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      一種硅片支撐裝置制造方法

      文檔序號(hào):7047481閱讀:128來(lái)源:國(guó)知局
      一種硅片支撐裝置制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種硅片支撐裝置,包括安裝在半導(dǎo)體工藝設(shè)備硅片傳送系統(tǒng)中硅片存儲(chǔ)臺(tái)上端的環(huán)形支撐環(huán),安裝在支撐環(huán)圓周上的支撐硅片的若干支撐腳,其特征在于,所述支撐腳為柱形,其上端設(shè)有硅片支撐面,其下端與所述支撐環(huán)連接;所述支撐環(huán)的內(nèi)徑小于由所述若干支撐腳的所述硅片支撐面內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑。本發(fā)明通過(guò)減少支撐腳的水平方向長(zhǎng)度,使得支撐環(huán)的外徑得以縮小,從而減小了存儲(chǔ)臺(tái)的占地面積,并可避免硅片在因偏差滑出支撐裝置時(shí)從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易實(shí)現(xiàn)、可節(jié)省設(shè)備占地面積并降低硅片破損率的顯著特點(diǎn)。
      【專利說(shuō)明】一種硅片支撐裝置
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備硅片傳送系統(tǒng)中的硅片存儲(chǔ)臺(tái),更具體地,涉及一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備硅片傳送系統(tǒng)中硅片存儲(chǔ)臺(tái)的硅片支撐裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]半導(dǎo)體制造業(yè)是一系列主要工藝步驟的循環(huán)和重復(fù)。許多制備工藝都包含發(fā)生在半導(dǎo)體工藝設(shè)備工藝腔內(nèi)的化學(xué)反應(yīng)?,F(xiàn)在,對(duì)半導(dǎo)體硅片的處理工藝,通常要用到發(fā)生在工藝腔里的化學(xué)反應(yīng)。
      [0003]按照不同性質(zhì)的處理工藝,硅片往往需要在多個(gè)半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝腔之間通過(guò)硅片傳送系統(tǒng)進(jìn)行傳輸。在工藝設(shè)備內(nèi),硅片傳送系統(tǒng)的主要功能是裝載硅片,所有的裝卸都由自動(dòng)機(jī)械完成。硅片從設(shè)備外部接收進(jìn)來(lái),并在工藝進(jìn)行前的等候期間,需要一個(gè)暫時(shí)存儲(chǔ)的場(chǎng)所。存儲(chǔ)時(shí)用到的裝置是硅片存儲(chǔ)臺(tái),在其上端,是用于機(jī)械手拾取硅片的支撐
      裝直。
      [0004]目前,通常的硅片支撐裝置一般包括安裝在存儲(chǔ)臺(tái)上的環(huán)形支撐環(huán),以及安裝在支撐環(huán)圓周上的支撐硅片的若干支撐腳,機(jī)械手可進(jìn)入相鄰二個(gè)支撐腳之間的空間拾取硅片。
      [0005]硅片支撐裝置的設(shè)計(jì)要求能使硅片放置平穩(wěn),便于機(jī)械手操作,并能保護(hù)硅片不被損壞。
      [0006]中國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)CN102840425A支撐腳裝置公開(kāi)了一種用于硅片存儲(chǔ)臺(tái)的支撐腳裝置。該裝置通過(guò)安裝在支撐環(huán)上的可沿支撐環(huán)圓周調(diào)整位置的若干支撐腳來(lái)支撐放置在其上的硅片。該裝置的設(shè)計(jì)形式雖然可方便地通過(guò)調(diào)整支撐腳的位置來(lái)滿足機(jī)械手的進(jìn)手空間,以便于機(jī)械手操作,但同時(shí)也存在明顯的問(wèn)題:此支撐腳裝置由于支撐腳的硅片支撐面位于支撐腳的前端,而與支撐環(huán)的裝配位置位于支撐腳的后端,使得支撐環(huán)的內(nèi)徑大于硅片的外徑尺寸、支撐環(huán)的外徑露出硅片外徑的部分很多。此問(wèn)題帶來(lái)的缺陷是,一方面造成整個(gè)存儲(chǔ)臺(tái)的設(shè)計(jì)占用了較大的面積,另一方面在機(jī)械手故障或調(diào)試中,由于機(jī)械手抓取硅片不牢或偏差,導(dǎo)致硅片滑出支撐裝置而從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎,不但造成一定的經(jīng)濟(jì)損失,也影響到設(shè)備的生產(chǎn)效率。