自旋處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供自旋處理裝置，能夠抑制朝基板側(cè)的液體反彈并且實現(xiàn)裝置的小型化以及輕量化。實施方式所涉及的自旋處理裝置(1)具備：液體承接部(6)，以從旋轉(zhuǎn)的基板(W)的外周離開并包圍該旋轉(zhuǎn)的基板的方式形成為環(huán)狀，承接并收納從該旋轉(zhuǎn)的基板(W)飛散的液體；杯體(3)，以從該液體承接部(6)的外周離開并包圍該液體承接部的方式形成為環(huán)狀，且形成用于從液體承接部(6)的上表面沿著外周面產(chǎn)生氣流的環(huán)狀的外側(cè)排氣流路(A2)；以及分隔部件(7)，設(shè)置于液體承接部(6)的環(huán)內(nèi)且形成為環(huán)狀，形成用于從液體承接部(6)的內(nèi)周面沿著下表面產(chǎn)生氣流的環(huán)狀的內(nèi)側(cè)排氣流路(A1)。
【專利說明】自旋處理裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明的實施方式涉及自旋處理裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]通常情況下，在半導體裝置、液晶顯示裝置的制造過程中，存在在晶片、玻璃板等的基板上形成電路圖案的成膜工藝、光刻工藝。在這些工藝中，使用自旋處理裝置，對基板執(zhí)行藥液處理、清洗處理、干燥處理等。
[0003]自旋處理裝置把持基板的外周面，將與該基板的中心垂直的軸作為旋轉(zhuǎn)軸使基板旋轉(zhuǎn)，朝該旋轉(zhuǎn)的基板供給處理液(例如，藥液、純水等)來進行濕處理。該自旋處理裝置具備從旋轉(zhuǎn)的基板承接飛散的處理液的環(huán)狀的液體承接部等。該液體承接部從旋轉(zhuǎn)的基板的外周面(端面)離開預(yù)定距離設(shè)置。
[0004]液體承接部需要承接住從基板端飛散的液體，還需要抑制與液體承接部的壁面碰撞的液體朝基板側(cè)反彈。為了抑制該朝基板側(cè)的液體反彈(液體彈跳)，使液體承接部的壁面離開基板端，由此來防止在液體承接部的壁面跳起的液滴返回至基板面。
[0005]但是，如上所述，在為了抑制朝基板側(cè)的液體反彈而使環(huán)狀的液體承接部的壁面(內(nèi)周面)離開基板端的情況下，需要相應(yīng)地增大液體承接部的外形，因此，自旋處理裝置變大且變重。因此，謀求實現(xiàn)抑制朝基板側(cè)的液體反彈、并且實現(xiàn)自旋處理裝置的小型化以及輕量化。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明所要解決的課題在于提供一種能夠抑制朝基板側(cè)的液體反彈并且實現(xiàn)裝置的小型化以及輕量化的自旋處理裝置。
[0007]本發(fā)明的實施方式所涉及的自旋處理裝置，使基板旋轉(zhuǎn)并對該基板進行處理，具備:液體承接部，以從旋轉(zhuǎn)的基板的外周離開并包圍該旋轉(zhuǎn)的基板的方式形成為環(huán)狀，承接并收納從該旋轉(zhuǎn)的基板飛散的液體；杯體，以從液體承接部的外周離開并包圍液體承接部的方式形成為環(huán)狀，且形成用于從液體承接部的上表面沿著外周面產(chǎn)生氣流的環(huán)狀的外側(cè)排氣流路；以及分隔部件，設(shè)置于液體承接部的環(huán)內(nèi)且形成為環(huán)狀，形成用于沿著液體承接部的內(nèi)周面產(chǎn)生氣流的環(huán)狀的內(nèi)側(cè)排氣流路。
[0008]本發(fā)明的實施方式所涉及的自旋處理裝置，使基板旋轉(zhuǎn)并對該基板進行處理，具備液體承接部，該液體承接部以從旋轉(zhuǎn)的基板的外周離開并包圍該旋轉(zhuǎn)的基板的方式形成為環(huán)狀，承接并收納從該旋轉(zhuǎn)的基板飛散的液體，液體承接部具備多個傾斜板材，該多個傾斜板材以相對于旋轉(zhuǎn)的基板的基板面傾斜的方式單獨地設(shè)置于液體承接部的內(nèi)周面，分別承接從旋轉(zhuǎn)的基板飛散的液體。
