氣泡除去方法、氣泡除去裝置和脫氣裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種氣泡除去方法、氣泡除去裝置和脫氣裝置，該氣泡除去方法能夠通過從過濾器除去微小氣泡來改善過濾器的性能，氣泡除去方法包括：對來自供給源的處理液進(jìn)行脫氣，制作高脫氣液的步驟(高脫氣液制作)；將制作的高脫氣液以第一處理液流量從泵裝置(P1)供給至過濾器裝置(F1)的步驟(虛擬流通液體)；將高脫氣液以比第一處理液流量大的第二處理液流量從泵裝置(P1)供給至過濾器裝置(F1)的步驟(初始流通液體)；和保持使高脫氣液從泵裝置(P1)向過濾器裝置(F1)流動規(guī)定時間的狀態(tài)的步驟(流通液體)。
【專利說明】氣泡除去方法、氣泡除去裝置和脫氣裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及氣泡除去方法、氣泡除去裝置、脫氣裝置和計算機可讀取的記錄介質(zhì)。
【背景技術(shù)】
[0002]在進(jìn)行基板(例如，半導(dǎo)體基板)的微細(xì)加工等時，一般向基板的表面排出處理液。該處理液中可能包含原來的顆粒(微細(xì)粒子)等異物。此外，當(dāng)處理液在配管中流動至排出口時，顆粒等異物有可能從配管混入處理液中。因此，例如在專利文獻(xiàn)I的基板處理裝置中，在處理液的路徑的途中配置過濾器，利用該過濾器除去這樣的異物。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0004]專利文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)1:日本特開平7-326570號公報
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]發(fā)明想要解決的技術(shù)問題
[0007]但是，存在處理液內(nèi)包含氣泡(氣體)的情況。在處理液通過過濾器時過濾器成為阻力，與過濾器的上游側(cè)相比，下游側(cè)的壓力下降，因此在處理液中所包含的氣體在過濾器內(nèi)游離。由此，氣泡混入到過濾器中，使得過濾器的有效面積變小，過濾器的性能下降。于是，在對比文件I中公開了利用氣體消除管將積存在過濾器內(nèi)的氣泡排出至過濾器外的技術(shù)。
[0008]但是，雖然能夠利用氣體消除管將過濾器內(nèi)的比較大的氣泡排出到過濾器外，但是難以將微小氣泡(micro-bubble:微泡)排出到過濾器外。
[0009]因此，本發(fā)明的目的是提供能夠通過從過濾器除去微小氣泡來改善過濾器的性能的氣泡除去方法、氣泡除去裝置、處理液的脫氣裝置和計算機可讀取的記錄介質(zhì)。
[0010]用于解決技術(shù)課題的技術(shù)方案
[0011]本發(fā)明的一個方面的氣泡除去方法包括:第一步驟，經(jīng)由與基板的處理液的供給源側(cè)相比容器側(cè)的流路面積較小的脫氣噴嘴，向容器內(nèi)供給處理液，對來自供給源的處理液進(jìn)行脫氣；第二步驟，在第一步驟之后，將作為在第一步驟中進(jìn)行了脫氣處理后的處理液的脫氣處理完成液，以第一處理液流量從容器供給至具有過濾器的過濾器裝置；第三步驟，在第二步驟之后，將脫氣處理完成液以比第一處理液流量大的第二處理液流量從容器供給至過濾器裝置；和第四步驟，在第三步驟之后，保持使脫氣處理完成液從容器向過濾器裝置流動規(guī)定時間的狀態(tài)。