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0007]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷,提供一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備硅片傳送系統(tǒng)中硅片存儲(chǔ)臺(tái)的新型硅片支撐裝置,通過(guò)將硅片支撐面設(shè)計(jì)在柱形支撐腳的上端面、與支撐環(huán)的裝配位置設(shè)計(jì)在支撐腳的下端底面,并設(shè)計(jì)支撐環(huán)的內(nèi)徑小于硅片的外徑尺寸,使得支撐環(huán)的外徑露出硅片外徑的部分很少,從而縮小了支撐環(huán)的直徑,減小了存儲(chǔ)臺(tái)的占地面積,并可避免硅片在因偏差滑出支撐裝置時(shí)從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。
      [0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
      [0009]一種硅片支撐裝置,包括安裝在半導(dǎo)體工藝設(shè)備硅片傳送系統(tǒng)中硅片存儲(chǔ)臺(tái)上端的環(huán)形支撐環(huán),和安裝在支撐環(huán)圓周上的支撐硅片的若干支撐腳。所述支撐腳為柱形,其上端設(shè)有硅片支撐面,其下端與所述支撐環(huán)連接;所述支撐環(huán)的內(nèi)徑小于由所述若干支撐腳的所述硅片支撐面內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑。本發(fā)明將現(xiàn)有技術(shù)中支撐腳的硅片支撐面位置與裝配位置之間的結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)關(guān)系進(jìn)行改進(jìn),由原來(lái)的前后設(shè)置形式,變?yōu)楸景l(fā)明的上下設(shè)置形式?,F(xiàn)有技術(shù)中支撐腳的結(jié)構(gòu)形式,使得支撐環(huán)的外徑遠(yuǎn)大于硅片的直徑,造成存儲(chǔ)臺(tái)的占地面積相應(yīng)擴(kuò)大;且支撐環(huán)的內(nèi)徑大于硅片的直徑,在機(jī)械手故障或調(diào)試中,由于機(jī)械手抓取硅片不牢或偏差,會(huì)導(dǎo)致硅片滑出支撐裝置而從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。本發(fā)明的新設(shè)計(jì)使支撐環(huán)得以整體縮小,從而可以節(jié)省硅片存儲(chǔ)臺(tái)的占地面積。同時(shí),將支撐環(huán)的內(nèi)徑設(shè)計(jì)成小于各支撐腳的硅片支撐面內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑,保證了支撐環(huán)的內(nèi)徑小于硅片的直徑,可避免硅片在因偏差滑出支撐裝置時(shí)從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。
      [0010]進(jìn)一步地,所述支撐腳為柱形,其上端設(shè)有硅片支撐面,所述硅片支撐面外接一立面,所述立面為外傾的斜面,所述立面的外側(cè)面與所述支撐腳的柱形外側(cè)面同面。此立面向外側(cè)傾斜的斜面設(shè)計(jì),起到阻擋和滑坡的作用,當(dāng)硅片放置不到位時(shí),可阻擋硅片外移并利用斜面促使其下滑至硅片支撐面。
      [0011 ] 進(jìn)一步地,所述硅片支撐面為平面。
      [0012]進(jìn)一步地,所述硅片支撐面為向內(nèi)側(cè)下傾的斜面,這樣可減小硅片與硅片支撐面之間的接觸面積,提聞娃片的利用率。
      [0013]進(jìn)一步地,所述支撐腳的柱形上端設(shè)有一梯臺(tái),所述梯臺(tái)的臺(tái)面為所述硅片支撐面,所述梯臺(tái)的臺(tái)面外接一立面,所述立面為外傾的斜面,所述斜面與所述梯臺(tái)相交,所述立面的外側(cè)面與所述支撐腳的柱形外側(cè)面同面。采用梯臺(tái)設(shè)計(jì)是為了縮小作為硅片支撐面的梯臺(tái)面面積,同樣是為了減小硅片與硅片支撐面之間的接觸面積,提高硅片的利用率。
      [0014]進(jìn)一步地,所述支撐腳的底面設(shè)有安裝孔,所述支撐環(huán)設(shè)有貫通的安裝孔,所述支撐腳的所述安裝孔通過(guò)穿過(guò)所述支撐環(huán)的安裝孔的緊固件與所述支撐環(huán)連接。將支撐腳的安裝位置設(shè)置在硅片支撐面的下方,減少了支撐腳的水平方向長(zhǎng)度,有利于支撐環(huán)的縮小。
      [0015]進(jìn)一步地,所述支撐腳的底面設(shè)有安裝孔,所述支撐環(huán)設(shè)有貫通的向心腰形孔,所述支撐腳的所述安裝孔通過(guò)穿過(guò)所述支撐環(huán)的腰形孔的緊固件與所述支撐環(huán)連接。向心腰形孔的設(shè)計(jì),使支撐腳可根據(jù)需要調(diào)整向心方向的安裝位置。