[0009]根據(jù)上述的實施方式所涉及的自旋處理裝置，能夠抑制朝基板側(cè)的液體反彈并且實現(xiàn)裝置的小型化以及輕量化。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是示出實施方式所涉及的自旋處理裝置的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0011]圖2是示出實施方式所涉及的活動液體承接部位于閉蓋位置的情況下的自旋處理裝置的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0012]圖3是示出實施方式所涉及的活動液體承接部的立體圖。
[0013]圖4是放大示出實施方式所涉及的活動液體承接部所具備的傾斜板材的立體圖。
[0014]圖5是放大實施方式所涉及的活動液體承接部的一部分并與基板一同示出的立體圖。
[0015]圖6是圖5的5A-5A線剖視圖。
[0016]圖7是圖5的6A-6A線剖視圖。
[0017]圖8是在圖5的基板面剖切活動液體承接部而示出的剖視圖。

【具體實施方式】
[0018]參照附圖對一實施方式進行說明。
[0019]如圖1以及圖2所示，實施方式所涉及的自旋處理裝置I具備:作為基座的基體2 ；上表面開口的杯體3 ;在該杯體3內(nèi)旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)體4 ;使該旋轉(zhuǎn)體4旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動馬達5 ;包圍旋轉(zhuǎn)體4的環(huán)狀(在本實施方式中為圓環(huán)狀，以下相同)的液體承接部6 ;包圍基體2與旋轉(zhuǎn)體4之間的空間的環(huán)狀的分隔部件7 ;以及對各部進行控制的控制部(例如，微型計算機等)8。
[0020]基體2形成為板形狀，在該基體2的底面的中心部形成有貫通孔2a。此外，在該基體2的周緣部沿周向以預(yù)定間隔連接有用于使排液流出的多個排出管2b。
[0021 ] 杯體3形成為上表面以及下表面開口的筒狀(環(huán)狀)，在該杯體3的內(nèi)部收納旋轉(zhuǎn)體4及液體承接部6等。該杯體3的上端部以遍及整周朝向徑向內(nèi)側(cè)傾斜的方式形成。杯體3構(gòu)成為能夠借助例如缸等的升降機構(gòu)(未圖示)進行升降。
[0022]旋轉(zhuǎn)體4具備:傳遞來自驅(qū)動馬達5的動力的圓筒狀的傳動體4a ;把持基板W的多個(例如六個)夾持部4b ;保持這些夾持部4b的旋轉(zhuǎn)板4c ;單獨地安裝于各夾持部4b的多個副齒輪4d ;與這些副齒輪4d嚙合的主齒輪4e ;限制主齒輪4e的旋轉(zhuǎn)的停止定位部4f;以及覆蓋各部的罩4g。
[0023]驅(qū)動馬達5由筒狀的定子5a、以及以能夠旋轉(zhuǎn)的方式插入到該定子5a內(nèi)的筒狀的轉(zhuǎn)子5b構(gòu)成。該驅(qū)動馬達5是作為使由各夾持部4b把持(夾持)的基板W旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動源的馬達。驅(qū)動馬達5與控制部8電連接，根據(jù)控制部8的控制進行驅(qū)動。
[0024]傳動體4a以作為其中心軸的旋轉(zhuǎn)軸與驅(qū)動馬達5的旋轉(zhuǎn)軸一致的方式固定于驅(qū)云力馬達5的轉(zhuǎn)子5b,與該轉(zhuǎn)子5b —起旋轉(zhuǎn)。因此,傳動體4a借助驅(qū)動馬達5而旋轉(zhuǎn)。
[0025]此處，在傳動體4a以及轉(zhuǎn)子5b的內(nèi)部空間設(shè)置有處于不旋轉(zhuǎn)的固定狀態(tài)的固定軸U。在該固定軸11的上部設(shè)置有噴嘴頭12，在該噴嘴頭12上形成有朝由各夾持部4b把持的基板W的背面噴出處理液(例如藥液、純水等)的噴嘴12a。在該噴嘴12a上連接有供處理液流動的供給配管13。另外，在旋轉(zhuǎn)體4的上方也設(shè)置有朝基板W的表面供給處理液(例如藥液、純水等)的噴嘴(未圖示)。
[0026]各夾持部4b以預(yù)定間隔例如等間隔設(shè)置在以傳動體4a的旋轉(zhuǎn)軸作為中心的圓周上。實現(xiàn)如下機構(gòu):通過使這些夾持部4b動作，由此進行將基板W的中心定位于傳動體4a的旋轉(zhuǎn)軸的定心并把持基板W。
