沉積裝置、有機(jī)發(fā)光顯示裝置及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了對(duì)于基本上相同的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的批量生產(chǎn)可以顯著降低維護(hù)和維修時(shí)間的沉積裝置和方法。沉積裝置包括：傳送單元，包括配置為在第一方向傳送基底可被可拆卸地附著在其上的移動(dòng)單元的第一傳送單元和被配置為在與第一方向相反的返回方向傳送各基底已經(jīng)從其分離的空移動(dòng)單元的第二傳送單元；裝載單元，被配置為將基底和各移動(dòng)單元進(jìn)行配合；沉積單元，包括一個(gè)或多個(gè)沉積組件，沉積組件和基底保持預(yù)定距離，并被配置為當(dāng)?shù)谝粋魉蛦卧話呙璺椒▊魉突捉?jīng)過(guò)一個(gè)或多個(gè)沉積組件時(shí)在基底上沉積材料；腔室；卸載單元，被配置為在基底上的沉積完成之后將基底從移動(dòng)單元分離；和可容納備份移動(dòng)單元的第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器。
【專利說(shuō)明】沉積裝置、有機(jī)發(fā)光顯示裝置及其制造方法
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)要求2013年5月16日遞交到韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的韓國(guó)專利申請(qǐng)10-2013-0056040的權(quán)益，該申請(qǐng)的公開(kāi)通過(guò)引用整體合并于此。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明的公開(kāi)涉及沉積裝置、制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置(OLEDD)的方法以及有機(jī)發(fā)光顯示裝置。更具體地，本公開(kāi)涉及被期望能顯著減少其維護(hù)時(shí)間的沉積裝置、制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置(OLEDD )的方法以及使用該沉積裝置制造的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0004]在各種顯示裝置中，有機(jī)發(fā)光顯示裝置(OLEDD )典型地以寬視角、優(yōu)異對(duì)比度和快速響應(yīng)時(shí)間為特點(diǎn)，因此作為下一代顯示裝置備受矚目。
[0005]有機(jī)發(fā)光顯示裝置通常具有中間層包括插入在彼此面對(duì)的第一電極和第二電極之間的發(fā)光層的結(jié)構(gòu)。這里，第一電極、第二電極和中間層可以通過(guò)使用各種方法，例如不同種類的沉積方法中的任意一種形成。在一種使用沉積方法的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法中，具有其圖案和所期望的中間層的圖案相同/相似的開(kāi)口的精細(xì)金屬掩模(FMM)被緊密地附著到待在其上形成中間層的基底上，用于形成中間層和/或其他層的材料穿過(guò)緊密接觸的掩膜沉積到基底上，從而形成具有預(yù)定圖案的中間層。
[0006]然而，使用FMM的這種沉積方法需要大型(大尺寸)FMM來(lái)在對(duì)應(yīng)的大型基底上制造對(duì)應(yīng)的大型有機(jī)發(fā)光顯示裝置?？商娲兀@種大型FMM可以被用來(lái)在使用大型“母”基底時(shí)制造多個(gè)更小的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。在大型FMM的情況下，由于重量在朝向基底的面朝上的工作表面下降時(shí)，F(xiàn)MM可能因其自身重量而扭曲(例如下垂)，然后隨著其接觸基底的面朝上的工作表面而進(jìn)一步扭曲，從而變得難以持續(xù)地形成具有精確的預(yù)設(shè)圖案的中間層。此外，為了在工藝開(kāi)始時(shí)將大型FMM對(duì)準(zhǔn)并緊密附著到對(duì)應(yīng)的大型基底，以及為了在沉積結(jié)束之后不破壞地將FMM和基底的面朝上的工作表面彼此分離，可能會(huì)浪費(fèi)大量時(shí)間。結(jié)果，總體制造時(shí)間增加，并且生產(chǎn)效率變差。
[0007]應(yīng)當(dāng)理解此【背景技術(shù)】部分意在提供為了理解這里所公開(kāi)的技術(shù)的有用背景，如此【背景技術(shù)】部分可能包括在這里公開(kāi)的主題的相應(yīng)發(fā)明日之前本領(lǐng)域技術(shù)人員并不知曉或理解的想法、概念或認(rèn)識(shí)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的公開(kāi)提供了對(duì)于基本上相同的有機(jī)發(fā)光設(shè)備的大批量生產(chǎn)可以顯著降低維護(hù)和維修時(shí)間的沉積裝置。
[0009]根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面，所提供的沉積裝置包括傳送單元、裝載單元、沉積單元、腔室、卸載單元和可以容納備份移動(dòng)單元的第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器。傳送單元包括配置為在傳送可拆卸地附著有各基底的非空移動(dòng)單元的向前行程第一傳送單元、以及被配置為在和第一方向相反的方向傳送各基底已經(jīng)從其分離的空的移動(dòng)單元的返回行程第二傳送單元，其中移動(dòng)單元由第一和第二傳送單元的組合以可再使用的方式循環(huán)傳送。裝載單元被配置為將基底固定到的移動(dòng)單元中的對(duì)應(yīng)的一個(gè)。沉積單元包括一個(gè)或多個(gè)沉積組件，沉積組件和基底保持預(yù)定距離，并被配置為當(dāng)?shù)谝粋魉蛦卧獋魉突捉?jīng)過(guò)沉積組件時(shí)在基底上沉積對(duì)應(yīng)的材料層。卸載單元被配置為在各自基底上的沉積完成之后將基底從它們各自的移動(dòng)單元分離。
[0010]第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器位于裝載單元上方、裝載單元下方或者在裝載單元旁邊。
[0011]第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器可以容納與基底分離并由第二傳送單元傳送的具有缺陷或者需要維護(hù)的移動(dòng)單元。第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器可以釋放備份移動(dòng)單元到裝載單元，代替具有缺陷或者需要維護(hù)的移動(dòng)單元。如果與基底分離并由第二傳送單元傳送的移動(dòng)單元出現(xiàn)問(wèn)題，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器可以容納該移動(dòng)單元并釋放備份移動(dòng)單元到裝載單元中。
[0012]沉積裝置進(jìn)一步包括能夠容納一個(gè)或多個(gè)空的移動(dòng)單元的第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器。
[0013]第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器位于卸載元上方、卸載單元下方或者在卸載單元旁邊。
[0014]當(dāng)與基底分離并由第二傳送單元傳送的移動(dòng)單元被容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中時(shí)，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器作出響應(yīng)釋放備份移動(dòng)單元到裝載單元中。如果與基底分離并由第二傳送單元傳送的移動(dòng)單元出現(xiàn)問(wèn)題，則第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器容納該移動(dòng)單元，并且第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器釋放備份移動(dòng)單元到裝載單元中。
[0015]沉積組件包括:沉積源，被配置為釋放沉積材料；沉積噴嘴單元，被布置在沉積源上方并朝向第一傳送單元，并包括沉積噴嘴；和圖案化縫隙片，被布置為面對(duì)沉積噴嘴單元，其中從沉積源釋放的沉積材料穿過(guò)圖案化縫隙片并被沉積到基底上。
[0016]根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面，提供了一種制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法，該方法包括:通過(guò)使用第一傳送單元將可拆卸地附著有各基底的移動(dòng)單元傳送到腔室中；在布置在腔室內(nèi)的沉積組件和基底彼此以預(yù)定距離分開(kāi)并且第一傳送單元相對(duì)于沉積組件傳送基底時(shí)，通過(guò)從沉積組件在基底上釋放沉積材料而形成層；通過(guò)使用第二傳送單元傳送與基底分離的移動(dòng)單元回去；在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中容納與基底分離并由第二傳送單元傳送的移動(dòng)單元；以及釋放第一動(dòng)單元儲(chǔ)料器中的備份移動(dòng)單元。
