300,以在柔性襯底主體110上形成顯示器。
      [0080] 此外,通過在有機(jī)發(fā)光二極管300上形成有機(jī)層410和無機(jī)層420而形成封裝層 400。
      [0081] 如圖11所示,柔性襯底主體110被從支承襯底10分離(例如,參照?qǐng)D4的S700)。
      [0082] 更詳細(xì)地,將柔性襯底主體110從支承襯底10剝離,以使柔性襯底主體110與支 承襯底10分離。通過使柔性襯底主體110與支承襯底10分離,設(shè)置在柔性襯底主體110中 的結(jié)晶化分離圖案120與支承襯底10相分離并且柔性襯底主體110與非晶支承圖案21相 分離,以形成分離溝槽130,其中對(duì)應(yīng)于位于柔性襯底主體110底部的非晶支承圖案21,分 離溝槽130從柔性襯底主體110的下表面凹陷。在這種情況下,結(jié)晶化分離圖案120設(shè)置 在柔性襯底主體110的底部,該底部可以是柔性襯底主體110的一側(cè),當(dāng)柔性襯底主體110 從支承襯底10剝離時(shí),結(jié)晶化分離圖案120防止或減少靜電的產(chǎn)生。通過使柔性襯底主體 110與支承襯底10分離,形成了包括柔性襯底主體110、結(jié)晶化分離圖案120、以及分離溝槽 130的柔性襯底100。
      [0083] 保護(hù)膜附接至柔性襯底主體110的下表面,以制造或構(gòu)造根據(jù)第一示例性實(shí)施方 式的柔性顯示設(shè)備1001。
      [0084] 因此,根據(jù)第二示例性實(shí)施方式的用于制造根據(jù)第一示例性實(shí)施方式的柔性顯示 設(shè)備1001的方法,在支承襯底10上形成包括聚氧化銦錫的結(jié)晶化分離圖案120,并在柔性 襯底主體110的底部內(nèi)提供結(jié)晶化分離圖案120,從而當(dāng)柔性襯底主體110從支承襯底10 剝離時(shí)控制靜電的產(chǎn)生。因此,由靜電對(duì)有機(jī)發(fā)光二極管300 (用作顯示器)的損壞被控制, 從而在制造柔性顯示設(shè)備1001的過程中提高了可靠性和效率。
      [0085] 因此,根據(jù)第二示例性實(shí)施方式的用于制造根據(jù)第一示例性實(shí)施方式的柔性顯示 設(shè)備1001的方法,在支承襯底10上形成主要包括非晶氧化銦錫的非晶支承圖案21以使柔 性襯底主體110與非晶支承圖案21分離,因此容易地使柔性襯底主體110與支承襯底10 分離。因此,提高了柔性顯示設(shè)備1001的制造效率。
      [0086] 雖然已經(jīng)結(jié)合目前認(rèn)為是可實(shí)施的示例性實(shí)施方式描述了本發(fā)明,但是應(yīng)該理解 本發(fā)明并不限于所公開的實(shí)施方式,而相反地旨在涵蓋包括在所附權(quán)利要求及其等同的精 神和范圍內(nèi)的各種修改和等同布置。
      【權(quán)利要求】
      1. 一種柔性顯示設(shè)備,包括: 柔性襯底;以及 顯示器,設(shè)置在所述柔性襯底上并配置成顯示圖像, 其中所述柔性襯底包括: 柔性襯底主體,包括有機(jī)材料; 多個(gè)分離圖案,分布在所述柔性襯底主體的一側(cè);以及 分離溝槽,位于所述柔性襯底主體的所述一側(cè)上并與所述多個(gè)分離圖案中的至少一個(gè) 鄰近,所述分離溝槽從所述柔性襯底主體的所述一側(cè)的表面凹陷。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備,其中所述分離圖案包括聚氧化銦錫。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備,其中所述分離圖案嵌入在所述柔性襯底主體 內(nèi)。
      4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備,其中所述有機(jī)材料包括聚酰亞胺。
      5. -種用于制造柔性顯示設(shè)備的方法,包括: 在支承襯底上形成分離層; 在所述分離層上形成光敏圖案; 使用所述光敏圖案作為掩模來刻蝕所述分離層,以形成對(duì)應(yīng)于所述光敏圖案的支承圖 案和多個(gè)分離圖案,所述多個(gè)分離圖案中的至少一個(gè)與所述支承圖案鄰近并分布在所述支 承襯底上; 移除所述光敏圖案; 將有機(jī)材料應(yīng)用至所述支承襯底,以形成覆蓋所述支承圖案和所述分離圖案的柔性襯 底主體; 在所述柔性襯底主體上形成顯示器,所述顯示器配置成顯示圖像;以及 使所述柔性襯底主體與所述支承襯底分離。
      6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于制造柔性顯示設(shè)備的方法,其中形成分離層包括:使非 晶氧化銦錫沉積在所述支承襯底上。
      7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于制造柔性顯示設(shè)備的方法,其中形成分離層包括:將所 述分離層形成為300A至1100A厚,以及在所述分離層上形成聚氧化銦錫。
      8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于制造柔性顯示設(shè)備的方法,其中刻蝕所述分離層包括使 用干式刻蝕法,所述干式刻蝕法使用適于移除所述非晶氧化銦錫的蝕刻劑。
      9. 權(quán)利要求5所述的用于制造柔性顯示設(shè)備的方法,其中使所述柔性襯底主體與所述 支承襯底分離包括:將所述柔性襯底主體從所述支承襯底剝離。
      10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于制造柔性顯示設(shè)備的方法,其中使所述柔性襯底主體 與所述支承襯底分離包括: 使嵌入所述柔性襯底主體的所述分離圖案與所述支承襯底分離; 使所述柔性襯底主體與所述支承圖案分離;以及 在所述柔性襯底主體的一側(cè)上形成分離溝槽,所述分離溝槽對(duì)應(yīng)于所述支承圖案從所 述柔性襯底主體的一個(gè)表面凹陷。
      【文檔編號(hào)】H01L27/32GK104103775SQ201310484853
      【公開日】2014年10月15日 申請(qǐng)日期:2013年10月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月3日
      【發(fā)明者】金鍾允, 金珍澤 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司
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