[0027]夾持部4b具備:與基板W接觸的夾持銷21 ;保持該夾持銷21并旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)板22 ；以及保持該旋轉(zhuǎn)板22并旋轉(zhuǎn)的銷旋轉(zhuǎn)體23。夾持銷21形成為倒錐狀，以從銷旋轉(zhuǎn)體23的旋轉(zhuǎn)軸偏心一定距離的方式固定在旋轉(zhuǎn)板22上，且與旋轉(zhuǎn)板22成為一體。該夾持銷21與銷旋轉(zhuǎn)體23的旋轉(zhuǎn)對應(yīng)地進行偏心旋轉(zhuǎn)。另外，銷旋轉(zhuǎn)體23由旋轉(zhuǎn)板4c所具備的支承筒部24保持為能夠旋轉(zhuǎn)。
[0028]在夾持部4b中，當銷旋轉(zhuǎn)體23朝把持基板W的夾持方向旋轉(zhuǎn)時，旋轉(zhuǎn)板22上的夾持銷21進行偏心旋轉(zhuǎn)，與基板W的外周面(端面)抵接。在其他的夾持部4b中也是相同的，夾持銷21與基板W的外周面抵接，各夾持銷21將基板W定心于傳動體4a的旋轉(zhuǎn)軸的中心并進行把持。另一方面，當銷旋轉(zhuǎn)體23朝與夾持方向相反的松開方向旋轉(zhuǎn)時，旋轉(zhuǎn)板22上的夾持銷21朝與上述相反的方向進行偏心旋轉(zhuǎn)，從基板W的外周面離開。在其他的夾持部4b中也是同樣的，夾持銷21從基板W的外周面離開，松開把持狀態(tài)的基板W。
[0029]旋轉(zhuǎn)板4c固定于傳動體4a的外周面而與該傳動體4a成為一體，保持各夾持部4b并與傳動體4a —起旋轉(zhuǎn)。該旋轉(zhuǎn)板4c借助傳動體4a的旋轉(zhuǎn)而與傳動體4a —起旋轉(zhuǎn)，因此，各夾持部4b也以傳動體4a的旋轉(zhuǎn)軸作為中心進行旋轉(zhuǎn)。
[0030]各副齒輪4d分別單獨地固定于夾持部4b的銷旋轉(zhuǎn)體23的下部，形成為與對應(yīng)的銷旋轉(zhuǎn)體23 —起旋轉(zhuǎn)。這些副齒輪4d形成為與主齒輪4e嚙合，成為借助該主齒輪4e的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)的構(gòu)造。
[0031]主齒輪4e以與各副齒輪4d嚙合的方式借助軸承25能夠旋轉(zhuǎn)地設(shè)置于傳動體4a的外周面。該主齒輪4e被卡簧等的施力部件26朝例如逆時針方向施力。因此，各副齒輪4d朝順時針方向旋轉(zhuǎn)，各銷旋轉(zhuǎn)體23與該旋轉(zhuǎn)聯(lián)動地朝順時針方向(夾持方向)旋轉(zhuǎn)，各夾持銷21進行偏心旋轉(zhuǎn)而與基板W的外周面抵接。由此，基板W由各夾持銷21把持而與旋轉(zhuǎn)體4 一起旋轉(zhuǎn)。
[0032]停止定位部4f具備:用于限制主齒輪4e的旋轉(zhuǎn)的停止銷(缸銷)27 ；以及使該停止銷27上下移動的上下缸28。停止銷27借助上下缸28上升而與主齒輪4e的某個齒卡合，禁止主齒輪4e的旋轉(zhuǎn)。上下缸28與控制部8電連接，根據(jù)控制部8的控制進行上升或者下降。在利用上述的停止銷27限制主齒輪4e的旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，當利用驅(qū)動馬達5使旋轉(zhuǎn)板4c朝逆時針方向旋轉(zhuǎn)時，各副齒輪4d朝逆時針方向旋轉(zhuǎn)。各銷旋轉(zhuǎn)體23與該旋轉(zhuǎn)聯(lián)動地朝逆時針方向(松開方向)旋轉(zhuǎn)，解除各夾持銷21對基板W的保持狀態(tài)。
[0033]罩4g形成為下面開口的殼體狀，覆蓋與傳動體4a的旋轉(zhuǎn)一起旋轉(zhuǎn)的上述各部以防止紊流的產(chǎn)生。在該罩4g上形成有用于使從噴嘴頭12的噴嘴12a排出的處理液通過到上部的開口部31、以及供各夾持部4b的各個旋轉(zhuǎn)板22插入的多個貫通孔32。
[0034]液體承接部6具備環(huán)狀的活動液體承接部(第一液體承接部)6a以及環(huán)狀的固定液體承接部(第二液體承接部)6b。這些活動液體承接部6a以及固定液體承接部6b分別設(shè)置成在旋轉(zhuǎn)體4的外周以該旋轉(zhuǎn)體4的旋轉(zhuǎn)軸作為中心包圍旋轉(zhuǎn)體4。