[0017]如果與基底分離并由第二傳送單元傳送的給定移動(dòng)單元出現(xiàn)問(wèn)題，則第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器容納移動(dòng)單元并釋放備份移動(dòng)單元到裝載單元中。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的公開(kāi)的一個(gè)方面，提供了一種制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法，該方法包括:通過(guò)使用第一傳送單元將固定有基底的移動(dòng)單元傳送到腔室中，該第一傳送單元被布置為穿過(guò)腔室；在布置在腔室內(nèi)的沉積組件和基底以預(yù)定距離彼此分開(kāi)并且第一傳送單元相對(duì)于沉積組件傳送基底時(shí)，從沉積組件在基底上釋放沉積材料而形成層；通過(guò)使用被布置為穿過(guò)腔室的第二傳送單元將與基底分離的移動(dòng)單元傳送回去；在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中容納與基底分離并由第二傳送單元傳送的移動(dòng)單元；和釋放第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中的備份移動(dòng)單元。
[0019]如果與基底分離并由第二傳送單元傳送的移動(dòng)單元出現(xiàn)問(wèn)題，則第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器容納該移動(dòng)單元。
[0020]在與基底分離的移動(dòng)單元被容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器之后釋放備份移動(dòng)單元。
[0021]在形成層時(shí)，該層隨著基底由第一傳送單元相對(duì)于沉積組件移動(dòng)而被形成，沉積組件包括:能夠釋放沉積材料的沉積源、被布置在沉積源上方并朝向第一傳送單元且包括沉積噴嘴的沉積噴嘴單元、以及被布置為面對(duì)沉積噴嘴單元的圖案化縫隙片，沉積組件和基底以預(yù)定距離彼此分開(kāi)。
[0022]根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面，提供了一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置，包括:基底、布置在基底上的多個(gè)薄膜晶體管(TFT)、電連接到TFT的多個(gè)像素電極、布置在像素電極上的沉積層、以及布置在沉積層上的對(duì)電極，其中沉積層中的至少一層通過(guò)使用所公開(kāi)的沉積裝置來(lái)形成。
[0023]簡(jiǎn)而言之，即使基底移動(dòng)單元中的一個(gè)出現(xiàn)問(wèn)題，因?yàn)榭盏膫浞菀苿?dòng)單元被保持在大規(guī)模生產(chǎn)系統(tǒng)中并被用于替換有問(wèn)題的移動(dòng)單元，所有多個(gè)正在加工的基底(或其它工件)可以持續(xù)移動(dòng)通過(guò)沉積單元。因此沒(méi)有必要為了用備份移動(dòng)單元替換有缺陷的移動(dòng)單元而對(duì)真空或低壓的腔室進(jìn)行復(fù)壓。本發(fā)明的公開(kāi)的其它方面將從下面的詳細(xì)描述而變得明顯。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]通過(guò)參考附圖詳細(xì)描述各示例性實(shí)施例，本發(fā)明的公開(kāi)的上述和其它特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更明顯，附圖中:
[0025]圖1是根據(jù)本公開(kāi)的一實(shí)施例的沉積裝置的示意性平面圖；
[0026]圖2是圖1的沉積裝置的沉積單元的示意性剖視圖；
[0027]圖3是圖1的沉積裝置的沉積單元的切開(kāi)部分的示意性透視剖視圖；
[0028]圖4是圖1的沉積裝置的沉積單元的一部分的示意性平面剖視圖；
[0029]圖5示出了第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器位于卸載室上方的位置處的情況；
[0030]圖6是根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)實(shí)施例的沉積裝置的沉積單元的側(cè)透視圖；和
[0031]圖7是使用圖1的沉積裝置制造的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的示意性剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0032]如這里所使用的，術(shù)語(yǔ)“和/或”包括所涉及的列出項(xiàng)目中的一個(gè)或多個(gè)的任意和全部組合。
[0033]下面將參考其中示出了各示例性實(shí)施例的附圖更完整地描述本發(fā)明的公開(kāi)。然而，本教導(dǎo)可以以不同的形式來(lái)實(shí)施，不應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為局限于這里所提出的實(shí)施例；相反，提供這些實(shí)施例是為了本公開(kāi)充分和完整，并且可以向本領(lǐng)域技術(shù)人員完全傳達(dá)本公開(kāi)的教導(dǎo)。附圖中，為了展示清楚，層和區(qū)域的尺寸可能被放大。
[0034]在下文中，X軸、y軸和z軸并不限定于直角坐標(biāo)系的三個(gè)軸，而可以被解釋為包括該定義的更廣泛的術(shù)語(yǔ)。例如，X軸、y軸和Z軸可能相互垂直交叉，也可能代表并不相互垂直交叉的三個(gè)不同方向。為了清楚起見(jiàn)，正Z軸將在這里被理解為指向天空，換句話說(shuō)，和重力方向相反。
[0035]還應(yīng)當(dāng)理解當(dāng)一層被稱為在另一層或基底“上”時(shí)，其可以直接位于另一層或基底上，也可以有中間層存在。
[0036]圖1是根據(jù)本公開(kāi)的第一實(shí)施例的沉積裝置的示意性平面圖(示出了 X軸和y軸)。圖2是在圖1的沉積裝置1000內(nèi)提供的沉積單元100的示意性剖視圖。
[0037]參考圖1和圖2，所示的沉積裝置1000包括一個(gè)或多個(gè)沉積流經(jīng)單元100 (又稱為沉積單元100)、對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)工件裝載單元200(示出在各沉積單元100的左側(cè))、對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)卸載單元300 (示出在各沉積單元100的右側(cè))、傳送單元400、第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610以及圖案化縫隙替換單元500。傳送單元400包括能夠在第一方向(例如正Y方向)傳送具有可拆卸地在其上附著對(duì)應(yīng)附著的基底2 (參考圖3)的移動(dòng)單元430的第一傳送單兀410 (例如輸送裝置)、以及能夠在和第一方向相反的返回方向(例如負(fù)Y方向)傳送對(duì)應(yīng)的基底2已經(jīng)從其拆卸的移動(dòng)單元430的第二傳送單元420。在一個(gè)實(shí)施例中，在給定的時(shí)間，沉積單元100中包含的移動(dòng)單元430的數(shù)量可能小于沉積單元100內(nèi)作為一個(gè)批次被同時(shí)加工的基底的數(shù)量，移動(dòng)單元430被循環(huán)使用，使得即使可用的移動(dòng)單元430的數(shù)量小于作為一個(gè)批次被同時(shí)加工的基底的數(shù)量，給定批次的所有基底也可以在基本相同的條件下被加工。
[0038]裝載單元200可以包括第一工件堆疊架212、引入室214、第一面朝上到面朝下方向反轉(zhuǎn)室218 (又稱為第一方向反轉(zhuǎn)室218或第一反轉(zhuǎn)室218)和緩沖室219。
[0039]多個(gè)輸入基底2 (處于沉積之前的狀態(tài))以工作表面朝上的狀態(tài)被垂直堆疊在第一工件堆疊架212中。引入機(jī)器人從第一工件堆疊架212拾取基底2。第二傳送單元420傳送所拾取的基底2，并將基底2每個(gè)面朝上地安裝到預(yù)先位于引入室214中的各基底移動(dòng)單元430 (又名夾緊傳送板)。例如，基底2的非工作底表面可以通過(guò)移動(dòng)單元的頂側(cè)卡具(例如靜電卡具)被固定到它們各自的移動(dòng)單元430的夾緊(例如靜電吸盤型)頂表面，固定有各基底2的移動(dòng)單元430然后被移動(dòng)到第一方向反轉(zhuǎn)室218。當(dāng)然，如果需要，在基片2被固定(夾緊)到移動(dòng)單元430之前，基底2可以被對(duì)準(zhǔn)到它們各自的移動(dòng)單元430。
[0040]在位于與引入室214相鄰的第一方向反轉(zhuǎn)室218中，第一反轉(zhuǎn)機(jī)器人將移動(dòng)單元430的頂表面朝上的方向反轉(zhuǎn)。換句話說(shuō)，引入機(jī)器人將基底2安裝到移動(dòng)單元430的頂表面上，在與基底2的待被處理的表面相反的基底2的非工作表面面對(duì)移動(dòng)單元430的同時(shí)，移動(dòng)單兀430被輸送到第一方向反轉(zhuǎn)室218。由于第一反轉(zhuǎn)機(jī)器人將第一反轉(zhuǎn)室218的頂面朝上的方向反轉(zhuǎn)，基底2的待被處理的表面現(xiàn)在面朝下。使用這種顛倒的狀態(tài)，第一傳送單元410傳送(例如以輸送帶方式輸送)各基底2現(xiàn)在被附著在移動(dòng)單元430的面朝下的表面上的移動(dòng)單元430，使得基底2的待被處理的表面也面朝下(負(fù)Z方向)。