[0012]在本發(fā)明的一個方面的氣泡除去方法中，首先在第二步驟中，將脫氣處理完成液以第一處理液流量從容器供給至過濾器裝置，接著，在第三步驟中，將脫氣處理完成液以比第一處理液流量大的第二處理液流量從容器供給至過濾器裝置。因此，在第二步驟中，脫氣處理完成液逐漸浸透至過濾器裝置內(nèi)的過濾器，之后，在第三步驟中，脫氣處理完成液浸透至大致整個過濾器。在過濾器從最開始接觸比較大的流量的脫氣處理完成液的情況下，存在脫氣處理完成液不會浸透至整個過濾器，大小的氣泡保持存在于過濾器內(nèi)的狀態(tài)的問題，而通過經(jīng)由過上述那樣的第二步驟和第三步驟，脫氣處理完成液會逐漸浸透至過濾器，因此能夠?qū)⑦^濾器內(nèi)的大小的氣泡排出到過濾器外。而且，在本發(fā)明的一個方面的氣泡除去方法中，在第一步驟中，利用脫氣噴嘴進(jìn)行處理液的脫氣，制作脫氣處理完成液。該脫氣處理完成液，在與存在于過濾器內(nèi)的微小氣泡接觸時，發(fā)揮捕獲該微小氣泡的功能。因此，通過使用脫氣處理完成液，能夠更有效地將過濾器內(nèi)的微小氣泡排出至過濾器外。進(jìn)一步，在本發(fā)明的一個方面的氣泡除去方法中，在第四步驟中，保持使脫氣處理完成液從容器向過濾器裝置流動規(guī)定時間的狀態(tài)。因此，能夠利用脫氣處理完成液，更有效地將過濾器內(nèi)的氣泡排出至過濾器外。采用以上方式的結(jié)果是，能夠改善過濾器的性能。但是，通過交換過濾器也能夠改善過濾器性能，而為了交換過濾器，必須停止用于向基板排出處理液的系統(tǒng)，存在生產(chǎn)率下降的問題。但是，在本發(fā)明的一個方面的氣泡除去方法中，通過流通脫氣處理完成液，能夠改善過濾器的性能，沒有必要停止該系統(tǒng)，因此基本不存在生產(chǎn)率下降的問題。另外，在過濾器被使用一定期間后，結(jié)果在氣泡蓄積在過濾器內(nèi)過濾器的性能下降的情況下、由于過濾器交換等而將干燥狀態(tài)的過濾器設(shè)置在過濾器裝置的情況下，均能夠應(yīng)用本發(fā)明的一個方面的氣泡除去方法。特別是在前者的情況下，每當(dāng)經(jīng)過規(guī)定期間過濾器性能下降時，通過除去過濾器內(nèi)的氣泡，能夠降低過濾器的交換次數(shù)。由此，能夠提高生產(chǎn)率。
[0013]在第三步驟之后且在第四步驟之前，還可以包括對過濾器裝置內(nèi)進(jìn)行加壓的第五步驟。在此情況下，脫氣處理完成液能夠更容易浸透至整個過濾器。因此，能夠進(jìn)一步促使將氣泡排出到過濾器外。
[0014]在第一步驟之前，還可以包括將存積在容器內(nèi)的處理液排出至容器外的的第六步驟。在此情況下，通過預(yù)先排出容器內(nèi)的處理液，能夠?qū)⒏嗟拿摎馓幚硗瓿梢捍娣e在容器內(nèi)。
[0015]容器是容積可變的泵，在第一步驟中，使泵的容積擴(kuò)大，將處理液從供給源供給至泵內(nèi)，在第二步驟?第四步驟中，使泵的容積縮小，將脫氣處理完成液從泵供給至過濾器裝置內(nèi)。