[0035]活動液體承接部6a由環(huán)狀的內(nèi)壁41、環(huán)狀的外壁42以及將內(nèi)壁41以及外壁42的上端部相連的環(huán)狀的上面壁43構(gòu)成。內(nèi)壁41的上端部形成為遍及整周朝向徑向內(nèi)側(cè)傾斜。與該傾斜相配合，上面壁43的外表面(上面)也形成為沿著遠離旋轉(zhuǎn)體4的方向逐漸變低。另外，在環(huán)狀的內(nèi)壁41與環(huán)狀的外壁42之間存在預(yù)定間隔的環(huán)狀的空間。
[0036]此處，在環(huán)狀的內(nèi)壁41的旋轉(zhuǎn)體4側(cè)的內(nèi)周面沿著該內(nèi)壁41的環(huán)方向設(shè)置有多個傾斜板材41a (詳細情況后述)。這些傾斜板材41a設(shè)置成在從基板W的端部飛散的液滴與環(huán)狀的內(nèi)壁41的內(nèi)周面碰撞之前承接該液滴。
[0037]該活動液體承接部6a構(gòu)成為借助例如缸等的升降機構(gòu)(未圖示)而能夠升降。因此，活動液體承接部6a能夠在液體承接位置(參照圖1)與閉蓋位置(參照圖2)之間移動，在該液體承接位置處，活動液體承接部6a的上端部高于旋轉(zhuǎn)體4上的基板W的高度且各傾斜板材41a承接來自基板W的液體,在該閉蓋位置處,活動液體承接部6a的上端部低于旋轉(zhuǎn)體4上的基板W的高度且防止液體朝固定液體承接部6b流入。因而，在回收藥液的情況下，活動液體承接部6a上升至液體承接位置,承接來自旋轉(zhuǎn)體4上的基板W的液體并使該液體流到固定液體承接部6b中。
[0038]固定液體承接部6b由環(huán)狀的內(nèi)壁51、環(huán)狀的外壁52、以及將內(nèi)壁51與外壁52的下端部相連的環(huán)狀的底面壁53構(gòu)成。在該底面壁53上沿周向以預(yù)定間隔連接有用于回收藥液的多個回收配管53a。另外，在環(huán)狀的內(nèi)壁51與環(huán)狀的外壁52之間存在預(yù)定間隔的環(huán)狀的空間。
[0039]該固定液體承接部6b設(shè)置成活動液體承接部6a的內(nèi)壁41位于環(huán)狀的內(nèi)壁51與環(huán)狀的外壁52之間，能夠收納由活動液體承接部6a的各傾斜板材41a承接的液體。因而，固定液體承接部6b能夠?qū)⑴c活動液體承接部6a的各傾斜板材41a碰撞的液體收納于兩個環(huán)狀壁亦即內(nèi)壁51以及外壁52之間的空間(區(qū)域)。
[0040]此外，固定液體承接部6b形成為如下構(gòu)造:當活動液體承接部6a下降至閉蓋位置時，該活動液體承接部6a成為堵塞固定液體承接部6b的開口的蓋。另外,在活動液體承接部6a下降至閉蓋位置的情況下，利用該活動液體承接部6a堵塞固定液體承接部6b的開口，防止液體流入固定液體承接部6b的內(nèi)部。尤其地，環(huán)狀的外壁52由活動液體承接部6a的外壁42覆蓋，可靠地抑制液體流入固定液體承接部6b，因此，能夠防止液體混合。
[0041]此處，在使上述的活動液體承接部6a上升至液體承接位置的狀態(tài)下，從基板W的端部飛散的液體與活動液體承接部6a的各傾斜板材41a碰撞，沿著這些傾斜板材41a流動而收納于固定液體承接部6b，之后，從各回收配管53a回收。此外，在使活動液體承接部6a下降至閉蓋位置的狀態(tài)下，從基板W的端部飛散的液體從杯體3的內(nèi)周面流入與基體2相連的流路,之后,從各排出管2b排出。這樣，例如能夠根據(jù)液體種類切換液體流路(回收流路和排出流路)。
[0042]另外，在使活動液體承接部6a下降至閉蓋位置的狀態(tài)下，從基板W的端部飛散的液體與杯體3的內(nèi)周面碰撞，但由于在從基板W的端部到杯體3的內(nèi)周面之間需要用于設(shè)置液體承接部6的空間，所以從基板W的端部到杯體3的內(nèi)周面的距離長，進而，也存在排氣流動，因此，能夠防止與杯體3的內(nèi)周面碰撞的液體返回到基板W的面。
