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      有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法

      文檔序號:7009667閱讀:138來源:國知局
      有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法
      【專利摘要】一種有機發(fā)光顯示裝置,其包括:襯底;顯示單元,位于襯底上;封裝層,位于顯示單元上;封裝層,包括多個交替的無機層和有機層,其中有機膜中的至少一個為圖案化有機膜,并且該圖案化有機膜具有位于有機基質中的多個高折射率部分。
      【專利說明】有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法
      [0001] 相關申請的交叉引用
      [0002] 于2013年4月15日向韓國知識產權局提交的名為"有機發(fā)光二極管顯示裝置及 其制造方法"的第10-0040926號韓國專利申請的全部內容通過引用并入本文。

      【技術領域】
      [0003] 本發(fā)明涉及有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法。更具體地,本發(fā)明涉及薄膜封裝層 中具有圖案化有機膜從而增大光提取效率的有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法。

      【背景技術】
      [0004] 有機發(fā)光顯示裝置為具有有機發(fā)光二極管的自發(fā)光顯示裝置,其中有機發(fā)光二極 管發(fā)光以顯示圖像。由于有機發(fā)光二極管顯示器具有自發(fā)光特性并且與液晶顯示器不同, 不需要單獨的光源,所以與液晶顯示器相比可以減小其厚度和重量。此外,有機發(fā)光顯示裝 置展現出低功耗、高亮度、以及快反應速度。
      [0005] 有機發(fā)光顯示器的有機發(fā)光二極管可包括空穴注入電極、有機發(fā)光層、電子注入 電極、以及薄膜封裝層。在有機發(fā)光二極管中,從空穴注入電極提供的空穴和從電子注入電 極提供的電子在有機發(fā)光層中配對以形成激子,并由激子落到基態(tài)而生成光。


      【發(fā)明內容】

      [0006] 本公開努力提供一種有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法,該有機發(fā)光顯示裝置具有 通過在封裝層中形成圖案化有機膜而提高的光提取效率以減少在有機發(fā)光顯示裝置中產 生的全內反射。
      [0007] 本發(fā)明的示例性實施方式提供了一種有機發(fā)光顯示裝置,其包括:襯底;顯示單 元,位于襯底上;封裝層,位于顯示單元上;封裝層,包括多個交替的無機層和有機層,其中 有機膜中的至少一個為圖案化有機膜,并且該圖案化有機膜具有位于有機基質中的多個高 折射率部分。
      [0008] 有機基質可包括具有約1. 45至約1. 5的折射率的有機材料。
      [0009] 高折射率部分可具有約1. 5至約1. 6的折射率。
      [0010] 高折射率部分可具有圓柱、棱鏡、凸透鏡、凹透鏡、或線的形狀。
      [0011] 封裝層可包括至少兩個圖案化有機膜。
      [0012] 該至少兩個圖案化有機膜可由一個無機膜分離,并且該至少兩個圖案化有機膜中 的至少一個中的高折射率部分呈線形,該至少兩個圖案化有機膜的上部圖案化有機層中的 高折射率部分垂直于該兩個圖案化有機膜的下部圖案化有機膜中的高折射率部分。
      [0013] 有機基質和高折射率部分可包括相同的材料。
      [0014] 顯示單元可包括位于襯底上的第一電極、位于第一電極上的發(fā)光層、以及位于發(fā) 光層上的第二電極。
      [0015] 有機發(fā)光顯示裝置還可包括位于顯示單元與封裝層之間的覆蓋層。
      [0016] 本發(fā)明的示例性實施方式還提供了一種有機發(fā)光顯示裝置制造方法,其包括:在 襯底上形成顯示單元;通過形成多個交替的無機膜和有機膜在顯示單元上形成封裝層;以 及在覆蓋有機膜之后通過選擇性光照射形成有機膜中的至少一個。
      [0017] 選擇性光照射可包括穿過半色調掩模照射光。
      [0018] 選擇性光照射可包括從至少兩個光源照射光,使得有機膜上的入射的光的強度由 于來自該至少兩個光源的光的相長干涉和相消干涉而改變,以執(zhí)行選擇性光照射。