[0016]本發(fā)明的另一個方面的氣泡除去裝置包括:第一容器，其暫時存積從供給源供給的基板的處理液；第一脫氣噴嘴，其位于供給源與第一容器之間，與供給源側(cè)相比第一容器側(cè)的流路面積較小；排出管路，其將從第一容器排出的處理液向基板排出；過濾器裝置，其設(shè)置于排出管路且具有過濾器；供給排出部，其將處理液從供給源經(jīng)由第一脫氣噴嘴供給至第一容器內(nèi)，使作為進(jìn)行了脫氣處理后的處理液的脫氣處理完成液存積在第一容器內(nèi)，并使第一容器內(nèi)的脫氣處理完成液排出至排出管路；和控制部，其控制供給排出部的動作，控制部使供給排出部執(zhí)行:將脫氣處理完成液以第一處理液流量從第一容器供給至過濾器裝置的第一動作；在第一動作之后，將脫氣處理完成液以比第一處理液流量大的第二處理液流量從第一容器供給至過濾器裝置的第二動作；和在第二動作之后，保持使脫氣處理完成液從第一容器向過濾器裝置流動規(guī)定時間的狀態(tài)的第三動作。
[0017]在本發(fā)明的另一個方面的氣泡除去裝置中，控制部使供給排出部執(zhí)行將脫氣處理完成液以第一處理液流量從第一容器供給至過濾器裝置的第一動作。接著，控制部使供給排出部執(zhí)行將脫氣處理完成液以比第一處理液流量大的第二處理液流量從第一容器供給至過濾器裝置的第二動作。因此，通過供給排出部的第一動作，脫氣處理完成液逐漸浸透至過濾器裝置內(nèi)的過濾器，之后，通過供給排出部的第二動作，脫氣處理完成液浸透至大致整個過濾器。在過濾器從最開始接觸比較大的流量的脫氣處理完成液的情況下，存在脫氣處理完成液不會浸透至整個過濾器，大小的氣泡保持存在于過濾器內(nèi)的狀態(tài)的問題，而通過經(jīng)過上述那樣的第一動作和第二動作，脫氣處理完成液會逐漸浸透至過濾器，因此能夠?qū)⑦^濾器內(nèi)的大小的氣泡排出到過濾器外。而且，在本發(fā)明的另一個方面的氣泡除去裝置中，利用脫氣噴嘴進(jìn)行處理液的脫氣，制作脫氣處理完成液。該脫氣處理完成液，在與存在于過濾器內(nèi)的微小氣泡接觸時，發(fā)揮捕獲該微小氣泡的功能。因此，通過使用脫氣處理完成液，能夠更有效地將過濾器內(nèi)的微小氣泡排出至過濾器外。進(jìn)一步，在本發(fā)明的一個方面的氣泡除去裝置中，控制部使供給排出部執(zhí)行保持使脫氣處理完成液從第一容器向過濾器裝置流動規(guī)定時間的狀態(tài)的第三動作。因此，能夠利用脫氣處理完成液，更有效地將過濾器內(nèi)的氣泡排出至過濾器外。采用以上方式的結(jié)果是，能夠改善過濾器的性能。但是，通過交換過濾器也能夠改善過濾器性能，而為了交換過濾器，必須停止用于向基板排出處理液的系統(tǒng)，存在生產(chǎn)率下降的問題。但是，在本發(fā)明的另一個方面的氣泡除去裝置中，通過流通脫氣處理完成液，能夠改善過濾器的性能，沒有必要停止該系統(tǒng)，因此基本不存在生產(chǎn)率下降的問題。另外，在過濾器被使用一定期間后，結(jié)果氣泡蓄積在過濾器內(nèi)過濾器的性能下降的情況下、由于過濾器交換等而將干燥狀態(tài)的過濾器設(shè)置在過濾器裝置的情況下，均能夠應(yīng)用本發(fā)明的另一個方面的氣泡除去裝置。特別是在前者的情況下，每當(dāng)經(jīng)過規(guī)定期間過濾器性能下降時，通過除去過濾器內(nèi)的氣泡，能夠降低過濾器的交換次數(shù)。由此，能夠提高生產(chǎn)率。
[0018]本發(fā)明的另一個方面的氣泡除去裝置也可以采用如下方式:第一容器是容積可變的泵，控制部，在使供給排出部執(zhí)行第一動作時，以第一壓力對泵進(jìn)行加壓，使泵的容積縮小，在使供給排出部執(zhí)行第二動作和第三動作時，以比第一壓力高的第二壓力對泵進(jìn)行加壓，使泵的容積縮小。