[0043]分隔部件7設(shè)置于液體承接部6的環(huán)內(nèi)(環(huán)中)且形成為環(huán)狀，設(shè)置于基體2上。該分隔部件7以形成用于在液體承接部6的外面從內(nèi)周面沿著下表面產(chǎn)生氣流的環(huán)狀內(nèi)側(cè)排氣流路Al的方式固定于基體2。另外，在旋轉(zhuǎn)體4的罩4g的外周面與固定液體承接部6b的內(nèi)壁51之間設(shè)置有環(huán)狀的間隙，在分隔部件7與固定液體承接部6b的內(nèi)壁51之間設(shè)置與該間隙相連的環(huán)狀的空間，由此形成內(nèi)側(cè)排氣流路Al。
[0044]此處，杯體3以從液體承接部6的外周離開且包圍該液體承接部6的方式形成為環(huán)狀，且設(shè)置成形成用于從液體承接部6的外面中的上表面沿著外周面產(chǎn)生氣流的環(huán)狀的外側(cè)排氣流路A2。在杯體3與活動液體承接部6a的外壁42之間設(shè)置環(huán)狀的間隙，該間隙的空間形成為外側(cè)排氣流路A2。
[0045]外側(cè)排氣流路A2的粗細(截面尺寸)根據(jù)活動液體承接部6a的升降而變化，例如當活動液體承接部6a上升時逐漸變細，而當活動液體承接部6a下降時逐漸變粗。因此，也能夠?qū)ν鈧?cè)排氣流路A2的粗細進行控制。作為該控制的一例，在基板W的旋轉(zhuǎn)為高速旋轉(zhuǎn)時的情況下(干燥處理)，為了增大內(nèi)側(cè)的排氣量而減小外側(cè)排氣流路A2的粗細，在基板W的旋轉(zhuǎn)為低速旋轉(zhuǎn)時的情況下(藥液處理)，增大外側(cè)排氣流路A2的粗細。
[0046]此外，上述的內(nèi)側(cè)排氣流路Al以及外側(cè)排氣流路A2與連接于管道的排氣流路A3連接。該排氣流路A3是利用基體2和分隔板61對空間進行劃分而成的排氣空間。因而，內(nèi)側(cè)排氣流路Al的氣流以及外側(cè)排氣流路A2的氣流在排氣流路A3中混合而成為排氣流路A3的氣流。另外，在基板W旋轉(zhuǎn)時，產(chǎn)生空氣從基板W側(cè)通過內(nèi)側(cè)排氣流路Al而流動，進而，從基板W側(cè)通過外側(cè)排氣流路A2而流動的氣流，因此，能夠抑制從基板W的端部飛散的液體返回到基板W側(cè)那樣的液體反彈。
[0047]接著，對活動液體承接部6a進行詳細說明。
[0048]如圖3所述，活動液體承接部6a由環(huán)狀的內(nèi)壁41、環(huán)狀的外壁42、以及將內(nèi)壁41與外壁42的上端部相連的環(huán)狀的上面壁43構(gòu)成。另外，內(nèi)壁41的上端部形成為遍及整周朝徑向內(nèi)側(cè)傾斜。
[0049]在環(huán)狀的內(nèi)壁41的內(nèi)周面的上部側(cè)沿著周向以等間隔配置有多個供從旋轉(zhuǎn)的基板W放出的液滴直接碰撞的傾斜板材41a。這些傾斜板材41a是板狀的平面部件(液體承接板材)，分別形成為相對于與基板W的中心垂直的基板W的旋轉(zhuǎn)軸以預(yù)定的傾斜角度沿著環(huán)狀的內(nèi)壁41的圓周方向(基板W的圓周方向)逐漸傾斜。
[0050]此外，在環(huán)狀的外壁42的外周面沿著外周方向設(shè)置有多個(例如三個)供升降軸(未圖示)安裝的安裝部42。升降軸是借助缸等的升降機構(gòu)(未圖示)而沿上下方向升降的軸。由此，活動液體承接部6a沿上下方向升降。
[0051]此處，如圖4所示，傾斜板材41a配置成包含于相對于自旋旋轉(zhuǎn)軸Z以圖示的角度α以及β傾斜的平面C3。此外，該傾斜板材41a以預(yù)定的間隔角度Y依次配置于環(huán)狀的內(nèi)壁41。
[0052]此外，如圖5所示，在基板W沿箭頭BI的方向旋轉(zhuǎn)的情況下，在基板W上流動且從基板端的點P放出的液滴沿箭頭B2的方向(通過點P的切線方向)飛散。該飛散的液滴與傾斜板材41a碰撞。該傾斜板材41a形成為相對于液滴飛散的箭頭B2的方向以小的角度(例如45度以下)與該液滴碰撞。
[0053]進而，如圖6所示，當從點P觀察內(nèi)壁41側(cè)時，成為內(nèi)壁41的內(nèi)周面由各傾斜板材41a覆蓋的狀態(tài)。例如，傾斜板材41a分別設(shè)置成相比內(nèi)壁41的內(nèi)周面而先與從基板端的點P沿基板旋轉(zhuǎn)的切線方向(圖5的箭頭B2的方向)延伸的假想線交叉。由此，能夠利用傾斜板材41a可靠地承接住從點P放出的液滴，能夠防止從該點P放出的液滴與內(nèi)壁41的內(nèi)周面碰撞。