[0041]卸載單元300的結(jié)構(gòu)和上述裝載單元200的結(jié)構(gòu)相反。換句話說(shuō),經(jīng)過(guò)沉積單元100并已在沉積單元100中被加工同時(shí)其工作表面面朝下的基底2和移動(dòng)單元430此時(shí)在第二反轉(zhuǎn)室328中由第二反轉(zhuǎn)機(jī)器人使其方向再次反轉(zhuǎn)，此后它們被傳送到卸料室324。在卸料室324中，基底2被從它們各自的移動(dòng)單元430分離(例如卡具松開(kāi))，并被重新堆疊在第二垂直堆疊架322中。然后，第二傳送單元420將與其剛剛移動(dòng)的基底2分離的空的移動(dòng)單元430沿Y方向傳送返回到裝載單元200。在圖2中，層疊的一組加工后的基底以工作表面面朝上的狀態(tài)被顯示為收集在沉積單元100的內(nèi)部的最右側(cè)。應(yīng)當(dāng)指出的是，沉積單元100和其所包含的傳送單元400在Y軸上的長(zhǎng)度足夠長(zhǎng)，這樣即使在基底2相對(duì)長(zhǎng)(在Y方向上例如40英寸或更長(zhǎng))的情況下，也能容納多個(gè)基底2及其支撐移動(dòng)單元430。
[0042]本發(fā)明的教導(dǎo)不限于上述其中基底以工作表面面朝上的狀態(tài)被引入到腔室中的結(jié)構(gòu)。替代地，基底2可以被初始固定到移動(dòng)單元430的底表面，并可以以它們的工作表面已經(jīng)面朝下的狀態(tài)被傳送，因此，不需要反轉(zhuǎn)工作表面的方向。在這種情況下，第一反轉(zhuǎn)室218中的第一反轉(zhuǎn)機(jī)器人和第二反轉(zhuǎn)室328中的第二反轉(zhuǎn)機(jī)器人可以不是必須的。此外，第一反轉(zhuǎn)室218中的第一反轉(zhuǎn)機(jī)器人和第二反轉(zhuǎn)室328中的第二反轉(zhuǎn)機(jī)器人可以直接在第一反轉(zhuǎn)室218內(nèi)和在第二反轉(zhuǎn)室328內(nèi)反轉(zhuǎn)固定有基底2的移動(dòng)單元430，而不是分別反轉(zhuǎn)整個(gè)第一反轉(zhuǎn)室218和整個(gè)第二反轉(zhuǎn)室328。在這種情況下，當(dāng)固定有基底2的移動(dòng)單元430位于反轉(zhuǎn)室中的傳送單元上時(shí)，可以將反轉(zhuǎn)室中的傳送單元420旋轉(zhuǎn)180度。在這種情況下，反轉(zhuǎn)室中的傳送單元起到了第一反轉(zhuǎn)機(jī)器人或第二反轉(zhuǎn)機(jī)器人的作用。這里，方向反轉(zhuǎn)室內(nèi)的傳送單元420可以是第一傳送單元410的一部分或第二傳送單元420的一部分。應(yīng)當(dāng)理解的是，這里提到的各種容納室是用來(lái)分段輸送它們的工件進(jìn)入或離開(kāi)真空或低壓加工室的前級(jí)和后級(jí)無(wú)塵室類型的腔室。
[0043]如圖1和圖2所示，沉積單元100包括主加工室101，多個(gè)加工用沉積組件100_1、
100-2.....100-n可以以它們各自的工作表面面朝下的方向被布置在腔室101中。雖然圖1示出i^一個(gè)沉積組件，也就是第一至第i^一沉積組件loo-ι至100-11被布置在腔室ιο?中，沉積組件的數(shù)量可以根據(jù)沉積材料的類型和/或數(shù)量和/或應(yīng)用于加工用工件上的沉積條件而改變。在其中執(zhí)行一個(gè)或多個(gè)沉積時(shí)，腔室101可以被保持在高真空或接近真空的狀態(tài)。
[0044]第一傳送單元410將可拆卸地固定有對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)基底2的每個(gè)移動(dòng)單元430傳送到至少沉積單元100的內(nèi)部，還可以從裝載單元200傳送移動(dòng)單元430按順序進(jìn)入沉積單元100并離開(kāi)到卸載單元300，相反，第二傳送單元420從卸載單元300將各自的基底2已經(jīng)從其分離的空的移動(dòng)單元430傳送到裝載單元200。因此，移動(dòng)單元430可以被第一傳送單兀410和第二傳送單兀420的組合來(lái)回(往復(fù)，循環(huán))傳送。
[0045]第一傳送單元410可被布置為貫穿沉積單元100的腔室101。第二傳送單元420可被布置為傳送不再附著有基底2的移動(dòng)單元430。
[0046]這里，第一傳送單元410和第二傳送單元420可以被布置為一個(gè)在另一個(gè)的上方，而不是并排。因此，在第一傳送單元410使移動(dòng)單元430前進(jìn)時(shí)，可以在面朝下的基底2上進(jìn)行沉積，并且在移動(dòng)單元430在卸載單元300處與其各自的一個(gè)或多個(gè)基底2分離后，空的移動(dòng)單元430由位于第一傳送單元410的豎直下方的第二傳送單元420傳送回到裝載單元200。因此，可以更有效地利用制造工廠的占地空間?？商娲?，第二傳送單元420可以位于第一傳送單元410的上方。
[0047]同時(shí)，如圖1所示，沉積單元100可包括布置在各第一至第^^一沉積組件100-1至100-11的第一端的沉積源替換單元190。雖然沒(méi)有詳細(xì)示出，沉積源替換單元190可以被形成為盒式錄音帶型組件，并且可以從各第一至第i^一沉積組件100-1至100-11可替換地抽出到外部。因此，第一至第i^一沉積組件100-1至100-11的沉積源(參考圖3的110)可以在各自的沉積材料用完后被各易地更換。
[0048]此外，圖1示出兩個(gè)被布置為隔開(kāi)但彼此并排相鄰的基本相同的沉積裝置1000、1001，它們每一個(gè)均包括各自的裝載單元200、沉積單元100和卸載單元300。在這種情況下，圖案化裂縫替換單元500可以被布置在兩個(gè)隔開(kāi)的沉積裝置1000、1001之間。換句話說(shuō)，通過(guò)布置兩個(gè)沉積設(shè)備共享圖案化裂縫替換單元500，和兩個(gè)沉積設(shè)備的每一個(gè)均具有自己的圖案化裂縫替換單元500的情況相比，可以更有效地利用占地空間。這里，每個(gè)沉積裝置可以被解釋為一個(gè)沉積設(shè)備。
[0049]第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610容納備份移動(dòng)單元430’。如果以及當(dāng)由第一傳送單元410傳送的第一移動(dòng)單元430和基底的配合有問(wèn)題，或者移動(dòng)單元430在釋放了其基底之后由第二傳送單元420傳送有問(wèn)題時(shí)，備份移動(dòng)單元430’可穿梭到位，并代替有缺陷的移動(dòng)單元430被使用。第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610可以位于裝載單元200的上方、裝載單元200的下方和裝載單元200的旁邊的至少一個(gè)位置。例如，如圖1所示，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610可以位于引入室214旁邊，這樣導(dǎo)入室214中的移動(dòng)單元430被容納在第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中的備份移動(dòng)單元430’被釋放到引入室214。當(dāng)然，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610可以如圖2所示位于裝載單元200的上方。
[0050]當(dāng)與其基底2分離并由第二傳送單元420傳送回的移動(dòng)單元430有問(wèn)題時(shí)，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610可容納移動(dòng)單元430，并釋放備份移動(dòng)單元430’代替由儲(chǔ)料器610返回到裝載單元200的第一移動(dòng)單元。當(dāng)然，即使與其基底2分離并由第二傳送單元420傳送回的移動(dòng)單元430沒(méi)有問(wèn)題，如果通過(guò)使用該移動(dòng)單元430在基底2上進(jìn)行了預(yù)設(shè)次數(shù)的沉積，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610可以在移動(dòng)單元430出現(xiàn)任何問(wèn)題之前主動(dòng)地容納移動(dòng)單元430，并可以釋放備份移動(dòng)單元430’代替由儲(chǔ)料器610發(fā)送返回行程移動(dòng)單元到裝載單元200的第一移動(dòng)單元。
[0051]圖3是圖1的沉積裝置的沉積單元100的一部分的示意性透視剖視圖。圖4是圖1的沉積裝置的沉積單元100的一部分的示意性剖視圖。參考圖3和圖4，沉積單元100包括可降壓室101和一個(gè)或多個(gè)沉積源插入組件100-1。
[0052]腔室101被形成為具有中空的盒狀，一個(gè)或多個(gè)沉積組件100-1被可移除地容納在其中并處于低壓(減壓或真空)條件下。當(dāng)然，如圖3和圖4所示，傳送單元400也可以被可移除地容納在腔室101中，或可以被固定在腔室101內(nèi)和/或延伸出腔室101外。
[0053]在腔室101中，可以容納下殼體103 (也稱為返回行程殼體103)和上殼體104 (也稱為向前行程殼體104)。詳細(xì)地說(shuō)，下殼體103可以被支撐在一組可選地固定到設(shè)施地板或者地面的裝置支腳102上。上殼體104可以被支撐在下殼體103上方。這里，下殼體103和腔室101之間的入口連接可以被可開(kāi)啟地密封，這樣即使隨著空的移動(dòng)單元430被朝向前端傳送，腔室101的內(nèi)部可以為了減壓和清潔加工的目的和外界完全隔離。如上所述，由于下殼體103和上殼體104被形成在固定到地面(具有可選的振動(dòng)抑制裝置)的支腳102上，即使腔室101由于各降壓和復(fù)壓反復(fù)收縮和擴(kuò)張，腔室101內(nèi)的下殼體103和上殼體104可以相對(duì)于彼此保持固定位置，因此，下殼體103和上殼體104可以起到沉積單元100內(nèi)的參考系的作用。