      [0019] 形成有機膜可包括利用相同材料均勻地覆蓋有機膜。
      [0020] 然后可至少穿過第一掩模和第二掩模執(zhí)行選擇性光照射,其中第一掩模在第一方 向上呈縫狀,第二掩模在與第一方向相交的第二方向上呈縫狀。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0021] 圖1是示出根據本發(fā)明示例性實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖;
      [0022] 圖2示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的包括圖案化有機膜的有機發(fā)光顯示裝 置;
      [0023] 圖3示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的在圖案化有機膜的高折射率部分的界 面上出現的光反射和光折射;
      [0024] 圖4示出了根據本發(fā)明另一示例性實施方式的包括圖案化有機膜的有機發(fā)光顯 示裝置;
      [0025] 圖5是根據本發(fā)明示例性實施方式的圖案化有機膜的平面圖;
      [0026] 圖6示出了根據本發(fā)明又一示例性實施方式的包括圖案化有機膜的有機發(fā)光顯 示裝置;
      [0027] 圖7是根據本發(fā)明又一示例性實施方式的圖案化有機膜的平面圖;
      [0028] 圖8更詳細地示出了圖2所示的有機發(fā)光顯示裝置;
      [0029] 圖9a示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的縫狀掩模;
      [0030] 圖9b示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的四邊形掩模;
      [0031] 圖9c示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的具有規(guī)則分布的圓形掩模;
      [0032] 圖9d示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的具有不規(guī)則分布的圓形掩模;
      [0033] 圖10a至圖10f示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的制造工 藝中的各個階段。

      【具體實施方式】
      [0034] 以下參照附圖更詳細地描述本發(fā)明的示例性實施方式。然而,本發(fā)明的范圍并不 限于以下示例和附圖。附圖中示出的并在下面描述的示例性實施方式可包括各種等價和修 改。
      [0035] 本說明書中所使用的技術術語為用于描述本發(fā)明示例性實施方式的術語,并可根 據用戶,操作者的意愿或本發(fā)明所屬【技術領域】的習慣而改變。因此,在整個說明書中,必須 基于各個細節(jié)來限定技術術語。
      [0036] 作為參考,為了便于理解,在附圖中各個部件及其形狀可能被示意性地示出或夸 大地示出。在所有附圖中,相同的附圖標記表示相同的元件。此外,應當理解當層或元件被 描述為位于另一層或元件"之上"時,其可直接設置在另一層或元件之上,或者還可存在插 入的層或元件。
      [0037] 圖1是示出根據本發(fā)明示例性實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的剖視圖。
      [0038] 參照圖1,根據本發(fā)明示例性實施方式的有機發(fā)光顯示裝置可包括:襯底100、顯 示單元200、以及封裝層300。
      [0039] 襯底100可由各種材料制成,例如玻璃襯底、石英襯底、和/或透明樹脂襯底,并可 通過使用柔性材料形成。例如,可用作襯底1〇〇的透明樹脂襯底可包括例如聚酰亞胺樹脂、 丙烯酸樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂、磺酸 樹月旨等等。
      [0040] 在有機發(fā)光顯示裝置為朝向襯底顯示圖像的背面發(fā)光類型的情況中,襯底100由 透光材料制成。在有機發(fā)光顯示裝置為朝向封裝層300顯示圖像的正面發(fā)光類型的情況 中,襯底100可不必由透光材料制成。
      [0041] 顯示單元200可包括發(fā)光層220 (圖8)。下面將參照圖8描述顯示單元200的配 置。