[0019]還包括循環(huán)管路，其從排出管路分支，將處理液送回第一容器，過濾器裝置設(shè)置在排出管路中與循環(huán)管路的分支點相比更靠第一容器側(cè)的位置。在此情況下，循環(huán)管路在過濾器裝置的下游側(cè)從排出管路分支。因此，沒有必要在循環(huán)管路和排出管路雙方設(shè)置過濾器裝置，能夠削減過濾器裝置的數(shù)量。
[0020]在循環(huán)管路設(shè)置有將在循環(huán)管路中流動的處理液排出的排出管路。其中，在由于過濾器交換等干燥狀態(tài)的過濾器設(shè)置在過濾器裝置中的情況下，過濾器中包含大量的顆粒。當(dāng)使脫氣處理完成液在這樣的狀態(tài)的過濾器中流通時，雖然能夠從過濾器內(nèi)排出氣體和顆粒，但是大量的顆粒相應(yīng)地存在于脫氣處理完成液中，導(dǎo)致脫氣處理完成液被污染。但是，如上所述，在循環(huán)管路設(shè)置有排出管路的情況下，能夠不將被污染的脫氣處理完成液送回第一容器，而排出至系統(tǒng)外。
[0021]還包括:第二容器，其暫時存積從供給源供給的基板的處理液；和第二脫氣噴嘴，其位于供給源與第二容器之間，與供給源側(cè)相比第二容器側(cè)的流路面積較小，用于對基板排出的處理液分別從第一容器和第二容器排出至排出管路，供給排出部使處理液從供給源經(jīng)由第二脫氣噴嘴供給至第二容器內(nèi)，使作為進(jìn)行了脫氣處理后的處理液的脫氣處理完成液存積在第二容器內(nèi)，并使第二容器內(nèi)的脫氣處理完成液排出至排出管路，控制部使供給排出部執(zhí)行動作，使得在第一容器內(nèi)的脫氣處理完成液被供給至過濾器裝置時，不使第二容器內(nèi)的脫氣處理完成液供給至過濾器裝置，并且在第二容器內(nèi)的脫氣處理完成液被供給至過濾器裝置時，不使第一容器內(nèi)的脫氣處理完成液供給至過濾器裝置。但是，當(dāng)脫氣處理完成液與過濾器接觸時，包含在過濾器中的顆粒逐漸溶入到脫氣處理完成液。因此，當(dāng)脫氣處理完成液的液流滯留在過濾器中時，脫氣處理完成液中的顆粒濃度逐漸變高。當(dāng)這樣脫氣處理完成液經(jīng)由排出管路被排出至基板時，大量的顆粒附著在基板上，因此被處理后的基板產(chǎn)生缺陷的可能性變高。但是，在如上所述控制部使供給排出部動作的情況下，即使脫氣處理完成液從一個容器排出完，也能夠從另一個容器排出脫氣處理完成液。因此，能夠繼續(xù)向過濾器裝置供給脫氣處理完成液。因此，能夠抑制脫氣處理完成液中的顆粒濃度的增力口，所以，能夠抑制在基板廣生缺陷的可能性。
[0022]排出管路可以分支成多個子管路。
[0023]排出管路可以在過濾器裝置的下游側(cè)分支成多個子管路。在此情況下，能夠使通過過濾器后的脫氣處理完成液流向多個子管路。
[0024]本發(fā)明的又一方面的脫氣裝置包括:容積可變的泵，其暫時存積從供給源供給的基板的處理液；脫氣噴嘴，其位于供給源與泵之間，與供給源側(cè)相比泵側(cè)的流路面積較小；排出管路，其用于將從泵排出的處理液向基板排出；和供給排出部，其使處理液從供給源經(jīng)由脫氣噴嘴供給至泵內(nèi)，使作為進(jìn)行了脫氣處理后的處理液的脫氣處理完成液存積在泵內(nèi)，并使泵內(nèi)的脫氣處理完成液排出至排出管路，供給排出部在使處理液從供給源經(jīng)由脫氣噴嘴供給至泵內(nèi)時，有選擇地使第一壓力或比第一壓力低的第二壓力作用于泵。
