一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，屬于電網(wǎng)檢測領(lǐng)域。所述測量滅弧室真空度的真空對比裝置，包括真空滅弧室、真空池、機(jī)械泵、分子泵、進(jìn)氣調(diào)節(jié)閥、N2氣瓶和副標(biāo)真空計(jì)，所述真空滅弧室內(nèi)設(shè)置屏蔽罩，所述真空滅弧室通過絕緣管與真空池連接，所述真空池上端通過進(jìn)氣閥與N2氣瓶連接，下端依次與分子泵及機(jī)械泵連接。本實(shí)用新型無需施加磁場，通過停電測量可以測量滅弧室內(nèi)的真空度，操作簡單、靈敏度高。
【專利說明】一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于電網(wǎng)檢測領(lǐng)域，涉及真空滅弧室真空度檢測，特別涉及一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空滅弧室真空度的測試方法主要有工頻耐壓法及磁控放電法。工頻耐壓法只能測出嚴(yán)重漏氣的滅弧室，而對于處于半真空狀態(tài)的滅弧室(0.Ι-lPa)，雖然擊穿電壓沒有降低，但是真空管已不能開斷額定的短路電流。目前，定量測量真空開關(guān)滅弧室真空度較好的方法是在滅弧室外圍加上磁場線圈的磁控放電法，但是這種測試方法存在2個(gè)方面的缺點(diǎn):(1)需要使用磁場線圈，由于真空開關(guān)的型號(hào)多種多樣，有些真空開關(guān)真空滅弧室的外圍無障礙空間很小，磁場線圈難以靠近，特別是對于新型的滅弧室絕緣封閉型真空開關(guān)，磁場線圈無法靠近，磁控放電法無法應(yīng)用。(2)磁控放電法測量真空度的原理是利用正交的電場與磁場，增加電子的行程與殘留氣體分子的碰撞幾率，導(dǎo)致氣體電離放電，測量放電的離子電流獲得真空度，放電電流的分散性較大，而且放點(diǎn)后有抽氣或放氣作用，使密閉容器的真空度發(fā)生變化，故短期內(nèi)不能重復(fù)測量。
[0003]鑒于以上原因，有必要探尋一種無需施加磁場、高靈敏度的真空開關(guān)真空度測量方法及測量裝置。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的是解決上述實(shí)際問題，提供一種真空對比裝置，通過改變真空對比裝置的真空壓強(qiáng)來改變滅弧室內(nèi)的壓強(qiáng)，從而獲得真空滅弧室內(nèi)10°_10_5Pa的真空度。
[0005]本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案如下:一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，包括真空滅弧室、真空池、機(jī)械泵、分子泵、進(jìn)氣調(diào)節(jié)閥、N2氣瓶和副標(biāo)真空計(jì)，所述真空滅弧室內(nèi)設(shè)置屏蔽罩，所述真空滅弧室通過絕緣管與真空池連接，所述真空池上端通過進(jìn)氣閥與N2氣瓶連接，下端依次與分子泵及機(jī)械泵連接。
[0006]所述真空池側(cè)面分別連接復(fù)合真空計(jì)和副標(biāo)真空計(jì)。
[0007]工作原理:由機(jī)械泵、分子泵依次連續(xù)對真空池抽真空，其極限真空度可達(dá)到10_5Pa。使用N2氣瓶通過進(jìn)氣調(diào)節(jié)閥對真空池放氣來降低真空度，當(dāng)進(jìn)氣量與抽氣量相平衡時(shí)，真空池的壓強(qiáng)就停留在某一穩(wěn)定值Ptl上，因?yàn)闇缁∈彝ㄟ^絕緣管與真空池相連，可以認(rèn)為滅弧室的壓強(qiáng)也是該穩(wěn)定值匕。
[0008]有益效果:本實(shí)用新型無需施加磁場，通過停電測量可以測量滅弧室內(nèi)的真空度，操作簡單、靈敏度高。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖
[0010]其中，1-真空滅弧室 2-屏蔽罩 3-真空絕緣管 4-進(jìn)氣調(diào)節(jié)閥 5-N2氣瓶6-真空池7-復(fù)合真空計(jì)8-副標(biāo)真空計(jì)9-機(jī)械泵10-分子泵【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0012]如圖1所示，一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，包括真空滅弧室1、真空池
6、機(jī)械泵9、分子泵10、進(jìn)氣調(diào)節(jié)閥4、N2氣瓶5和副標(biāo)真空計(jì)8，所述真空滅弧室I內(nèi)設(shè)置屏蔽罩2，所述真空滅弧室I通過真空絕緣管3與真空池6連接，所述真空池6上端通過進(jìn)氣調(diào)節(jié)閥4與N2氣瓶5連接，下端依次與機(jī)械泵9及分子泵10連接。
[0013]所述真空池6側(cè)面分別連接復(fù)合真空計(jì)7和副標(biāo)真空計(jì)8。
【權(quán)利要求】
1.一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，包括真空滅弧室、真空池、機(jī)械泵、分子泵、進(jìn)氣調(diào)節(jié)閥、N2氣瓶和副標(biāo)真空計(jì)，所述真空滅弧室內(nèi)設(shè)置屏蔽罩，所述真空滅弧室通過絕緣管與真空池連接，所述真空池上端通過進(jìn)氣閥與N2氣瓶連接，下端依次與分子泵及機(jī)械泵連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，其特征在于，所述真空池側(cè)面分別連接復(fù)合真空計(jì)和副標(biāo)真空計(jì)。
【文檔編號(hào)】H01H33/668GK203553036SQ201320704241
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年11月9日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月9日
【發(fā)明者】雍少銀 申請人:寧夏天地經(jīng)緯電力設(shè)備工程有限公司