[0054]沉積組件100-1和傳送單元400的第一傳送單元410可以形成在上殼體104 (也稱為向前行程殼體104)中，而傳送單元400的第二傳送單元420可以形成在下殼體103中。隨著移動(dòng)單元430分別由第一傳送單元410和第二傳送單元420來(lái)回移動(dòng)，可以持續(xù)進(jìn)行沉積。每個(gè)移動(dòng)單元430可包括承載架431和與其結(jié)合的靜電吸盤432。
[0055]承載架431包括主體單元431a、線性電機(jī)系統(tǒng)(LMS)磁鐵431b、非接觸式電源(CPS)模塊431c、電源單元431d和引導(dǎo)槽431e (與傳送軌412d配合)。同時(shí)，如果需要的話，承載架431可進(jìn)一步包括凸輪從動(dòng)件。
[0056]主體單元431a形成承載架431的基本部分，并可以由諸如鐵的鐵磁材料制成。通過(guò)使用承載架431的主體單元431a和磁懸浮軸承(未示出)之間的磁排斥，承載架431可以由第一傳送單元410的引導(dǎo)單元412的側(cè)壁支撐，并且對(duì)準(zhǔn)為與引導(dǎo)單元412的側(cè)壁分離預(yù)定距離。引導(dǎo)槽431e可以形成在主體單元431a的兩個(gè)相反的表面上。此外，引導(dǎo)單元412的引導(dǎo)突起412d (軌)或第二傳送單元420的輥引導(dǎo)件422可以容納在引導(dǎo)槽431e中。
[0057]此外，形成線性電機(jī)的磁軌431b可以沿著主體單元431a移動(dòng)的方向(y軸方向)的中心線形成。主體單元431a的磁軌431b和第一傳送單元410的線圈411可相互組合而構(gòu)成線性電機(jī)，承載體431，也就是移動(dòng)單元430，可通過(guò)線性電機(jī)在方向A上移動(dòng)。因此，即使移動(dòng)單元430不包括內(nèi)部供電單元，可以通過(guò)使用施加于第一傳送單元410的線性電機(jī)線圈411的電流來(lái)傳送移動(dòng)單元430。為此，在腔室101中可以以預(yù)定間隔(沿y軸方向)布置多個(gè)線圈411。由于線圈411被布置在大氣壓力盒中，線圈411可以被布置在大氣中并由大氣冷卻。
[0058]同時(shí)，主體單元431a可包括布置在磁軌431b的相反兩側(cè)的CPS模塊431c和電源431d。電源單元431d包括用于對(duì)靜電吸盤432提供電力以?shī)A緊基底2并維持夾緊狀態(tài)的可再充電電池，而CPS43Ic是用于通過(guò)使用外部電源給電源單元43Id的可充電電池?zé)o線充電的無(wú)線聯(lián)接的充電模塊。無(wú)線充電架423被包括在第二傳送單元420中，并被連接到變流器(未示出)，當(dāng)承載架431由第二傳送單元420傳送在其返回行程時(shí)，磁場(chǎng)形成在充電架423和CPS模塊431c之間并向CPS模塊431c提供電力，從而對(duì)電源單元431d充電。
[0059]靜電吸盤432包括陶瓷主體，在該陶瓷主體埋入有施加有高壓電的電極。當(dāng)承載架431的主體單元431a中的電源單元431d向電極施加高電壓上，基底2可以被附著到靜電吸盤432的主體的表面。
[0060]第一傳送單兀410可以在第一方向(+Y方向)傳送具有上述結(jié)構(gòu)并在上附著(夾緊)有基底2的移動(dòng)單元430。第一傳送單元410包括如上所述的線圈411和引導(dǎo)單元412。第一傳送單元410可以進(jìn)一步包括磁懸浮軸承和間隙傳感器。
[0061]線圈411和引導(dǎo)單元412可以被布置在上殼體104的內(nèi)表面上。例如，線圈411可以被布置在上殼體104的上部的內(nèi)表面上，而引導(dǎo)單元412可以被布置在上殼體104的兩個(gè)相對(duì)的側(cè)壁內(nèi)表面上。
[0062]如上所述,線圈411可以和主體單元431a的LMS431b —起構(gòu)成線性電機(jī),并使移動(dòng)單元430移動(dòng)。引導(dǎo)單元412可引導(dǎo)待在第一方向(正Y軸方向)傳送的移動(dòng)單元430。引導(dǎo)單元412可以被布置為貫穿沉積單元100。
[0063]特別地，引導(dǎo)單元412具有用于容納移動(dòng)單元430的承載架431的兩側(cè)的空間，以引導(dǎo)承載架431沿圖3所示的箭頭A的方向移動(dòng)。在這方面，引導(dǎo)單元412可包括設(shè)置在承載架431下方的第一容納部412a、設(shè)置在承載架431上方的第二容納部412b、以及連接第一容納部412a和第二容納部412b的連接部412c。在第一容納部412a、第二容納部412b和連接部412c的每一個(gè)中可形成各自的引導(dǎo)槽，在引導(dǎo)槽中可形成引導(dǎo)突起412d。
[0064]磁懸浮軸承(未示出)各自設(shè)置在引導(dǎo)單元412的連接部412c中，以分別對(duì)應(yīng)于承載架431的兩側(cè)。磁懸浮軸承導(dǎo)致承載體431和引導(dǎo)單元412之間存在間隔距離，這樣承載體431可以以與引導(dǎo)單元412不接觸(因此不會(huì)形成碎片)的方式沿引導(dǎo)單元412移動(dòng)。每個(gè)上磁懸浮軸承可以被布置在第二容納部412b中，從而位于承載架431上方。在這種情況下，磁懸浮軸承可以使承載體431沿引導(dǎo)單元412移動(dòng)，而不接觸第一和第二容納部412a和412b，并和它們之間的距離保持恒定。這里，為了檢查承載架431和引導(dǎo)單元412之間的距離，引導(dǎo)單元412可包括間隙傳感器(未示出)，間隙傳感器設(shè)置在對(duì)應(yīng)于承載體431的下部的容納部412a和412b和/或連接部412c中。磁懸浮軸承的磁力可以基于間隙傳感器測(cè)量的值實(shí)時(shí)改變，以實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)承載體431和引導(dǎo)單元412之間的距離并最小化定位誤差。換句話說(shuō)，使用磁懸浮軸承和間隙傳感器，承載體431的精確傳送可以被反饋控制。
[0065]第二傳送單元420將在卸載單元300中已經(jīng)與基底2分離的移動(dòng)單元430返回到裝載單元200。在這方面，第二傳送單元420可以包括其自己的各線圈421、輥引導(dǎo)件422和充電架423。例如，線圈421和充電架423可被設(shè)置在下殼體103的頂部?jī)?nèi)表面上，輥引導(dǎo)件422可以被設(shè)置在下殼體103的兩個(gè)內(nèi)側(cè)上。雖然圖中未不出，線圈421可以和第一傳送單元410的線圈411 一樣被設(shè)置在常壓ATM盒中。
[0066]類似于線圈411，線圈421可以和承載架431的主體部分431a的LMS磁鐵431b相互組合而構(gòu)成線性電機(jī)。承載體431可以由線性電機(jī)沿和向前行程或第一方向(+Y方向)相反的回程方向(-Y方向)移動(dòng)。
[0067]棍引導(dǎo)件422引導(dǎo)承載體431在與第一方向相反的方向移動(dòng)。在這方面,棍引導(dǎo)件422可被形成為貫穿沉積單元100。特別地，輥引導(dǎo)件422可以支撐分別形成在移動(dòng)單元430的承載體431的兩側(cè)上的凸輪隨動(dòng)件(未示出)，以引導(dǎo)承載體431沿與第一方向(+Y方向)相反的方向(-Y方向)移動(dòng)。
[0068]第二傳送單元420被用在使在基底2上沉積有機(jī)材料的工藝完成后與基底2分離的空的承載體431返回的工序中。因此，和第一傳送單元410的情況相比，空的承載體431的位置精度不是必須的。因此，磁懸浮被應(yīng)用到需要高的位置精度的第一傳送單元410，由此得到位置精度，而僅僅常規(guī)的輥方法被應(yīng)用到需要相對(duì)低的位置精度的第二傳送單元420，從而降低了制造成本，并簡(jiǎn)化了有機(jī)層沉積裝置的結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，如果需要的話，也可以和第一傳送單兀410 —樣,在第二傳送單兀420中使用磁懸浮。
[0069]在沉積中，各有機(jī)層沉積組件100-1保持從基底2隔開(kāi)預(yù)定距離。在第一傳送單元410將向前傳送的基底2及其移動(dòng)單元430帶到各沉積組件100-1上方以適當(dāng)距離分開(kāi)并對(duì)準(zhǔn)的位置后，每個(gè)沉積組件100-1在基底2的面朝下的工作表面上沉積其各自的沉積材料。下面將更詳細(xì)地描述有機(jī)層沉積組件100-1的構(gòu)成部分。
[0070]第一有機(jī)層沉積組件100-1包括相應(yīng)的沉積材料源110、沉積源噴嘴單元120、圖案化縫隙片130、第一對(duì)準(zhǔn)臺(tái)150、第二對(duì)準(zhǔn)臺(tái)160、對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證相機(jī)170和對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)傳感器180。在這方面，圖3和圖4中示出的所有元件可以被設(shè)置在保持在適當(dāng)真空狀態(tài)下的腔室101中。該結(jié)構(gòu)被用于實(shí)現(xiàn)對(duì)應(yīng)的沉積材料的沉積的均勻性和從一個(gè)基底2到下一個(gè)基底2的大量生產(chǎn)的基礎(chǔ)上的沉積的一致性。
[0071]沉積源110可以釋放各自的預(yù)定沉積材料。沉積源110被布置在底部，隨著沉積材料115被升華/蒸發(fā)(例如由于其受控加熱)，沉積源110可以在朝著基底2的面朝下的表面的方向釋放氣化/蒸發(fā)的沉積材料115 (例如在+Z方向釋放)。具體地說(shuō)，沉積源110可以包括填充有可揮發(fā)的沉積材料115的坩堝111以及對(duì)坩堝111加熱以使沉積材料115蒸發(fā)的加熱器112。