[0025]在本發(fā)明的又一方面的脫氣裝置中，在使處理液從供給源經(jīng)由脫氣噴嘴供給至泵內(nèi)時，供給排出部有選擇地使第一壓力或比第一壓力低的第二壓力作用于泵，由此能夠使泵的容積擴(kuò)大。因此，在基于第二壓力使泵減壓的情況下，與選擇第一壓力的情況相比，泵以更好的勢頭動作，處理液以更快的流速被引入泵內(nèi)。因此，處理液的壓力更加下降，能夠制造混入處理液內(nèi)的氣體被從處理液內(nèi)更多地脫氣了的高脫氣液。結(jié)果是，通過使高脫氣液浸透過濾器，能夠更有效地捕獲存在過濾器內(nèi)的微小氣泡。因此，能夠改善過濾器的性倉泛。
[0026]還具備收納泵的殼體，供給排出部包括:噴射器，其有選擇地使流體以第一噴射器流量或比第一噴射器流量低的第二噴射器流量從入口側(cè)向出口側(cè)流通；和配管，其使殼體與泵的外表面之間的空間和噴射器中的入口與出口之間的中間部流體性地連接。在此情況下，在流體以第二噴射器流量從噴射器的入口側(cè)向出口側(cè)流動時，與流體以第一噴射器流量從噴射器的入口側(cè)向出口側(cè)流動的情況相比，更低的壓力作用于泵。因此，在使流體以第二噴射器流量在噴射器流動時，與使流體以第一噴射器流量在噴射器流動的情況相比，泵以更好的勢頭動作，處理液以更快的流速被引入泵內(nèi)。結(jié)果是，能夠制造混入處理液內(nèi)的氣體被從處理液內(nèi)更多地脫氣了的高脫氣液。
[0027]本發(fā)明的又一方面的計算機可讀取的記錄介質(zhì)，記錄有用于使氣泡除去裝置執(zhí)行上述任一所述的氣泡除去方法的程序。另外，在本說明書中，計算機可讀取的記錄介質(zhì)包括:不是暫時存在的而是有形狀的介質(zhì)(non-transitory computer recording medium,非暫時性計算機記錄介質(zhì))(例如，各種主存儲裝置或輔助存儲裝置)以及傳輸信號(transitory computer recording medium:暫時性計算機記錄介質(zhì))(例如，能夠經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)提供的數(shù)據(jù)信號)。
[0028]發(fā)明效果
[0029]根據(jù)本發(fā)明，能夠提供能夠通過從過濾器除去微小氣泡來改善過濾器的性能的氣泡除去方法、氣泡除去裝置、脫氣裝置和計算機可讀取的記錄介質(zhì)。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0030]圖1是表示涂敷顯影系統(tǒng)的立體圖。
[0031]圖2是圖1的I1-1I線截面圖。
[0032]圖3是圖2的II1-1II線截面圖。
[0033]圖4是表示基板處理裝置的截面圖。
[0034]圖5是表示液供給系統(tǒng)的圖。
[0035]圖6是表示波紋管泵的截面圖。
[0036]圖7是表示過濾器單元的截面圖。
[0037]圖8是用于對規(guī)定的閥的開閉時刻進(jìn)行說明的圖。
[0038]圖9是表示在圖5的液供給系統(tǒng)中說明循環(huán)模式所需的部件的圖。
[0039]圖10是用于說明在循環(huán)模式中2個波紋管泵的動作的圖。
[0040]圖11是表示在圖5的液供給系統(tǒng)中為了說明過濾器維護(hù)模式所需的部件的圖。
[0041]圖12是用于在過濾器維護(hù)模式中說明液體通過過濾器裝置的情況的圖。
[0042]圖13是用于在過濾器維護(hù)模式中說明各個閥的開閉動作的圖。