[0054]此外,如圖7所示,從基板端的點P放出的液滴沿箭頭B2方向飛散,在點Q處與傾斜板材41a的下表面(朝下傾斜的傾斜面)碰撞，直接沿著下表面移動或者該液滴的一部分在下表面反彈而在下方的傾斜板材41a的上表面(朝下傾斜的傾斜面)移動。另外，即便液滴在上述的下表面分離，也剩余旋轉(zhuǎn)方向的成分并飛散，因此，幾乎不會發(fā)生朝基板W側(cè)返回那樣的反彈，利用上述的傾斜板材41a能夠抑制朝基板W側(cè)返回那樣的液體反彈。
[0055]此外，如圖8所示，各傾斜板材41a以基板端的點Pl的切線(假想線)LI通過傾斜板材41a的端點Rl，進而通過下一個傾斜板材41a (在基板W的旋轉(zhuǎn)方向上相鄰的傾斜板材41a)的傾斜面上的點R2那樣的間距(間隔)配置。當以該間距配置傾斜板材41a時，通過點R2所在的傾斜板材41a的端點R3的自基板端起引出的切線(假想線)L2通過基板端的點P2。因此，從點Pl到點P2的角度成為傾斜板材41a的配置角度。
[0056]因而，在從點Pl到點P2之間因基板W的旋轉(zhuǎn)而放出的液滴在點R2到點R3之間發(fā)生碰撞,傾斜板材41a承接住點Pl到點P2之間的全部液滴。由此，從基板W的端部飛散的液滴不會與活動液體承接部6a的內(nèi)壁41的內(nèi)周面直接碰撞，因此，能夠大幅度降低朝基板W側(cè)返回的液體反彈。通過像這樣在活動液體承接部6a的內(nèi)壁41的內(nèi)周面配置各傾斜板材41a，能夠獲得使液體反彈方向不朝向基板W側(cè)的結(jié)構(gòu)。因此，能夠縮短活動液體承接部6a與基板W的端部之間的距離，能夠減小活動液體承接部6a的外形，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置尺寸的小型化進而實現(xiàn)輕量化。
[0057]另外，為了可靠地防止液體反彈而需要縮窄相鄰的傾斜板材41a的間隔，導致該傾斜板材41a的個數(shù)增加。為了以等間隔且以預(yù)定角度配置多個傾斜板材41a而需要形成為在活動液體承接部6a的內(nèi)壁41能夠進行板材固定和角度限制的構(gòu)造，增厚傾斜板材41a的板厚，由此導致活動液體承接部6a變重。另外，在切換供來自基板W上的液體流動的液體流路的構(gòu)造中，需要使液體承接部(活動液體承接部)升降的機構(gòu)，因此優(yōu)選液體承接部為輕量。
[0058]此處，作為活動液體承接部6a的制造方法，能夠使用機械加工、樹脂焊接等各種方法。另外，液體承接部6與藥液接觸，因此通過耐藥品性高的部件制作，但作為針對在半導體、液晶等的制造工序中進行處理的藥品具有耐性的部件，優(yōu)選使用含氟類樹脂。然而，難以通過機械加工等從含氟類樹脂制造活動液體承接部6a，即難以進行薄壁、復(fù)雜的形狀的成形。
[0059]因此，為了能夠進行上述的板材固定和角度限制，進而實現(xiàn)活動液體承接部6a的輕量化，優(yōu)選使用基于三維層疊造型法(3D打印)的制造方法。在該情況下，能夠?qū)?fù)雜的三維形狀進行成形，能夠形成薄壁且保持準確的傾斜的形狀的傾斜板材41a。
[0060]詳細來說，利用三維層疊造型法形成樹脂部件(活動液體承接部6a的主體)，利用含氟樹脂(例如，聚四氟乙烯)對該形成的樹脂部件進行涂層，由此來制造活動液體承接部6a。借助利用該含氟樹脂的涂層能夠大幅度提高針對藥液的耐藥品性。在三維層疊造型法中，以依次層疊樹脂的方式成形樹脂部件，因此，完成的樹脂部件具有網(wǎng)眼狀的間隙，例如成為具有微小的連續(xù)氣泡的連續(xù)氣泡構(gòu)造體那樣的部件。因此，當利用含氟樹脂進行涂層時，在樹脂部件的網(wǎng)眼狀的間隙填充含氟樹脂，涂層后的樹脂部件成為被含氟樹脂覆蓋，且內(nèi)置網(wǎng)眼狀的含氟樹脂體的樹脂部件。
[0061]接著，對上述自旋處理裝置I的自旋處理動作進行說明。