[0072]其中形成有沉積噴嘴121的沉積噴嘴單元120被形成為布置在沉積源110的上方，并用來(lái)朝第一傳送單元410(+Z方向)，也就是朝基底2，釋放。在圖3中，沉積噴嘴單元120包括多個(gè)沉積噴嘴121。
[0073]圖案化縫隙片130可以被布置為與沉積噴嘴單元120間隔開(kāi)，并面對(duì)沉積噴嘴單元120。如果要在基底2上形成的層是圖案化的層，則圖案化縫隙片130可以具有其中沿一個(gè)方向(例如在X軸方向上延伸)形成有一個(gè)或多個(gè)圖案化縫隙的結(jié)構(gòu)。圖案化縫隙片130位于沉積源110和基底2之間。
[0074]從沉積源110氣化的沉積材料115可以穿過(guò)沉積噴嘴單元120和圖案化縫隙片130并可以被沉積在基底2上。當(dāng)然，為了在基底2上形成均勻包覆沉積層，圖案化縫隙片130可以具有基本上越過(guò)所有的X軸方向的一個(gè)開(kāi)口，而不是多個(gè)圖案化縫隙，基底2的面朝下的工作表面在該X方向延伸的縫隙上方沿Y方向平穩(wěn)行進(jìn)，從而沉積材料被均勻地沉積在基底2的面朝下的大致整個(gè)工作表面上。
[0075]圖案化縫隙片130可以通過(guò)使用常規(guī)的精細(xì)金屬掩模(FMM)來(lái)制造，更具體地說(shuō)，經(jīng)由用于制造條紋型掩模的蝕刻來(lái)制造。圖案化縫隙片130可以被布置為與沉積源110(以及與之組合的沉積噴嘴單元120)間隔預(yù)定距離。
[0076]特別地，為了以所需圖案在基底2上沉積已經(jīng)從沉積源110釋放并穿過(guò)沉積源噴嘴單元120和圖案化縫隙片130的沉積材料115，需要將腔室101維持于與FMM的沉積方法中使用的相同的高真空狀態(tài)。此外，可以進(jìn)行冷卻，從而圖案化縫隙片130的溫度保持足夠低于沉積源110的溫度(約100°C或更少)，這樣不會(huì)由于溫度過(guò)高出現(xiàn)圖案化縫隙片130的熱膨脹扭曲，從而當(dāng)圖案化縫隙片130的溫度保持足夠低時(shí)沉積的變化可被最小化。換句話說(shuō)，如果圖案化縫隙片130的溫度升高，圖案化縫隙片130中的圖案化縫隙的大小或位置可能會(huì)改變，因此，沉積材料115可能會(huì)以與指定設(shè)計(jì)和預(yù)先設(shè)定的圖案不同的圖案被沉積到基底2上。
[0077]要在其上沉積沉積材料115的基底2被布置在腔室101中?；?可以是用于平板顯示設(shè)備的基底。例如，用于制造多個(gè)平板顯示器的大型基底，如母版玻璃，可以被用作基底2。
[0078]如上所述，在使用FMM的常規(guī)沉積方法中，F(xiàn)MM的尺寸需要和基底的尺寸一樣。因此，隨著基底的尺寸增加，F(xiàn)MM也需要大尺寸。由于這些問(wèn)題，難以制造FMM并通過(guò)FMM的伸長(zhǎng)以精確的圖案形成中間層。
[0079]然而，在根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例的有機(jī)層沉積組件100-1中，在基底2相對(duì)于有機(jī)層沉積組件100-1移動(dòng)(行進(jìn))的同時(shí)持續(xù)地進(jìn)行沉積。換句話說(shuō)，在面對(duì)有機(jī)層沉積組件100-1的基底2在Y軸方向上移動(dòng)的同時(shí)，持續(xù)地進(jìn)行沉積。也就是，在基底2在圖3所示的箭頭A的方向上移動(dòng)的同時(shí)，以掃描方式進(jìn)行沉積。盡管圖3中示出在進(jìn)行沉積時(shí)基底2在腔室101中在+Y軸方向持續(xù)移動(dòng)，本發(fā)明的公開(kāi)并不局限于此。例如，可替代的或另外地，可以在基底2在-Y方向上移動(dòng)時(shí)和/或有機(jī)層沉積組件100-1也可選地在Y軸方向上移動(dòng)時(shí)(在后一情況下，基底2可以保持在固定的位置)進(jìn)行沉積。
[0080]詳細(xì)地說(shuō)，隨著沉積組件100-1在基底2上沉積材料，并且在第一傳送單元410傳送附于掃描經(jīng)過(guò)的移動(dòng)單元430 (例如在+Y方向上掃描)的基底2時(shí)，沉積組件100-1所保持的與基底2間隔的距離可以根據(jù)不同的應(yīng)用而變化。也就是，在被布置為面對(duì)沉積組件100-1的基底2在圖3所示的箭頭A的方向上移動(dòng)時(shí)，以掃描方式進(jìn)行沉積。盡管圖3中示出在進(jìn)行沉積時(shí)基底2在腔室101中沿+Y方向移動(dòng)，本發(fā)明的公開(kāi)并不局限于此。例如，可以在有機(jī)層沉積組件100-1沿-Y方向移動(dòng)并且基底2被保持在固定位置時(shí)進(jìn)行沉積。
[0081]因此，根據(jù)本公開(kāi)，圖案化縫隙片130可以遠(yuǎn)小于(在Y方向上)常規(guī)的沉積方法中使用的FMM。換句話說(shuō)，在有機(jī)層沉積組件100-1中，在基底2在Y軸方向上移動(dòng)時(shí)持續(xù)地，即以掃描的方式，進(jìn)行沉積。因此，即使圖案化縫隙片130在Y軸方向上的長(zhǎng)度遠(yuǎn)小于基底2在Y軸方向的長(zhǎng)度，也可以在整個(gè)基底2上充分地進(jìn)行沉積。
[0082]由于圖案化縫隙片130可以被形成為遠(yuǎn)小于常規(guī)沉積方法中使用的FMM，更易于制造更窄的圖案化縫隙片130。也就是，相比常規(guī)沉積方法中使用的FMM，在包括蝕刻、之后的精確拉伸焊接、傳送和清洗工藝的所有制造工藝中，小型圖案化縫隙片130是更有利的。此外，這對(duì)于制造相對(duì)大型的顯示設(shè)備(例如對(duì)于大屏幕電視監(jiān)視器)是更有利的。
[0083]同時(shí)，在第一傳送單元410在+Y方向上傳送固定到移動(dòng)單元430的基底2時(shí)，沉積組件100-1從基底2隔開(kāi)預(yù)定距離，并在基底2上沉積材料。換句話說(shuō)，圖案化縫隙片130被布置為從基底2隔開(kāi)預(yù)定距離。在使用FMM的常規(guī)沉積裝置中，由于FMM直接接觸基底而可能出現(xiàn)缺陷。然而，根據(jù)本實(shí)施例的沉積裝置可以有效地防止這樣的問(wèn)題。此外，不需要使基底和掩模彼此接觸的一段時(shí)間，可以顯著地提高制造速度。
[0084]上殼體104可以包括從沉積源110和沉積噴嘴單元120的兩側(cè)伸出的容納部分104-1，第一對(duì)準(zhǔn)臺(tái)150和第二對(duì)準(zhǔn)臺(tái)160可以被布置在容納部分104-1上，圖案化縫隙片130可以被布置在第二對(duì)準(zhǔn)臺(tái)160上。
[0085]第一對(duì)準(zhǔn)臺(tái)150可在X軸和/或Y軸方向?qū)?zhǔn)圖案化縫隙片130。也就是，第一對(duì)準(zhǔn)臺(tái)150可以包括多個(gè)致動(dòng)器(例如壓電)，這樣圖案化縫隙片130可以相對(duì)于上殼體104在X軸和/或Y軸方向上移動(dòng)。第二移動(dòng)臺(tái)160可以被形成為在Z軸方向?qū)?zhǔn)圖案化縫隙片130。也就是，第二對(duì)準(zhǔn)臺(tái)160可以包括多個(gè)致動(dòng)器(例如壓電)，并可以相對(duì)于第一對(duì)準(zhǔn)臺(tái)150和其支撐上殼體104在Z軸方向上移動(dòng)圖案化縫隙片130。
[0086]如上所述，圖案化縫隙片130通過(guò)使用第一對(duì)準(zhǔn)臺(tái)150和第二對(duì)準(zhǔn)臺(tái)160相對(duì)于基底2移動(dòng)到所需的對(duì)準(zhǔn)，特別是自動(dòng)反復(fù)實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn)，從而即使條件微小改變也能精確設(shè)置并保持基底2和圖案化縫隙片130之間的間距。
[0087]此外，上殼體104、第一對(duì)準(zhǔn)臺(tái)150的側(cè)壁部分和第二對(duì)準(zhǔn)臺(tái)160可引導(dǎo)氣化的沉積材料115朝向最低的壓力區(qū)的流動(dòng)路徑，使得通過(guò)沉積源噴嘴121釋放的沉積材料115不會(huì)分散到期望的流動(dòng)路徑之外。也就是，沉積材料115的流動(dòng)路徑被上殼體104的圍壁的形狀、第一對(duì)準(zhǔn)臺(tái)150的形狀以及第二對(duì)準(zhǔn)臺(tái)160的形狀密封或約束，因此，沉積材料115在X、Y和/或Z軸方向的移動(dòng)從而可被引導(dǎo)。
[0088]同時(shí)，沉積組件100-1可以進(jìn)一步包括上述的用于協(xié)助對(duì)準(zhǔn)過(guò)程的相機(jī)170和傳感器180。在一個(gè)實(shí)施例中，傳感器180包括共焦傳感器。相機(jī)170可實(shí)時(shí)檢查形成在圖案化縫隙片130上的第一標(biāo)記(未示出)和形成在基底2上的第二標(biāo)記(未示出)，并可以產(chǎn)生用于圖案化縫隙片130和基底2相對(duì)于預(yù)定的XY平面彼此精確對(duì)準(zhǔn)的數(shù)據(jù)。傳感器180可產(chǎn)生關(guān)于圖案化縫隙片130和基底2之間的距離的數(shù)據(jù)，從而保持圖案化縫隙片130和基底2彼此以適當(dāng)?shù)木嚯x分開(kāi)。
[0089]如上所述，由于使用相機(jī)170和傳感器180實(shí)時(shí)反復(fù)測(cè)量基底2和圖案化縫隙片130之間的距離，基底2可以保持為實(shí)時(shí)與圖案化縫隙片130對(duì)齊，從而可以顯著提高對(duì)應(yīng)的沉積圖案的位置精度。
[0090]同時(shí)，屏蔽構(gòu)件140可被提供在基底2的外周周圍，用于防止氣化的有機(jī)材料被不希望地沉積在基底2的非層形成區(qū)域上。該屏蔽構(gòu)件140可以進(jìn)一步被布置在圖案化縫隙片130和沉積源110之間。雖然沒(méi)有詳細(xì)示出，屏蔽構(gòu)件140可包括彼此相鄰的兩個(gè)板。由于基底2的非層形成區(qū)域由屏蔽構(gòu)件140覆蓋，可以在沒(méi)有單獨(dú)結(jié)構(gòu)的情況下容易地防止有機(jī)材料沉積在基底2的非層形成區(qū)域上。
