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      一種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊的制作方法

      文檔序號:7026158閱讀:425來源:國知局
      一種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊的制作方法
      【專利摘要】本實用新型公開了一種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,所述壓塊包括亞克力板層與絨布層,所述壓塊還包括覆銅箔酚醛紙壓板層,所述覆銅箔酚醛紙壓板層位于所述亞克力板層與所述絨布層之間,所述覆銅箔酚醛紙壓板層上表面與所述亞克力板層下表面固定連接,所述覆銅箔酚醛紙壓板層下表面與所述絨布層上表面固定連接。所述壓塊還包括矽膠層,所述矽膠層與所述亞克力板層上表面固定連接。本實用新型的有益效果在于,利用矽膠層柔軟的特性和覆銅箔酚醛紙壓板層結(jié)構(gòu),有效緩沖了在熱壓時產(chǎn)生的壓力,從而改善LED產(chǎn)品貼附封裝帶時的壓痕過深情況,利于下游用戶取晶封裝。
      【專利說明】一種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實用新型涉及半導(dǎo)體制備技術(shù),具體的說是一種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊。
      【背景技術(shù)】
      [0002]發(fā)光二極管,即LED (light-emitting diode)是一種把電能轉(zhuǎn)換成光能的半導(dǎo)體發(fā)光器件,其核心部分由P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體組成的晶片,在P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體之間有一個過渡層,稱為P-N結(jié)。當(dāng)給發(fā)光二極管加上正向電壓后,從P區(qū)注入到N區(qū)的空穴和由N區(qū)注入到P區(qū)的電子,在PN結(jié)附近數(shù)微米內(nèi)分別與N區(qū)的電子和P區(qū)的空穴復(fù)合,產(chǎn)生自發(fā)輻射的熒光。
      [0003]LED產(chǎn)品于出貨時,需經(jīng)過熱壓翻轉(zhuǎn)工藝后,將LED晶片貼附于封裝帶上,以利于下游用戶封裝使用。
      [0004]傳統(tǒng)熱壓翻轉(zhuǎn)工藝所用的壓塊由絨布層和亞克力板層組成,此類壓塊在熱壓時無緩沖效果,造成LED產(chǎn)品出貨時其貼附在封裝帶時均發(fā)生壓痕過深,黏力過大情況,造成下游用戶封裝過程不易取晶等問題。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本實用新型的目的就是為了克服上述現(xiàn)有壓塊的不足之處,提供一種具有多層結(jié)構(gòu)的熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,能有效緩沖熱壓的壓力,改善LED產(chǎn)品貼附封裝袋時的壓痕過深情況,以利下游用戶取晶封裝。
      [0006]本實用新型的目的是通過如下技術(shù)措施來實現(xiàn)的:
      [0007]—種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,所述壓塊包括亞克力板層與絨布層,所述壓塊還包括覆銅箔酚醛紙壓板層,所述覆銅箔酚醛紙壓板層位于所述亞克力板層與所述絨布層之間,所述覆銅箔酚醛紙壓板層上表面與所述亞克力板層下表面固定連接,所述覆銅箔酚醛紙壓板層下表面與所述絨布層上表面固定連接。
      [0008]進一步地,所述壓塊還包括矽膠層,所述矽膠層與所述亞克力板層上表面固定連接。
      [0009]進一步地,所述固定連接方式為粘接方式。
      [0010]進一步地,所述覆銅箔酹醒紙壓板層厚度為0.5 μ m-1.2 μ m。
      [0011 ] 進一步地,所述矽膠層厚度為0.8 μ m——2.2 μ m。
      [0012]本實用新型的有益效果在于,利用矽膠層柔軟的特性和覆銅箔酚醛紙壓板層結(jié)構(gòu),有效緩沖了在熱壓時產(chǎn)生的壓力,從而改善LED產(chǎn)品貼附封裝帶時的壓痕過深情況,利于下游用戶取晶片進行封裝。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0013]圖1為現(xiàn)有技術(shù)壓塊的示意圖;[0014]圖2為本實用新型一實施例示意圖;
      [0015]圖3為本實用新型的又一實施例示意圖;
      [0016]圖4為使用現(xiàn)有技術(shù)的壓塊進行熱壓翻轉(zhuǎn)工藝后LED晶片產(chǎn)品的示意圖;
      [0017]圖5為使用本實用新型的壓塊進行熱壓翻轉(zhuǎn)工藝后LED晶片產(chǎn)品的示意圖;
      [0018]其中:1.矽膠層;2.亞克力板層;3.覆銅箔酚醛紙壓板層;4.絨布層;5、封裝帶;
      6、LED晶片;7、壓痕。