      [0016]進(jìn)一步地,所述支撐腳的底面設(shè)有安裝孔,所述支撐環(huán)的圓周上端分布設(shè)有若干向心的凹槽,所述凹槽底面設(shè)有向心的腰形孔,所述支撐腳的柱形下端安裝在所述凹槽內(nèi),所述支撐腳的所述安裝孔通過(guò)穿過(guò)所述支撐環(huán)的腰形孔的緊固件與所述支撐環(huán)連接。凹槽設(shè)計(jì)可使支撐腳安裝穩(wěn)固,并起到安裝時(shí)的導(dǎo)向作用。
      [0017]進(jìn)一步地,所述支撐環(huán)的內(nèi)徑小于若干所述支撐腳在最小安裝位置時(shí),其硅片支撐面的內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑。當(dāng)采用前述的腰形孔設(shè)計(jì)時(shí),支撐腳可沿腰形孔變換安裝位置,存在一個(gè)最小安裝位置。支撐環(huán)的內(nèi)徑要小于在最小安裝位置時(shí)硅片支撐面的內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑,保證了支撐環(huán)的內(nèi)徑小于硅片的直徑,可避免硅片在因偏差滑出支撐裝置時(shí)從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。
      [0018]進(jìn)一步地,所述支撐環(huán)的內(nèi)徑小于所述硅片的直徑。只要支撐環(huán)的內(nèi)徑小于硅片的直徑,硅片就不會(huì)從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。
      [0019]從上述技術(shù)方案可以看出,本發(fā)明通過(guò)將支撐腳設(shè)計(jì)成柱形,減少支撐腳的水平方向長(zhǎng)度,并設(shè)計(jì)支撐環(huán)的內(nèi)徑小于硅片的外徑尺寸,使得支撐環(huán)的外徑得以縮小,從而減小了存儲(chǔ)臺(tái)的占地面積,并可避免硅片在因偏差滑出支撐裝置時(shí)從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。因此,本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易實(shí)現(xiàn)、可節(jié)省設(shè)備占地面積并降低硅片破損率的顯著特點(diǎn)。
      【專利附圖】

      【附圖說(shuō)明】
      [0020]圖1是本發(fā)明一種硅片支撐裝置的裝配結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0021]圖2是本發(fā)明一種硅片支撐裝置的一種支撐腳結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0022]圖3是圖2中支撐腳的底面方向結(jié)構(gòu)斜視圖;
      [0023]圖4是本發(fā)明一種硅片支撐裝置的支撐環(huán)結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0024]圖5是圖1中的支撐裝置的裝配結(jié)構(gòu)剖視圖;
      [0025]圖6是本發(fā)明一種硅片支撐裝置支撐腳的另一種結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0026]圖中100.支撐腳,101.梯臺(tái)形硅片支撐面,102.支撐腳底面,103.外傾斜面,104.安裝螺孔,105.斜面形硅片支撐面,200.螺釘,300.支撐環(huán),301.凹槽,302.腰形孔,400.硅片。
      【具體實(shí)施方式】
      [0027]下面結(jié)合附圖,對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。
      [0028]實(shí)施例一
      [0029]在本實(shí)施例中,請(qǐng)參閱圖1,圖1是本發(fā)明一種硅片支撐裝置的裝配結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示,本發(fā)明的硅片支撐裝置包括安裝在半導(dǎo)體工藝設(shè)備硅片傳送系統(tǒng)中硅片存儲(chǔ)臺(tái)(圖中省略)上端的環(huán)形支撐環(huán)300,和安裝在支撐環(huán)圓周上的支撐硅片的3個(gè)支撐腳100。支撐腳底部通過(guò)螺釘200與支撐環(huán)300固定連接。
      [0030]請(qǐng)參閱圖2,圖2是本發(fā)明一種硅片支撐裝置的一種支撐腳結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示,支撐腳為柱形,支撐腳的柱形上端設(shè)有一梯臺(tái)形硅片支撐面101,梯臺(tái)的臺(tái)面即為硅片支撐面,該硅片支撐面為平面。梯臺(tái)形硅片支撐面101外接一立面,該立面為外傾斜面103。外傾斜面103與梯臺(tái)相交,立面的外側(cè)面與支撐腳的柱形外側(cè)面同面。采用梯臺(tái)設(shè)計(jì)是為了縮小作為硅片支撐面的梯臺(tái)面面積,以減小硅片與硅片支撐面之間的接觸面積,提高硅片的利用率。立面為向外側(cè)傾斜的斜面設(shè)計(jì),起到阻擋和滑坡的作用,當(dāng)硅片放置不到位時(shí),可阻擋硅片外移并利用斜面促使其下滑至硅片支撐面。