      [0042] 封裝層300可包括交替層壓的有機膜320和無機膜310 (圖4)。下面將參照圖4 更詳細地描述封裝層300的配置。
      [0043] 圖2詳細示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的有機發(fā)光顯示裝置。
      [0044] 參照圖2,根據本發(fā)明示例性實施方式的有機發(fā)光顯示裝置可包括襯底100、形成 在襯底100上的顯示單元200、以及形成在顯示單元200上的封裝層300。如上所述,封裝 層300可包括多個無機膜310和多個有機膜320 (圖4),并且該多個無機膜310和多個有 機膜320可交替地層壓。可通過考慮外部光提取效率等等而設置無機膜310和有機膜320 的層壓數目。
      [0045] 當傳統(tǒng)有機發(fā)光顯示裝置包括傳統(tǒng)封裝層時,傳統(tǒng)有機發(fā)光顯示裝置的光學特性 可能會退化,其中傳統(tǒng)封裝層包括多層式結構。也就是說,傳統(tǒng)多層式結構包括具有不同折 射率的多個有機膜和無機膜,由顯示單元中發(fā)光層生成的光的一部分可通過內部全反射而 被限制(即由于不同的折射率),然后被耗散。
      [0046] 因此,為防止光提取效率退化,在本公開中,封裝層300中可包括圖案化有機膜 330,如圖2所示。因為圖案化有機膜330可由多個有機膜320中的至少一個形成,所以封 裝層300的具有交替的無機膜310和有機膜320的層壓結構可包括圖案化有機膜330而不 是有機膜320之一。例如,第一無機膜311、圖案化有機膜330、以及第二無機膜312可形成 在顯示單元200上,例如順序地且直接地位于彼此之上。圖案化有機膜330可包括散布在 基質330a中的多個高折射率部分330b,其中基質330a由有機材料制成。
      [0047] 詳細地,該多個有機膜320較厚以防止?jié)駳鉂B透并形成平面。為了防止厚有機膜 320流動,形成有機膜320可包括在無機膜上涂覆有機材料330'(圖10D),然后利用紫外光 照射以及使有機材料330'固化以形成有機膜320??稍谟袡C膜320中至少之一上執(zhí)行選擇 性的紫外光照射(即根據有機膜上的位置改變照射的光量),以形成圖案化有機膜330,即通 過選擇性的光照射形成圖案化有機膜330。
      [0048] 更詳細地,所涂覆的有機材料330'具有以下特性,其折射率隨著受到的紫外光量 的增大而增大。因此,本公開的圖案化有機膜330可通過在固化過程中局部區(qū)分紫外光照 射量而改變有機材料330'的區(qū)域(例如內部區(qū)域)的折射率。例如,紫外光照射量小的區(qū)域 可限定由有機材料制成的基質330a,而紫外光照射量大的區(qū)域可在基質330a中限定高折 射率部分330b。
      [0049] 例如,由有機材料制成的基質330a的折射率可為約1. 45至約1. 5,而該多個高折 射率部分330b的折射率可以為約1. 5至約1. 6。因此,由于有機材料制成的基質330a與該 多個高折射率部分330b的折射率的差別,由顯示單元200的發(fā)光層生成的光可被散射與衍 射。
      [0050] 圖3示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的在圖案化有機膜330的高折射率部分 330b界面處的光反射和光折射。如圖3所示,光的衍射和散射發(fā)生在該多個高折射率部分 330b與基質330a的接觸面處。
      [0051] 詳細地,基質330a和高折射率部分330b可由相同材料制成。因為圖案化有機膜 330具有如下結構:在該結構中,每個區(qū)域的折射率根據在通過相同有機材料330'形成圖 案化有機膜330之后的紫外光照射的量而改變,所以圖案化有機膜330可由相同材料制成, 并且可出現聚合度的差別等。
      [0052] 圖4示出了根據本發(fā)明另一示例性實施方式的包括圖案化有機膜的有機發(fā)光顯 示裝置。
      [0053] 參照圖4,圖案化有機膜330可形成至少兩次或更多次,即第一圖案化有機膜331 和第二圖案化有機膜332。例如,顯示單元200可形成在襯底100上,并且覆蓋層400可形 成在顯示單元200上。第一無機膜311可形成在覆蓋層400上,第一圖案化有機膜331可 形成在第一無機膜311上,第二無機膜312可形成在第一圖案化有機膜331上,以及第二圖 案化有機膜332可形成在第二無機膜312上。此外,第三無機膜313、第一有機膜321、第四 無機膜314、第二有機膜322、以及第五無機膜315可順序地層壓。第一圖案化有機膜331 和第二圖案化有機膜332具有與圖2中的圖案化有機的膜330的結構基本相同的結構。通 過形成圖案化有機膜330可將光提取效率提高至少兩倍或更多。