[0043]圖14是表示液供給系統(tǒng)的另一例子的圖。
[0044]附圖標(biāo)記說明
[0045]I涂敷顯影裝置
[0046]24a供給系統(tǒng)(氣泡除去裝置、脫氣裝置)
[0047]51 殼體
[0048]52a脫氣噴嘴
[0049]53波紋管泵
[0050]62過濾器
[0051]64過濾器主體
[0052]⑶控制裝置
[0053]Dl ?D34 配管
[0054]E噴射器
[0055]Fl?F6過濾器裝置
[0056]P1、P2 泵裝置
[0057]Rl?R5調(diào)節(jié)器
[0058]Ul顯影處理單元
[0059]Vl ?V31 閥
[0060]W晶片(基板)
【具體實施方式】
[0061]參照附圖，對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行說明，但是，以下的本實施方式是用于說明本發(fā)明的示例，并不是將本發(fā)明限定于以下的內(nèi)容的意思。在說明中，對于同一部件或具有同一功能的部件使用相同附圖標(biāo)記，省略重復(fù)的說明。
[0062](涂敷顯影裝置的結(jié)構(gòu))
[0063]首先，對圖1?圖3所示的涂敷顯影裝置I的結(jié)構(gòu)的概要進(jìn)行說明。涂敷顯影裝置I在利用曝光裝置El進(jìn)行曝光處理之前，進(jìn)行在晶片(基板)W的表面涂敷抗蝕劑材料而形成抗蝕劑膜的處理。涂敷顯影裝置I在利用曝光裝置El進(jìn)行曝光處理之后，進(jìn)行在晶片W的表面形成的抗蝕劑膜的顯影處理。在本實施方式中，晶片W呈圓板狀，但是也可以使用圓形的一部分缺損、或呈多邊形等圓形以外的形狀的晶片。
[0064]如圖1和圖2所示，涂敷顯影裝置I具備:載體塊SI ;處理塊S2 ;接口塊S3 ;和作為涂敷顯影裝置I的控制單元發(fā)揮作用的控制裝置CU。在本實施方式中，載體塊S1、處理塊S2、接口塊S3和曝光裝置El以此順序串聯(lián)排列。
[0065]如圖1和圖3所示，載體塊SI具有載體站12和搬入搬出部13。載體站12支承多個載體11。載體11以密封狀態(tài)收納多個晶片W。載體11在一個側(cè)面Ila側(cè)具有用于取出放入晶片W的開閉門(未圖示)。載體11以側(cè)面Ila面對搬入搬出部13側(cè)的方式裝卸自如地設(shè)置在載體站12上。
[0066]如圖1?圖3所示，搬入搬出部13具有與載體站12上的多個載體11分別對應(yīng)的開閉門13a。當(dāng)側(cè)面Ila的開閉門和搬入搬出部13的開閉門13a被同時打開時，載體11內(nèi)與搬入搬出部13內(nèi)連通。如圖2和圖3所示，搬入搬出部13內(nèi)置有交接臂Al。交接臂Al從載體11取出晶片并交接給處理塊S2。交接臂Al從處理塊S2接收晶片W并送回載體11內(nèi)。
[0067]如圖1?圖3所示，處理塊S2與載體塊SI相鄰并且與載體塊SI連接。如圖1和圖2所示，處理塊S2具有下層反射防止膜形成(BCT)塊14、抗蝕劑膜形成(COT)塊15、上層反射防止膜形成(TCT)塊16和顯影處理(DEV)塊17。DEV塊17、BCT塊14、C0T塊15和TCT塊16從底面?zhèn)绕鹨源隧樞蚺帕信渲谩?br>
[0068]如圖2所示，BCT塊14內(nèi)置有涂敷單元(未圖示)、加熱冷卻單元(未圖示)和用于將晶片W搬送到這些單元的搬送臂A2。涂敷單元在晶片W的表面涂敷反射防止膜形成用的處理液。加熱冷卻單元例如利用熱板加熱晶片W，之后例如利用冷卻板冷卻晶片W。這樣，在晶片W的表面上形成下層反射防止膜。