[0062]在自旋處理動作中，在利用各夾持銷21把持基板W的狀態(tài)下，利用驅(qū)動馬達5使旋轉(zhuǎn)體4旋轉(zhuǎn)，朝旋轉(zhuǎn)的基板W的上表面以及下表面的兩面(表里)供給處理液(例如藥液、純水等)。在經(jīng)過預(yù)定時間后而停止該供給，之后，旋轉(zhuǎn)體4以比液體供給時快的速度旋轉(zhuǎn)。當該處理液的供給、甩開時，供給至基板W的上下表面的處理液借助通過旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的離心力以及氣流朝基板W的徑向外側(cè)流動，并從其外周緣飛散。在這樣的處理中，通過活動液體承接部6a的移動(升降)，能夠在回收處理液的回收流路與排出該處理液的排出流路之間進行切換。
[0063]在液體流路為回收流路的情況下，即在活動液體承接部6a上升至液體承接位置來回收處理液的情況下(參照圖1)，從基板W的端部飛散的液體與活動液體承接部6a的各傾斜板材41a碰撞，沿著這些傾斜板材41a流動而收納于固定液體承接部6b，之后，從各回收配管53a回收。
[0064]此時，產(chǎn)生從基板W側(cè)通過內(nèi)側(cè)排氣流路Al流動的氣流，進而產(chǎn)生從基板W側(cè)通過外側(cè)排氣流路A2流動的氣流，因此，能夠抑制從基板W的端部飛散的液體返回到基板W側(cè)那樣的液體反彈。詳細來說，在液體承接部6的旋轉(zhuǎn)體4側(cè)及其相反側(cè)這雙方存在環(huán)狀的排氣流路、即內(nèi)側(cè)排氣流路Al以及外側(cè)排氣流路A2，由此，伴隨著基板W的旋轉(zhuǎn)而放出的氣流在這些內(nèi)側(cè)排氣流路Al以及外側(cè)排氣流路A2中流動。因此，即使在液體承接部6中產(chǎn)生液霧，也能夠抑制該霧返回到基板W側(cè)。
[0065]進而，各傾斜板材41a設(shè)置于環(huán)狀的內(nèi)壁41的內(nèi)周面，因此，在從基板W的端部飛散的液滴與環(huán)狀的內(nèi)壁41的內(nèi)周面碰撞之前承接該液滴。由此，從基板W的端部飛散的液滴不會與活動液體承接部6a的內(nèi)壁41的內(nèi)周面直接碰撞，因此，能夠大幅度降低與該內(nèi)周面碰撞而返回到基板W側(cè)的液體反彈。
[0066]另一方面，在液體流路為排出流路的情況下，即在活動液體承接部6a下降至閉蓋位置而排出處理液的情況下(參照圖2)，從基板W的端部飛散的液體與杯體3的內(nèi)周面碰撞，在從杯體3連向基體2的流路中流動，之后，從各排出管2b排出。
[0067]此時，從基板W的端部飛散的液體雖然與杯體3的內(nèi)周面碰撞，但由于從基板W的端部到杯體3的內(nèi)周面的距離足夠長，進而存在排氣流動，所以能夠抑制與杯體3的內(nèi)周面碰撞后的液體返回至基板W的面。
[0068]如以上說明的那樣，根據(jù)本實施方式，通過設(shè)置上述的內(nèi)側(cè)排氣流路Al以及外側(cè)排氣流路A2，伴隨著基板W的旋轉(zhuǎn)而放出的氣流在這些內(nèi)側(cè)排氣流路Al以及外側(cè)排氣流路A2中流動，因此，能夠抑制從基板W的端部飛散的液體返回到基板W側(cè)那樣的液體反彈。由此，能夠縮短基板W的端部與液體承接部6之間的分離距離，能夠減小液體承接部6的外形，因此，能夠抑制朝基板W側(cè)的液體反彈并且實現(xiàn)裝置的小型化以及輕量化。
[0069]進而，通過在液體承接部6、即活動液體承接部6a的環(huán)狀的內(nèi)壁41的內(nèi)周面設(shè)置各傾斜板材41a，能夠在使從基板W的端部飛散的液滴與內(nèi)壁41的內(nèi)周面碰撞之前承接該液滴。由此，飛散的液滴不會與活動液體承接部6a的內(nèi)壁41的內(nèi)周面直接碰撞，因此，能夠大幅度降低返回到基板W側(cè)的液體反彈。因此，能夠縮短基板W的端部與液體承接部6之間的分離距離，能夠減小液體承接部6的外形，因此能夠抑制朝基板W側(cè)的液體反彈并且實現(xiàn)裝置的小型化以及輕量化。
[0070]另外，在上述的實施方式中，作為基板W，對圓形的晶片那樣的圓板狀的基板進行處理，但基板W的形狀并不被限定，例如，作為基板W，也可以對液晶面板那樣的矩形板狀的玻璃基板進行處理。
[0071]此外，在上述的實施方式中，對利用一個活動液體承接部6a回收一種液體的實施方式進行了說明，但例如也可以在固定液體承接部6b的中間設(shè)置環(huán)狀的分隔板，并列(上下雙層)設(shè)置兩個活動液體承接部6a，由此將分開的液體(回收的液體)增加到兩種，該回收的液體的種類數(shù)量并無特別限定。