      [0054] 圖5示出了圖4的第一圖案化有機膜331和第二圖案化有機膜332的平面圖。參 照圖5,圖案化有機膜331和332的高折射率部分331b和332b分別可具有任何合適的形 狀,例如柱形、棱鏡形、凸透鏡形、或凹透鏡形。
      [0055] 此外,圖案化有機膜330的高折射率部分330b可規(guī)則或不規(guī)則地散布在由有機材 料制成的基質330a中。例如,參照圖5,第一圖案化有機膜331的成柱形的第一高折射率部 分331b可規(guī)則地散布在由有機材料制成的第一基質331a中,而第二圖案化有機膜332的 成柱形的(例如圓柱形)第二高折射率部分332b可不規(guī)則地散布在由有機材料制成的第二 基質332a中。
      [0056] 圖6示出了根據本發(fā)明又一示例性實施方式的包括兩個圖案化有機膜的有機發(fā) 光顯示裝置。圖7示出了圖6中的兩個圖案化有機膜的平面圖。
      [0057] 參照圖6和圖7,根據另一實施方式的有機發(fā)光顯不裝置可包括兩個圖案化有機 膜333和334,且第二無機膜312位于兩者之間。兩個圖案化有機膜333和334中的每個的 高折射率部分,即高折射率部分333b和334b形成為線型。此外,兩個圖案化有機膜330的 下部圖案化有機膜333中包括的高折射率部分333b和兩個圖案化有機膜的上部圖案化有 機膜334中包括的1?折射率部分334b可設置成彼此相交。
      [0058] 例如,第一無機膜311可形成在覆蓋層400上,第三圖案化有機膜333 (即下部圖 案化有機膜333)可形成在第一無機膜311上。第二無機膜312可形成在第三圖案化有機 膜333上,第四圖案化有機膜334 (即上部圖案化有機膜334)可形成在第二無機膜312上。 此外,第三無機膜313、第一有機膜321、第四無機膜314、第二有機膜322、以及第五無機膜 315可順序地層壓在第四圖案化有機膜334上。
      [0059] 第三圖案化有機膜333可由第三基質333a和第三線型高折射率部分333b制成, 其中第三基質333a由有機材料制成。第四圖案化有機膜334可由第四基質334a和第四線 型高折射率部分334b制成,其中第四基質334a由有機材料制成。如圖7所示,當從上部觀 察時,高折射率部分333b和334b可呈縫狀。也就是說,線型可以是具有預定高度和厚度的 長縫。因此,由有機材料制成的基質333a和343a中的每個以及對應的高折射率部分333b 和334b可以是以長型縫狀重復。
      [0060] 第三高折射率部分333b和第四高折射率部分334b可形成為當從上部觀察時彼此 相交。如圖7所示,第三高折射率部分333b可沿第一方向形成,而第四高折射率部分334b 可沿垂直于第一方向的第二方向形成。因此,第三高折射率部分333b和第四高折射率部分 334b可彼此垂直,并可增加顯示單元200的發(fā)光層220中產生的光的衍射和散射。第三高 折射率部分333b與第四高折射率部分334b彼此相交所成的角可以各種方式形成。
      [0061] 可用作無機膜310、有機膜320、圖案化有機膜330的薄膜材料可以是任何合適的 材料,無機膜310、有機膜320、以及圖案化有機膜330的層壓方法可以是任何合適的方法。
      [0062] 例如,可用作無機膜310的薄膜材料可包括例如氮化硅、氮化鋁、二氮化鋯、一氮 化鈦、氮化鉿、一氮化鉭、氧化娃、氧化錯、以及氧化鈦中的至少一種??捎米饔袡C膜320 的薄膜材料可包括例如環(huán)氧樹脂、丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚脲、聚丙烯酸酯、PTCDA、 BPDA、以及PMDA中的至少一種。圖案化有機膜330可通過使用有機膜320的任何合適薄膜 材料形成,其可用作紫外光固化樹脂。
      [0063] 根據用于形成封裝層300的材料,無機膜310和有機膜320可通過使用以下工藝 形成,例如旋涂工藝、印刷工藝、濺射工藝、化學氣相淀積(CVD)工藝、原子層沉積(ALD)工 藝、等離子體增強化學氣相淀積(PECVD)工藝、高密度等離子體化學氣相淀積(HDP-CVD)工 藝、真空沉積工藝等。
      [0064] 再參照圖6,覆蓋層400可設置在顯示單元200與封裝層300之間。覆蓋層400可 由例如具有紫外光吸收能力的透明材料制成。
      [0065] 圖8詳細地示出了圖2所示的有機發(fā)光顯示裝置。
      [0066] 參照圖8,顯示單元200可包括:形成在襯底100上的第一電極210、形成在第一電 極210之間的像素限定層(PDL)230、形成在第一電極210上的發(fā)光層220、以及形成在發(fā)光 層220上的第二電極。第一電極210和第二電極240可包括任何合適的材料。