[0069]如圖2所示，COT塊15內(nèi)置有涂敷單元(未圖示)、加熱冷卻單元(未圖示)和用于將晶片W搬送到這些單元的搬送臂A3。涂敷單元在下層反射防止膜之上涂敷抗蝕劑膜形成用的處理液(抗蝕劑材料)。加熱冷卻單元例如利用熱板加熱晶片W，之后例如利用冷卻板冷卻晶片W。這樣，在晶片W的下層反射防止膜上形成抗蝕劑膜?？刮g劑材料既可以是正性(positive),也可以是負(fù)性(negative)。
[0070]如圖2所示，TCT塊16內(nèi)置有涂敷單元(未圖示)、加熱冷卻單元(未圖示)和用于將晶片W搬送到這些單元的搬送臂A4。涂敷單元在抗蝕劑膜之上涂敷反射防止膜形成用的處理液。加熱冷卻單元例如利用熱板加熱晶片W，之后例如利用冷卻板冷卻晶片W。這樣，在晶片W的抗蝕劑膜上形成上層反射防止膜。
[0071]如圖2和圖3所示，DEV塊17內(nèi)置有多個顯影處理單元(基板處理裝置)U1、多個加熱冷卻單元(熱處理部)U2、將晶片W搬送到這些單元的搬送臂A5和不經(jīng)過這些單元在處理塊S2的前后間搬送晶片W的搬送臂A6。
[0072]如后所述，顯影處理單元Ul進(jìn)行曝光后的抗蝕劑膜的顯影處理。加熱冷卻單元U2例如通過利用熱板進(jìn)行的晶片W的加熱，對晶片W上的抗蝕劑膜進(jìn)行加熱。加熱冷卻單元U2例如利用冷卻板對加熱后的晶片W進(jìn)行冷卻。加熱冷卻單元U2進(jìn)行后曝光烘培(PEB)、后烘培(PB)等加熱處理。PEB是在顯影處理前對抗蝕劑膜進(jìn)行加熱的處理。PB是在顯影處理后對抗蝕劑膜進(jìn)行加熱的處理。
[0073]如圖1?圖3所示，在處理塊S2中載體塊SI側(cè)設(shè)置有棚架單元U10。棚架單元UlO具有多個單位塊C30?C38。單位塊C30?C38在DEV塊17與TCT塊16之間在上下方向上排列配置。在棚架單元UlO的附近設(shè)置有升降臂A7。升降臂A7在單位塊C30?C38之間搬送晶片W。
[0074]在處理塊S2中接口塊S3側(cè)設(shè)置有棚架單元UlI。棚架單元Ull具有多個單位塊C40?C42。單位塊C40?C42與DEV塊17相鄰，在上下方向上排列配置。
[0075]如圖1?圖3所示，接口塊S3位于處理塊S2與曝光裝置El之間，并且分別與處理塊S2和曝光裝置El連接。如圖2和圖3所示，接口塊S3內(nèi)置有交接臂A8。交接臂A8將晶片W從處理塊S2的棚架單元Ull交給曝光裝置El。交接臂A8從曝光裝置El接收晶片W，將晶片W送回棚架單元UlI。
[0076]控制裝置CU是控制用的計算機，如圖1所示，具有存儲部CUl和控制部CU2。存儲部CUl存儲有用于使涂敷顯影裝置I的各部以及曝光裝置El的各部動作的程序。存儲部⑶I例如為半導(dǎo)體存儲器、光記錄盤、磁記錄盤和光磁記錄盤。該程序也可以包含于存儲部CUl之外的另外的外部存儲裝置、傳輸信號等無形的介質(zhì)中。也可以將該程序從這些其它的介質(zhì)安裝在存儲部CUl，使存儲部CUl存儲該程序。控制部CU2基于從存儲部CUl讀出的程序，控制涂敷顯影裝置I的各部和曝光裝置El的各部的動作。此外，控制裝置⑶也可以還具有顯示處理條件的設(shè)定畫面的顯示部(未圖示)、操作者能夠輸入處理條件的輸入部(未圖示)，根據(jù)通過輸入部輸入的條件使涂敷顯影裝置I的各部和曝光裝置El的各部動作。
[0077](涂敷顯影裝置I的動作)