[0072]以上，對本發(fā)明的幾個實施方式進行了說明，這些實施方式作為例子而示出，并不意圖對發(fā)明的范圍進行限定。這些新的實施方式能夠以其他各種方式加以實施，在不脫離發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)能夠進行各種省略、置換、變更。這些實施方式及其變形包含于發(fā)明的范圍及主旨中，并且包含于權(quán)利要求書所記載的發(fā)明和與其等同的范圍中。
【權(quán)利要求】
1.一種自旋處理裝置，使基板旋轉(zhuǎn)并對所述基板進行處理，其特征在于，具備: 液體承接部，以從旋轉(zhuǎn)的基板的外周離開并包圍該旋轉(zhuǎn)的基板的方式形成為環(huán)狀，承接并收納從該旋轉(zhuǎn)的基板飛散的液體； 杯體，以從所述液體承接部的外周離開并包圍所述液體承接部的方式形成為環(huán)狀，且形成用于從所述液體承接部的上表面沿著外周面產(chǎn)生氣流的環(huán)狀的外側(cè)排氣流路；以及分隔部件，設(shè)置于所述液體承接部的環(huán)內(nèi)且形成為環(huán)狀，形成用于沿著所述液體承接部的內(nèi)周面產(chǎn)生氣流的環(huán)狀的內(nèi)側(cè)排氣流路。
2.如權(quán)利要求1所述的自旋處理裝置，其特征在于， 所述液體承接部具備多個傾斜板材，所述多個傾斜板材以相對于旋轉(zhuǎn)的基板的基板面傾斜的方式單獨地設(shè)置于所述液體承接部的內(nèi)周面，分別承接從旋轉(zhuǎn)的基板飛散的液體。
3.一種自旋處理裝置，使基板旋轉(zhuǎn)并對所述基板進行處理，其特征在于， 所述自旋處理裝置具備液體承接部，該液體承接部以從旋轉(zhuǎn)的基板的外周離開并包圍該旋轉(zhuǎn)的基板的方式形成為環(huán)狀，承接并收納從該旋轉(zhuǎn)的基板飛散的液體， 所述液體承接部具備多個傾斜板材，所述多個傾斜板材以相對于旋轉(zhuǎn)的基板的基板面傾斜的方式單獨地設(shè)置于所述液體承接部的內(nèi)周面，分別承接從旋轉(zhuǎn)的基板飛散的液體。
4.如權(quán)利要求2所述的自旋處理裝置，其特征在于， 所述多個傾斜板材分別設(shè)置成:相比所述液體承接部的內(nèi)周面而先與從所述基板的端部沿著基板旋轉(zhuǎn)的切線方向延伸的假想線交叉。
5.如權(quán)利要求3所述的自旋處理裝置，其特征在于， 所述多個傾斜板材分別設(shè)置成:相比所述液體承接部的內(nèi)周面而先與從所述基板的端部沿著基板旋轉(zhuǎn)的切線方向延伸的假想線交叉。
6.如權(quán)利要求2所述的自旋處理裝置，其特征在于， 所述液體承接部具備: 環(huán)狀的活動液體承接部，形成為能夠升降，在內(nèi)周面具有所述多個傾斜板材；以及 環(huán)狀的固定液體承接部，收納由所述多個傾斜板材承接的液體。
7.如權(quán)利要求3所述的自旋處理裝置，其特征在于， 所述液體承接部具備: 環(huán)狀的活動液體承接部，形成為能夠升降，在內(nèi)周面具有所述多個傾斜板材；以及 環(huán)狀的固定液體承接部，收納由所述多個傾斜板材承接的液體。
8.如權(quán)利要求4所述的自旋處理裝置，其特征在于， 所述液體承接部具備: 環(huán)狀的活動液體承接部，形成為能夠升降，在內(nèi)周面具有所述多個傾斜板材；以及 環(huán)狀的固定液體承接部，收納由所述多個傾斜板材承接的液體。
9.如權(quán)利要求5所述的自旋處理裝置，其特征在于， 所述液體承接部具備: 環(huán)狀的活動液體承接部，形成為能夠升降，在內(nèi)周面具有所述多個傾斜板材；以及 環(huán)狀的固定液體承接部，收納由所述多個傾斜板材承接的液體。
10.如權(quán)利要求1至9中任一項所述的自旋處理裝置，其特征在于， 所述液體承接部由被含氟樹脂覆蓋且內(nèi)置網(wǎng)眼狀的含氟樹脂體的樹脂部件形成。
【文檔編號】H01L21/304GK104425235SQ201410431485
【公開日】2015年3月18日 申請日期:2014年8月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月30日
【發(fā)明者】古矢正明 申請人:芝浦機械電子株式會社