[0091]同時(shí)，如上所述，移動(dòng)單元430包括承載體431、靜電吸盤432、主體單元431a、LMS431b、CPS模塊431c、電源單元431d和/或凸輪從動(dòng)件。如果任何組件出現(xiàn)問(wèn)題并且期望解決該問(wèn)題，則根據(jù)本公開(kāi)，具有缺陷的整個(gè)移動(dòng)單元430由已知是良好的替代移動(dòng)單元430’替換。為了替換移動(dòng)單元430，必須在將有問(wèn)題的移動(dòng)單元430釋放出腔室101之前，將在沉積過(guò)程中維持為真空狀態(tài)或接近真空的狀態(tài)下的腔室101的內(nèi)部復(fù)壓到大氣壓力，然后在可選地替換到位后，將腔室101的內(nèi)部再次改變回真空狀態(tài)或接近真空的狀態(tài)。此外，可能會(huì)發(fā)生各種問(wèn)題，如沒(méi)能保持沉積源110的適當(dāng)?shù)臏囟?。因此，如果出現(xiàn)了個(gè)別問(wèn)題，為了替換移動(dòng)單元430可能要消耗大量的時(shí)間。
[0092]然而，由于根據(jù)本實(shí)施例的沉積裝置包括第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610，可有效地防止這樣的問(wèn)題。換句話說(shuō)，通過(guò)在和腔室101的內(nèi)部相同或相似的大氣下保持第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610，直接從腔室101釋放有問(wèn)題的移動(dòng)單元430到第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610，以及釋放第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中保持為備用的備份移動(dòng)單元430’到腔室101中，可以在不影響沉積源110的情況下短時(shí)間內(nèi)有效地替換移動(dòng)單元430。
[0093]圖5是根據(jù)本公開(kāi)的另一實(shí)施例的沉積裝置的沉積單元的側(cè)向透視圖。
[0094]根據(jù)本實(shí)施例的沉積裝置不僅包括第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610，還包括第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620。第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620可以位于卸載單元(圖1的300)上方，或卸料室324下方，或卸料室324旁邊的位置。圖5示出了第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620位于卸料室324上方的位置的情況。第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620被保持在腔室的壓力。
[0095]當(dāng)給定的移動(dòng)單元430出現(xiàn)問(wèn)題時(shí)，第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620是空的，在基底2在卸載單元300從對(duì)應(yīng)的移動(dòng)單元430拆卸后迅速容納(接收)移動(dòng)單元430。接著，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610釋放在其中容納的備份移動(dòng)單元430’進(jìn)入裝載單元200，以取代由第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620容納的移動(dòng)單元430。這避免了解除密封和再次密封主室所導(dǎo)致的時(shí)間延遲。當(dāng)然，多個(gè)其他依然良好的移動(dòng)單元430可以同時(shí)繼續(xù)從裝載單元200經(jīng)過(guò)沉積單元100傳送出卸載單元300。因此，在如果移動(dòng)單元430沒(méi)有由第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620容納的情況下容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620中的移動(dòng)單元430應(yīng)該在的時(shí)間點(diǎn)，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610可釋放備份移動(dòng)單元430’進(jìn)入裝載單元200。
[0096]然而，由于根據(jù)本實(shí)施例的沉積裝置包括第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610和第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620，通過(guò)在與腔室101的內(nèi)部相同或相似的大氣下保持第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610和第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620，直接從腔室101釋放有問(wèn)題的移動(dòng)單元430進(jìn)入第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620的容納空間，并釋放第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中保持為備用的備份移動(dòng)單元430’到腔室101中，可以在不影響沉積源110的情況下短時(shí)間內(nèi)有效地替換移動(dòng)單元430。此外，由于第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610和第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620可彼此分離并獨(dú)立布置，從而可以有效地防止對(duì)移動(dòng)單元430和備份移動(dòng)單元430’移動(dòng)路徑的干擾。此外，由于第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620只收集有問(wèn)題的移動(dòng)單元430，稍后可以有效地處理所收集的具有問(wèn)題的移動(dòng)單元430。
[0097]當(dāng)然，即使與基底2分離的移動(dòng)單元430沒(méi)有問(wèn)題，如果使用移動(dòng)單元430在基底2上進(jìn)行了預(yù)設(shè)次數(shù)的沉積，第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620可以甚至在移動(dòng)單元430出現(xiàn)問(wèn)題之前容納那些已經(jīng)使用了預(yù)定次數(shù)的移動(dòng)單元430，并釋放第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中的備份移動(dòng)單元430’進(jìn)入裝載單元200中。
[0098]圖6是根據(jù)本發(fā)明的公開(kāi)的另一實(shí)施例的沉積裝置1002的示意性平面圖。
[0099]圖6示出了在根據(jù)本實(shí)施例的沉積裝置1002中，每一個(gè)都包括各自的裝載單元200、各自的沉積單元100以及各自的卸載單元300和傳送單元400的兩個(gè)沉積裝置被布置為彼此相鄰。在這種情況下，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610可以被布置在兩個(gè)沉積裝置之間，以由雙方共享。換句話說(shuō)，通過(guò)布置兩個(gè)沉積設(shè)備共享第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610，相比兩個(gè)沉積設(shè)備有它們自己的專用第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610的情況，可以更有效地利用制造占地空間。盡管未示出，如果沉積裝置包括第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620，第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620也可以被安排在兩個(gè)沉積設(shè)備之間，使得兩個(gè)沉積設(shè)備同樣可以共享第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620。
[0100]雖然上面的描述主要涉及沉積裝置，本教導(dǎo)并不局限于此。例如，本教導(dǎo)還可以包括通過(guò)使用該沉積裝置制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法。
[0101]根據(jù)本公開(kāi)的另一實(shí)施例的制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法可以包括:通過(guò)使用被布置為穿過(guò)腔室101的第一傳送單元410傳送移動(dòng)單元430進(jìn)入腔室101中，在布置在腔室101內(nèi)的沉積組件100-1和基底2以預(yù)定距離彼此分隔開(kāi)并且第一傳送單元410相對(duì)于沉積組件100-1傳送基底2時(shí)，通過(guò)從沉積組件100-1釋放沉積材料在基底2上形成層。接著，與基底2分離的移動(dòng)單元430由布置為穿過(guò)腔室101的第二傳送單元420傳送回去，因此，移動(dòng)單元430可由第一傳送單元410和第二傳送單元420來(lái)回傳送。