      [0067] 在有機發(fā)光顯示裝置為正面發(fā)光類型的情況中,第一電極210可包括金(Au)、鉬 (Pt)、鎳(Ni)、鎢(W)、鉻(Cr)、鑰(Mo)、鐵(Fe)、鈷(Co)、銅(Cu)、鈀(Pd)、鈦(Ti)、及其化合 物中的至少一種。另外,第二電極240可包括氧化銦錫(ΙΤ0)和氧化銦鋅(ΙΖ0)中的至少一 種,氧化銦錫(ΙΤ0)和氧化銦鋅(ΙΖ0)為透明導電的氧化物。
      [0068] 在有機發(fā)光顯示裝置為背面發(fā)光類型的情況下,第一電極210可包括氧化銦錫 (ΙΤ0)和氧化銦鋅(ΙΖ0)中的至少一種,其中氧化銦錫(ΙΤ0)和氧化銦鋅(ΙΖ0)為具有高功 函數的透明導電的氧化物。另外,第二電極240可由具有低功函數的金屬制成,如堿金屬例 如鋰(Li )和/或銫(Cs),堿土金屬例如鎂(Mg)、鈣(Ca)、和/或鍶(Sr)、及其化合物。
      [0069] 發(fā)光層220可包括紅光發(fā)射層、綠光發(fā)射層、以及藍光發(fā)射層。發(fā)光層220可由低 分子有機材料或高分子有機材料制成。
      [0070] 像素限定層230可由具有絕緣性能的材料制成,以將第一電極210分隔成像素。詳 細地,像素限定層230設置在第一電極210的邊緣處,以通過像素分隔第一電極210并限定 像素區(qū)域。像素限定層230覆蓋第一電極210的邊緣。
      [0071] 圖9a示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的縫狀掩模。圖9b示出了根據本發(fā)明 示例性實施方式的四邊形掩模。圖9c示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的具有規(guī)則分布 的圓形掩模。圖9d示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的具有不規(guī)則分布的圓形掩模。圖 10a至圖10f示出了根據本發(fā)明示例性實施方式的有機發(fā)光顯示裝置的制造工藝中的各個 階段。
      [0072] 參照圖9a_圖10f,本發(fā)明的另一示例性實施方式提供了一種有機發(fā)光顯示裝置 制造方法。也就是說,該制造方法可包括在襯底100上形成顯示單元200,以及在顯示單元 200上形成封裝層300。
      [0073] 形成封裝層300可包括交替地形成有機膜320和無機膜310。當形成有機膜320 時,至少一個有機膜可在覆蓋后進行選擇性的光照射。
      [0074] 在執(zhí)行選擇性的光照射中,可使用半色調掩模500 (圖10d)。半色調掩模500可 控制光照射量,并且半色調掩模500可以是縫狀掩模501、四邊形掩模502、具有規(guī)則分布的 圓形掩模503、具有不規(guī)則分布的圓形掩模504等中的任何一個(圖9a-圖9d)。在圖9a-9d 和圖10d中,半色調掩模500中圓形、四邊形、以及縫狀的黑暗部分可傳輸更多的光,剩余的 白色部分可傳輸較少的光。僅例示了作為半色調掩模500的示例給出的四個掩模,必要時 本領域的技術人員可使用修改的半色調掩模。
      [0075] 半色調掩模500可設置在將被圖案化的有機材料330'之上,光可通過半色調掩模 500充分地照射至有機材料330'。同時,當執(zhí)行選擇性的光照射時,由兩個以上光源照射 光。因此,有機材料330'上的入射光強度可根據該兩個以上光源的相長干涉或相消干涉而 改變,從而可執(zhí)行選擇性光照射。也就是說,可在沒有掩模的情況下通過控制光的干涉形成 圖案化有機膜330。
      [0076] 利用光的干涉的光照射類型可以是全息光刻的一種。全息光刻是通過多束光干涉 形成圖案的技術。例如,在兩束光干涉的情況下,當沿兩個方向照射的光相疊時發(fā)生相長干 涉而使光強度增加的區(qū)域與由于相消干涉而使光強度為零的另一區(qū)域可周期性地產生。在 多光束干涉的情況下,多個光彼此相重,可實現環(huán)形或特定的形狀。
      [0077] 另一方面,選擇性光照射可執(zhí)行至少兩次,并且可通過在有機膜之上沿一個方向 設置縫狀掩模然后在有機膜之上沿與該方向相交的不同方向設置另一縫狀掩模來執(zhí)行選 擇性光照射。具體地,首先覆蓋有機膜320。在有機膜320之上沿一個方向設置縫狀掩模, 然后執(zhí)行選擇性光照射。無機膜310形成在由選擇性光照射形成的圖案化有機膜330上, 然后在無機膜310上覆蓋另一有機膜320。然后,在有機膜320之上沿與上述方向相交的 不同方向設置縫狀掩模以執(zhí)行選擇性光照射。例如,如圖7所示,可形成第三圖案化有機膜 333和第四圖案化有機膜334。另一方面,圖案化有機膜330可均勻地涂覆有相同材料。