      [0031]請(qǐng)參閱圖3,圖3是圖2中支撐腳的底面方向結(jié)構(gòu)斜視圖。如圖所示,在支撐腳的底面102向內(nèi)設(shè)有安裝螺孔104,用于與支撐環(huán)的連接。將支撐腳與支撐環(huán)的安裝位置設(shè)置在硅片支撐面的下方,減少了支撐腳的水平方向長(zhǎng)度,有利于支撐環(huán)的縮小。
      [0032]請(qǐng)參閱圖4,圖4是本發(fā)明一種硅片支撐裝置的支撐環(huán)結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示,支撐環(huán)的圓周上端分布設(shè)有3個(gè)向心的凹槽301,凹槽底面設(shè)有向心的腰形孔302。3個(gè)支撐腳的柱形下端分別安裝在3個(gè)凹槽內(nèi),支撐腳底部的安裝螺孔可通過(guò)穿過(guò)支撐環(huán)腰形孔的螺釘與支撐環(huán)固定連接。凹槽設(shè)計(jì)可使支撐腳安裝穩(wěn)固,并起到安裝時(shí)的導(dǎo)向作用。向心腰形孔的設(shè)計(jì),使支撐腳可根據(jù)需要調(diào)整向心方向的安裝位置。
      [0033]請(qǐng)進(jìn)一步參閱圖5,圖5是圖1中的支撐裝置的裝配結(jié)構(gòu)剖視圖。如圖所示,支撐腳100安裝在支撐環(huán)300的凹槽位置,螺釘200穿過(guò)支撐環(huán)凹槽底部的腰形孔,與支撐腳底面的安裝螺孔固定連接。梯臺(tái)形硅片支撐面上支撐有硅片400,當(dāng)硅片放置不到位時(shí),硅片支撐面外接的斜面可阻擋硅片外移,并利用斜面促使其下滑至硅片支撐面。
      [0034]請(qǐng)繼續(xù)參閱圖1,圖1中例舉的支撐腳的結(jié)構(gòu)與圖2、3中的支撐腳一致。如圖所示,支撐環(huán)300的內(nèi)徑小于由3個(gè)支撐腳100的硅片支撐面內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑,也同時(shí)保證了支撐環(huán)的內(nèi)徑小于硅片的直徑,可避免硅片在因偏差滑出支撐裝置時(shí)從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。由于支撐腳可沿腰形孔變換安裝位置,存在一個(gè)最小安裝位置。因此,支撐環(huán)的內(nèi)徑要小于在最小安裝位置時(shí)硅片支撐面的內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑,同樣,保證了支撐環(huán)的內(nèi)徑小于硅片的直徑。
      [0035]本發(fā)明將現(xiàn)有技術(shù)中支撐腳的硅片支撐面位置與裝配位置之間的結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)關(guān)系進(jìn)行改進(jìn),由原來(lái)的硅片支撐面位置在支撐腳的前端(內(nèi)側(cè))、裝配位置在支撐腳的后端(外側(cè))的前后設(shè)置形式,變?yōu)楸景l(fā)明的硅片支撐面在柱形支撐腳的上端、裝配位置在支撐腳的下端的上下設(shè)置形式?,F(xiàn)有技術(shù)中支撐腳的結(jié)構(gòu)形式,使得支撐環(huán)的外徑遠(yuǎn)大于硅片的直徑,造成存儲(chǔ)臺(tái)的占地面積相應(yīng)擴(kuò)大;且支撐環(huán)的內(nèi)徑大于硅片的直徑,在機(jī)械手故障或調(diào)試中,由于機(jī)械手抓取硅片不牢或偏差,會(huì)導(dǎo)致硅片滑出支撐裝置而從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。本發(fā)明的新設(shè)計(jì)使支撐環(huán)得以整體縮小,從而可以節(jié)省硅片存儲(chǔ)臺(tái)的占地面積;同時(shí),可避免硅片在因偏差滑出支撐裝置時(shí)從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。
      [0036]本發(fā)明的整個(gè)裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易實(shí)現(xiàn),可有效節(jié)省設(shè)備占地面積、降低硅片破損率,適于工廠推廣。
      [0037]實(shí)施例二
      [0038]在本實(shí)施例中,請(qǐng)參閱圖6,圖6是本發(fā)明一種硅片支撐裝置支撐腳的另一種結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示,支撐腳外形仍為柱形,其上端的硅片支撐面為斜面形硅片支撐面105,斜面向內(nèi)側(cè)下方傾斜。硅片支撐面的此種結(jié)構(gòu)可減小與硅片之間的接觸面積,提高硅片的利用率。斜面形硅片支撐面105同樣外接有外傾斜面103。外傾斜面103與斜面形硅片支撐面105相交,其外側(cè)面與支撐腳的柱形外側(cè)面同面。此支撐腳的其他結(jié)構(gòu)及與支撐環(huán)的裝配關(guān)系與實(shí)施例一類同,并具有同樣的功能,本例不再贅述。