[0102]在制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的大規(guī)模生產(chǎn)方法中，沉積組件100-1可以具有上述結(jié)構(gòu)。
[0103]這里，基底2從其分離的移動(dòng)單元430由第二傳送單元420傳送，并暫時(shí)容納在第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中，即使另一個(gè)移動(dòng)單元430沒(méi)有問(wèn)題，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中的備份移動(dòng)單元430’可以被釋放以進(jìn)行使用。這里，釋放備份移動(dòng)單元430’可以包括對(duì)基底2已經(jīng)從其分離的返程移動(dòng)單元430進(jìn)行對(duì)應(yīng)的容納。此外,如果移動(dòng)單元430中的一個(gè)出現(xiàn)問(wèn)題，還釋放來(lái)自第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中的備份移動(dòng)單元430’替換有缺陷的移動(dòng)單元430。當(dāng)然，如果需要，在對(duì)應(yīng)的移動(dòng)單元430出現(xiàn)問(wèn)題之前，如果使用移動(dòng)單元430在基底2上進(jìn)行了預(yù)設(shè)次數(shù)的沉積，對(duì)應(yīng)的移動(dòng)單元430可以被容納在第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中的備份移動(dòng)單元430’可以被釋放到裝載單元200。
[0104]因此，無(wú)論出于什么原因，可以在不影響沉積源110的其他組件的情況下，在相對(duì)較短的時(shí)間(不需對(duì)腔室進(jìn)行復(fù)壓)內(nèi)有效地替換給定的移動(dòng)單元430。
[0105]根據(jù)本公開(kāi)的另一實(shí)施例的制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法可以包括:通過(guò)使用被布置為穿過(guò)腔室101的第一傳送單元410傳送基底2被固定在其上的移動(dòng)單元430進(jìn)入腔室101中，在布置在腔室101內(nèi)的沉積組件100-1和基底2以預(yù)定距離彼此分隔開(kāi)并且第一傳送單元410相對(duì)于沉積組件100-1傳送基底2時(shí)，通過(guò)從沉積組件100-1釋放沉積材料在基底2上形成沉積層。接著，與基底2分離的移動(dòng)單元430由布置為穿過(guò)腔室101的第二傳送單元420傳送回去，因此，移動(dòng)單元430可由第一傳送單元410和第二傳送單元420來(lái)回傳送。
[0106]這里，由第二傳送單元420傳送的基底2從其分離的移動(dòng)單元430可以被容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620中，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610中的備份移動(dòng)單元430’可以被釋放。這里，如果移動(dòng)單元430出現(xiàn)問(wèn)題，由第二傳送單元420傳送的基底2從其分離的移動(dòng)單元430可以被容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620中。當(dāng)然，如果需要主動(dòng)避免問(wèn)題，在對(duì)應(yīng)的移動(dòng)單元430出現(xiàn)問(wèn)題之前，如果使用移動(dòng)單元430在基底2上進(jìn)行了預(yù)設(shè)次數(shù)的沉積，對(duì)應(yīng)的移動(dòng)單元430可以被容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620中。
[0107]此外，在基底2從其分離的移動(dòng)單元430被容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620中之后，可以進(jìn)行備份移動(dòng)單元430’的釋放。在這種情況下，多個(gè)移動(dòng)單元430可在裝載單元200、沉積單元100和卸載單元300之間被同時(shí)傳送。因此，在如果移動(dòng)單元430沒(méi)有由第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620容納的情況下容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器620中的移動(dòng)單元430應(yīng)該在的時(shí)間點(diǎn)，第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器610可釋放備份移動(dòng)單元430’進(jìn)入裝載單元200。
[0108]因此，可以在不影響沉積源110的其他組件的情況下短時(shí)間內(nèi)有效地替換移動(dòng)單元 430。
[0109]圖7是使用圖1的沉積裝置制造的有機(jī)發(fā)光顯示裝置(OLEDD)的示意性剖視圖。
[0110]參考圖7，有機(jī)發(fā)光顯示裝置的組件形成在基底50上。這里，基底50可以是如圖1所示的基底2或者基底2的一部分?；?0可以由例如玻璃材料的透明材料、塑料材料或金屬形成。
[0111]公共層，諸如緩沖層51、柵極絕緣層53、層間絕緣層55可以被形成為完全覆蓋基底50的頂表面，包括溝道區(qū)52a、源極接觸區(qū)52b和漏極接觸區(qū)52c的圖案化半導(dǎo)體層52可以形成在基底50上，與這樣的圖案化半導(dǎo)體層一起組成TFT的柵電極54、源電極56和漏電極57可以形成在基底50上。
[0112]此外，覆蓋TFT的保護(hù)層58以及布置在保護(hù)層58上并具有基本上平坦的頂表面的平整化層59可以被形成為完全覆蓋基底50的頂部。有機(jī)發(fā)光器件(OLED)可以被布置在平整化層59上,有機(jī)發(fā)光器件包括圖案化的像素電極61、基本上對(duì)應(yīng)于基底50的頂表面的對(duì)電極63、以及具有多層結(jié)構(gòu)并被插入在像素電極61和對(duì)電極63之間且包括發(fā)光層的中間層62。當(dāng)然，中間層62可以是基本上對(duì)應(yīng)于基底50的頂表面的公共層，而其它層可以是被圖案化為對(duì)應(yīng)像素電極61的圖案化層。像素電極61可以經(jīng)由接觸孔被電連接到TFT。當(dāng)然，覆蓋像素電極61的邊緣部分并限定了每個(gè)像素區(qū)域的像素限定層60可以以基本上對(duì)應(yīng)于基底50的頂表面的方式被形成在平整化層59上。
[0113]在這樣的有機(jī)發(fā)光顯示裝置中，其組件的至少一部分可通過(guò)使用根據(jù)上述實(shí)施例的沉積裝置形成。
[0114]例如，中間層62可以通過(guò)使用根據(jù)上述實(shí)施例的沉積裝置形成。例如，可以包含在中間層62中的空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、發(fā)光層(EML)、電子傳輸層(ETL)和電子注入層(EIL)可以通過(guò)使用根據(jù)上述實(shí)施例的各沉積方法和大規(guī)模生產(chǎn)裝置形成。
[0115]換句話說(shuō)，當(dāng)中間層62的每個(gè)層被形成時(shí)，可以在沉積組件被布置為與用于沉積的基底，也就是其上形成有像素電極61的基底，分隔預(yù)定距離時(shí)，通過(guò)使包括沉積源、沉積噴嘴單元和圖案化縫隙的沉積組件或者基底相對(duì)于彼此移動(dòng)，來(lái)進(jìn)行沉積。
[0116]如果多個(gè)圖案化縫隙被沿X軸方向平行布置在圖案化縫隙片中，當(dāng)通過(guò)使用圖案化縫隙片形成組成中間層62的層時(shí)，該層可具有線性圖案。例如，該層可以是發(fā)光層。通過(guò)使用這里公開(kāi)的沉積系統(tǒng)大規(guī)模生產(chǎn)成批的具有持續(xù)地基本上相同的沉積層的發(fā)光器件也落入本公開(kāi)的意圖內(nèi)。批次可以包括具有相對(duì)長(zhǎng)的長(zhǎng)度(例如40英寸或更長(zhǎng))的基底，其中使用了沉積的掃描方法。
[0117]如上所述，例如，如圖1所示的沉積裝置能夠精確地在大型基底的預(yù)設(shè)區(qū)域中進(jìn)行沉積。因此，例如，如圖1所示的沉積裝置可以在用于有機(jī)發(fā)光顯示裝置的甚至40英寸長(zhǎng)的基底或更大的基底上精確地形成中間層62，從而實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。
[0118]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施例提供了:能顯著減少維護(hù)時(shí)間的沉積裝置、能在可靠的大規(guī)模生產(chǎn)的基礎(chǔ)上制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法、以及有機(jī)發(fā)光顯示裝置。然而，本教導(dǎo)并不局限于此。
[0119]盡管參考其示例性實(shí)施例特別提供了本發(fā)明的公開(kāi)，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員基于前述將理解，可以在不背離本教導(dǎo)的精神和范圍的情況下對(duì)于形式和細(xì)節(jié)進(jìn)行各種改變。