      【具體實施方式】
      [0019]下面詳細(xì)描述本實用新型的實施例,所述實施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的,僅用于解釋本實用新型,而不能理解為對本實用新型的限制。
      [0020]在本實用新型的描述中,需要理解的是,術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平” “頂”、“底” “內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為
      基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對本實用新型的限制。
      [0021]在本實用新型的描述中,需要說明的是,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以具體情況理解上述術(shù)語在本實用新型中的具體含義。
      [0022]實施例一
      [0023]下面結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步的描述。
      [0024]如圖2所示,一種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,包括亞克力板層2、絨布層4,還包括覆銅箔酚醛紙壓板層3,覆銅箔酚醛紙壓板層3位于亞克力板層2與絨布層4之間,覆銅箔酚醛紙壓板層3上表面與亞克力板層2下表面固定連接,覆銅箔酚醛紙壓板層3的下表面與絨布層4的上表面固定連接。
      [0025]實施例二
      [0026]如圖3所示,一種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,包括亞克力板層2、絨布層4,還包括覆銅箔酚醛紙壓板層3,覆銅箔酚醛紙壓板層3位于亞克力板層2與絨布層4之間,覆銅箔酚醛紙壓板層3上表面與亞克力板層2下表面固定連接,覆銅箔酚醛紙壓板層3的下表面與絨布層4的上表面固定連接,壓塊還包括矽膠層1,矽膠層I與亞克力板層2固定連接。
      [0027]上述固定連接方式為粘接方式。
      [0028]此外,矽膠層I的厚度可以為0.8μπι或1.5μπι或2.2μπι中的一種。
      [0029]覆銅箔酚醛紙壓板層的厚度可以為0.5μπι或0.8μπι或1.2μ m中的一種。
      [0030]如圖4,為采用現(xiàn)有技術(shù)壓塊對LED晶片進行熱壓翻轉(zhuǎn)工藝,將LED晶片貼附于封裝帶上的效果圖,圖中明顯可見LED晶片6貼附在封裝帶5上時出現(xiàn)的壓痕7,黏附于封裝帶5的黏貼力過大,造成下游用戶封裝過程不易取晶片等問題,影響產(chǎn)品質(zhì)量。而圖5為采用本實用新型所述的技術(shù)方案后對晶片進行熱壓翻轉(zhuǎn)工藝,將LED晶片貼附于封裝帶上的效果圖,晶片6貼附在封裝帶5上時,未出現(xiàn)壓痕7。
      [0031] 盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解:在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型,本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
      【權(quán)利要求】
      1.一種發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,所述壓塊包括亞克力板層與絨布層,其特征在于,所述壓塊還包括覆銅箔酚醛紙壓板層,所述覆銅箔酚醛紙壓板層位于所述亞克力板層與所述絨布層之間,所述覆銅箔酚醛紙壓板層上表面與所述亞克力板層下表面固定連接,所述覆銅箔酚醛紙壓板層下表面與所述絨布層上表面固定連接。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,其特征在于,所述壓塊還包括矽膠層,所述矽膠層與所述亞克力板層上表面固定連接。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,其特征在于,所述固定連接方式為粘接方式。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,其特征在于,所述覆銅箔酚醛紙壓板層厚度為0.5 μ m——1.2 μ m。
      5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光二極管晶片熱壓翻轉(zhuǎn)工藝用壓塊,其特征在于,所述矽膠層厚度為0.8 μ m——2.2 μ m。
      【文檔編號】H01L33/00GK203553202SQ201320620081
      【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年10月9日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月9日
      【發(fā)明者】胡泰祥 申請人:元茂光電科技(武漢)有限公司
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