      [0039]以上所述的僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,所述實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明的專利保護(hù)范圍,因此凡是運(yùn)用本發(fā)明的說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等同結(jié)構(gòu)變化,同理均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種硅片支撐裝置,包括安裝在半導(dǎo)體工藝設(shè)備硅片傳送系統(tǒng)中硅片存儲(chǔ)臺(tái)上端的環(huán)形支撐環(huán),安裝在支撐環(huán)圓周上的支撐硅片的若干支撐腳,其特征在于,所述支撐腳為柱形,其上端設(shè)有硅片支撐面,其下端與所述支撐環(huán)連接;所述支撐環(huán)的內(nèi)徑小于由所述若干支撐腳的所述硅片支撐面內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑。
      2.如權(quán)利要求1所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述支撐腳為柱形,其上端設(shè)有硅片支撐面,所述硅片支撐面外接一立面,所述立面為外傾的斜面,所述立面的外側(cè)面與所述支撐腳的柱形外側(cè)面同面。
      3.如權(quán)利要求1或2所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述硅片支撐面為平面。
      4.如權(quán)利要求1或2所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述硅片支撐面為向內(nèi)側(cè)下傾的斜面。
      5.如權(quán)利要求1所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述支撐腳的柱形上端設(shè)有一梯臺(tái),所述梯臺(tái)的臺(tái)面為所述硅片支撐面,所述梯臺(tái)的臺(tái)面外接一立面,所述立面為外傾的斜面,所述斜面與所述梯臺(tái)相交,所述立面的外側(cè)面與所述支撐腳的柱形外側(cè)面同面。
      6.如權(quán)利要求1所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述支撐腳的底面設(shè)有安裝孔,所述支撐環(huán)設(shè)有貫通的安裝孔,所述支撐腳的所述安裝孔通過(guò)穿過(guò)所述支撐環(huán)的安裝孔的緊固件與所述支撐環(huán)連接。
      7.如權(quán)利要求1所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述支撐腳的底面設(shè)有安裝孔,所述支撐環(huán)設(shè)有貫通的向心腰形孔,所述支撐腳的所述安裝孔通過(guò)穿過(guò)所述支撐環(huán)的腰形孔的緊固件與所述支撐環(huán)連接。
      8.如權(quán)利要求1所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述支撐腳的底面設(shè)有安裝孔,所述支撐環(huán)的圓周上端分布設(shè)有若干向心的凹槽,所述凹槽底面設(shè)有向心的腰形孔,所述支撐腳的柱形下端安裝在所述凹槽內(nèi),所述支撐腳的所述安裝孔通過(guò)穿過(guò)所述支撐環(huán)的腰形孔的緊固件與所述支撐環(huán)連接。
      9.如權(quán)利要求7或8所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述支撐環(huán)的內(nèi)徑小于若干所述支撐腳在最小安裝位置時(shí),其硅片支撐面的內(nèi)側(cè)所圍成的圓的直徑。
      10.如權(quán)利要求1所述的硅片支撐裝置,其特征在于,所述支撐環(huán)的內(nèi)徑小于所述硅片的直徑。
      【文檔編號(hào)】H01L21/687GK103943546SQ201410174575
      【公開(kāi)日】2014年7月23日 申請(qǐng)日期:2014年4月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月28日
      【發(fā)明者】李廣義, 趙宏宇, 徐俊成, 孫文婷 申請(qǐng)人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司
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