【權(quán)利要求】
1.一種在所提供的一批待加工工件上沉積一種或多種沉積材料的沉積裝置，該裝置包括: 沉積單元，在所述沉積單元內(nèi)發(fā)生所述一種或多種沉積材料在所提供的一批待加工工件上的沉積； 傳送單元，包括: 第一傳送單元，被配置為傳送各工件移動(dòng)單元通過(guò)所述沉積單元同時(shí)在所述沉積單元中發(fā)生沉積，一個(gè)或多個(gè)所提供的工件各自被可拆卸地附著到各工件移動(dòng)單元；和 第二傳送單元，被配置為在返回方向傳送所述移動(dòng)單元中的未附著工件的各空移動(dòng)單元經(jīng)過(guò)返回路徑，從而所述空移動(dòng)單元能夠被重新用于移動(dòng)所述待加工工件中的其它待加工工件； 裝載單元，被配置為將所述待加工工件中的各待加工工件與所述移動(dòng)單元中對(duì)應(yīng)的移動(dòng)單元進(jìn)行配合； 卸載單元，被配置為將所述工件中的加工過(guò)的工件在所述一種或多種沉積材料在這些工件上的沉積完成之后從它們各自的移動(dòng)單元分離；和 第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器，一個(gè)或多個(gè)空的且將被用作備份的移動(dòng)單元能夠被容納在所述第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中，所述第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器被可操作地聯(lián)接，以將其備份移動(dòng)單元中的一個(gè)插入到布置為穿過(guò)所述沉積單元的一系列移動(dòng)單元中； 其中所述沉積單元包括: 一個(gè)或多個(gè)沉積組件，被配置為每個(gè)沉積組件分別與可拆卸地附著到其各自的工件移動(dòng)單元的所述工件中的經(jīng)過(guò)的工件以對(duì)應(yīng)的預(yù)定間隔距離隔開(kāi)，并以非接觸方式朝所述可拆卸地附著的工件噴射所述一種或多種沉積材料中的對(duì)應(yīng)的一種；和 腔室。
2.如權(quán)利要求1所述的沉積裝置，其中所述第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器位于所述裝載單元上方、或者所述裝載單元下方、或者在旁邊緊鄰所述裝載單元。
3.如權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其中 所述第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器被配置為從所述第二傳送單元接收并容納剛由所述第二傳送單元傳送的空的移動(dòng)單元，該剛傳送的空的移動(dòng)單元是具有潛在缺陷或者需要整修的移動(dòng)單元，并且 所述第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器被配置為將其備份移動(dòng)單元中的一個(gè)釋放到所述裝載單元，代替所接收的具有潛在缺陷或者需要整修的移動(dòng)單元。
4.如權(quán)利要求2所述的沉積裝置，進(jìn)一步包括能夠接收和容納未附著工件的空的移動(dòng)單元的第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器。
5.如權(quán)利要求4所述的沉積裝置，其中所述第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器位于所述卸載單元上方、或者所述卸載單元下方、或者在旁邊緊鄰所述卸載單元。
6.如權(quán)利要求5所述的沉積裝置，其中當(dāng)空的移動(dòng)單元被接收并容納在所述第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中時(shí)，所述第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器被配置為作出響應(yīng)釋放其備份移動(dòng)單元中的一個(gè)到所述裝載單元中，從而替換該已經(jīng)被接收并容納在所述第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中的空的移動(dòng)單元。
7.如權(quán)利要求1所述的沉積裝置，其中所述沉積組件中的至少一個(gè)包括: 沉積源，被配置為存儲(chǔ)和釋放各自的沉積材料； 沉積噴嘴單元，被布置在所述沉積源上方，用于引導(dǎo)所述各自的沉積材料的已釋放部分朝向由所述第一傳送單元輸送的對(duì)應(yīng)的工件； 圖案化縫隙片，被布置為插入在所述沉積噴嘴單元和所述對(duì)應(yīng)的工件之間，并控制被允許穿過(guò)以沉積在所述對(duì)應(yīng)的工件上的所述各自的沉積材料的形狀；和 其中來(lái)自所述沉積源的所述各自的沉積材料穿過(guò)所述圖案化縫隙片，并被沉積到所述對(duì)應(yīng)的工件上。
8.—種制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法，該方法包括: 通過(guò)使用第一傳送單元將可拆卸地附著有基底的移動(dòng)單元傳送到腔室中； 在所述基底和布置在所述腔室內(nèi)的沉積組件間隔預(yù)定距離并且所述第一傳送單元相對(duì)于所述沉積組件傳送所述基底時(shí)，從所述沉積組件在所述基底上釋放沉積材料而形成層； 在所述移動(dòng)單元上不再附著有所述基底后，通過(guò)使用用于回程的第二傳送單元將所述移動(dòng)單元返回到裝載單元，用于將所述移動(dòng)單元與第二基底配合；和 如果與其對(duì)應(yīng)的基底分離并由所述第二傳送單元在回程中傳送的空的移動(dòng)單元有問(wèn)題，則將所述空的移動(dòng)單元容納在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中，并從第一動(dòng)單元儲(chǔ)料器釋放備份移動(dòng)單元。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其中如果與所述基底分離并由所述第二傳送單元傳送的所述移動(dòng)單元出現(xiàn)問(wèn)題，則所述第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器容納所述移動(dòng)單元并釋放所述備份移動(dòng)單元到所述裝載單元中。
10.如權(quán)利要求8所述的方法，其中在所述基底上形成沉積層時(shí)，該層隨著所述基底相對(duì)于對(duì)應(yīng)的所述沉積組件移動(dòng)而被形成，對(duì)應(yīng)的所述沉積組件包括:沉積源，存儲(chǔ)所形成的沉積層的材料；沉積噴嘴單元，被布置在所述沉積源上方，并指向所述第一傳送單元，且包括沉積噴嘴；以及被布置為面對(duì)所述沉積噴嘴單元的圖案化縫隙片，所述沉積組件和所述基底以預(yù)定距離彼此分開(kāi)。
11.一種制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法，該方法包括: 通過(guò)使用第一傳送單元將可拆卸地附著有基底的移動(dòng)單元傳送到腔室中，所述第一傳送單元被布置為穿過(guò)所述腔室； 在布置在所述腔室內(nèi)的沉積組件和所述基底以預(yù)定距離彼此分開(kāi)并且所述第一傳送單元相對(duì)于所述沉積組件傳送所述基底時(shí)，從所述沉積組件在所述基底上釋放沉積材料而形成層； 通過(guò)使用被布置為穿過(guò)所述腔室的第二傳送單元將與所述基底分離的所述移動(dòng)單元傳送回去； 在第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中容納與所述基底分離并由所述第二傳送單元傳送的所述移動(dòng)單元；和 釋放第一移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中的備份移動(dòng)單元。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中如果給定的移動(dòng)單元出現(xiàn)問(wèn)題，則所述第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器容納所述給定的移動(dòng)單元。
13.如權(quán)利要求11所述的方法，其中在與所述基底分離的所述移動(dòng)單元被容納在所述第二移動(dòng)單元儲(chǔ)料器中之后釋放所述備份移動(dòng)單元。
14.如權(quán)利要求11所述的方法，其中在形成所述層時(shí)，該層隨著所述基底相對(duì)于所述沉積組件移動(dòng)而被形成，對(duì)應(yīng)的所述沉積組件包括:沉積源，存儲(chǔ)所形成的沉積層的材料；沉積噴嘴單元，被布置在所述沉積源上方，并指向所述第一傳送單元，且包括沉積噴嘴；以及被布置為面對(duì)所述沉積噴嘴單元的圖案化縫隙片，所述沉積組件和所述基底以預(yù)定距離彼此分開(kāi)。
15.—種有機(jī)發(fā)光顯不裝置,包括: 基底； 布置在所述基底上的多個(gè)薄膜晶體管； 電連接到所述多個(gè)薄膜晶體管的多個(gè)像素電極； 布置在所述像素電極上的沉積層；和 布置在所述沉積層上的對(duì)電極， 其中所述沉積層中的至少一層通過(guò)使用權(quán)利要求1的所述沉積裝置來(lái)形成。
【文檔編號(hào)】H01L21/677GK104167510SQ201310712272
【公開(kāi)日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2013年12月20日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月16日
【發(fā)明者】洪興其 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司