      [0078] 參照圖10a-圖10f,下面描述了包括圖案化有機膜330的有機發(fā)光顯示裝置的制 造方法的示例性實施方式。首先在襯底1〇〇上形成顯示單元200,然后可在顯示單元200上 形成覆蓋層400 (圖10a)。
      [0079] 然后,可在覆蓋層400上形成第一無機膜311 (圖10b)。在第一無機膜311上涂 覆有機材料330'(圖10c),然后在有機材料330'之上設置半色調掩模500,從而可照射光 (圖10d)。然后,可在第一無機膜311上形成圖案化有機膜330。
      [0080] 圖案化有機膜330可包括由有機材料制成的基質330a以及由于選擇性光照射導 致的多個高折射率部分330b (圖10e)。可在圖案化有機膜330上形成第二無機膜312 (圖 10f)。
      [0081] 根據本發(fā)明示例性實施方式,通過在封裝層中設置圖案化有機膜,可提高外部光 提取效率并減小功耗。如上所述,僅例示了有機發(fā)光顯示裝置及其制造方法,并且本領域技 術人員應該理解,本發(fā)明的范圍可包括各種修改及其等同實施方式。
      [〇〇82] 根據以上描述,應該理解,為了說明的目的,本文中已經描述了本公開的各種實施 方式,并且可以在不背離本發(fā)明的范圍和精神的情況下,做出各種修改。因此,本文中公開 的各種實施方式并不旨在限定本發(fā)明,而本發(fā)明僅由所附權利要求書指示的真實的范圍和 精神所限定。
      【權利要求】
      1. 一種有機發(fā)光顯示裝置,包括: 襯底; 顯示單元,位于所述襯底上;以及 封裝層,位于所述顯示單元上,所述封裝層包括多個交替的無機層和有機層,所述有機 膜中的至少一個為圖案化有機膜,并且所述圖案化有機膜具有位于有機基質中的多個高折 射率部分。
      2. 根據權利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中所述有機基質包括具有1. 45至1. 5 的折射率的有機材料。
      3. 根據權利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中所述高折射率部分具有1. 5至1. 6 的折射率。
      4. 根據權利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中所述高折射率部分可具有圓柱、棱 鏡、凸透鏡、凹透鏡、或線的形狀。
      5. 根據權利要求1所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中所述封裝層包括至少兩個圖案化有 機膜。
      6. 根據權利要求5所述的有機發(fā)光顯示裝置,其中: 所述至少兩個圖案化有機膜由一個無機膜分隔,并且 所述至少兩個圖案化有機膜中的每一個中的所述高折射率部分呈線形,所述至少兩個 圖案化有機膜的上部圖案化有機層中的所述高折射率部分垂直于所述兩個圖案化有機膜 的下部圖案化有機膜中的所述高折射率部分。
      7. -種有機發(fā)光顯示裝置制造方法,包括: 在襯底上形成顯示單元;以及 通過形成多個交替的無機膜和有機膜在所述顯示單元上形成封裝層,并且所述有機膜 的至少一個在所述有機膜被覆蓋之后通過選擇性光照射形成。
      8. 根據權利要求7所述的有機發(fā)光顯示裝置制造方法,所述選擇性光照射包括通過半 色調掩模照射光。
      9. 根據權利要求7所述的有機發(fā)光顯示裝置制造方法,其中所述選擇性光照射包括從 至少兩個光源照射光,使得入射至所述有機膜上的光的強度由于來自所述至少兩個光源的 光的相長干涉和相消干涉而改變,以執(zhí)行所述選擇性光照射。
      10. 根據權利要求7所述的有機發(fā)光顯示裝置制造方法,其中至少通過第一掩模并通 過第二掩模執(zhí)行所述選擇性光照射,所述第一掩模在第一方向上呈縫狀,所述第二掩模在 與所述第一方向相交的第二方向上呈縫狀。
      【文檔編號】H01L27/32GK104103776SQ201310520115
      【公開日】2014年10月15日 申請日期:2013年10月29日 優(yōu)先權日:2013年4月15日
      【發(fā)明者】李炫植, 金奎錫 申請人:三星顯示有限公司
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