[0078]接著，對涂敷顯影裝置I的動作的概要進(jìn)行說明。首先，載體11被設(shè)置在載體站12。此時，載體11的一個側(cè)面Ila朝向搬入搬出部13的開閉門13a。接著，載體11的開閉門和搬入搬出部13的開閉門13a—起被打開，利用交接臂Al將載體11內(nèi)的晶片W取出，依次搬送到處理塊S2的棚架單元UlO中的任一單位塊。
[0079]在晶片W被交接臂Al搬送到棚架單元UlO中的任一單元后，晶片W被升降臂A7依次搬送到與BCT塊14對應(yīng)的單位塊C33。搬送到單位塊C33的晶片W被搬送臂A2搬送到BCT塊14內(nèi)的各個單元。在晶片W被搬送臂A2在BCT塊14內(nèi)搬送的過程中，在晶片W的表面上形成下層反射防止膜。
[0080]形成有下層反射防止膜的晶片W被搬送臂A2搬送到單位塊C33之上的單位塊C34。搬送到單位塊C34的晶片W被升降臂A7搬送到與COT塊15對應(yīng)的單位塊C35。搬送到單位塊C35的晶片W被搬送臂A3搬送到COT塊15內(nèi)的各個單元。在晶片W被搬送臂A3在COT塊15內(nèi)搬送的過程中，在下層反射防止膜上形成抗蝕劑膜。
[0081]形成有抗蝕劑膜的晶片W被搬送臂A3搬送到單位塊C35之上的單位塊C36。搬送到單位塊C36的晶片W被升降臂A7搬送到與TCT塊16對應(yīng)的單位塊C37。搬送到單位塊C37的晶片W被搬送臂A4搬送到TCT塊16內(nèi)的各個單元。在晶片W被搬送臂A4在TCT塊16內(nèi)搬送的過程中，在抗蝕劑膜上形成上層反射防止膜。
[0082]形成有上層反射防止膜的晶片W被搬送臂A4搬送到單位塊C37之上的單位塊C38。搬送到單位塊C38的晶片W被升降臂A7搬送到單位塊C32之后，被搬送臂A6搬送到棚架單元Ull的單位塊C42。搬送到單位塊C42的晶片W被接口塊S3的交接臂A8交給曝光裝置E1，在曝光裝置El中進(jìn)行抗蝕劑膜的曝光處理。進(jìn)行曝光處理后的晶片W被交接臂A8搬送到單位塊C42之下的單位塊C40、C41。
[0083]搬送到單位塊C40、C41的晶片W，被搬送臂A5搬送到DEV塊17內(nèi)的各個單元，進(jìn)行顯影處理。由此，在晶片W的表面上形成抗蝕劑圖案(凹凸圖案)。形成有抗蝕劑圖案的晶片W被搬送臂A5搬送到棚架單元UlO中與DEV塊17對應(yīng)的單位塊C30、C31。搬送到單位塊C30、C31的晶片W，被升降臂A7搬送到交接臂Al能夠訪問的單位塊，被交接臂Al送回載體11內(nèi)。
[0084]另外，上述的涂敷顯影裝置I的結(jié)構(gòu)和動作僅僅是一個例子。涂敷顯影裝置I也可以具備:涂敷單元、顯影單元等液處理單元；加熱冷卻單元等的前處理后處理單元；和搬送裝置。即，這些各個單元的個數(shù)、種類和配置設(shè)計等能夠適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行變更。
[0085](顯影處理單元的結(jié)構(gòu))
[0086]接著，對顯影處理單元(基板處理裝置)Ul更詳細(xì)地進(jìn)行說明。如圖4所示，顯影處理單元Ul具備旋轉(zhuǎn)保持部20、升降裝置22和處理液供給部24。
[0087]旋轉(zhuǎn)保持部20具有:內(nèi)置有電動機等動力源的主體部20a ;從主體部20a向鉛垂上方延伸的旋轉(zhuǎn)軸20b ;和設(shè)置在旋轉(zhuǎn)軸20b的前端部的吸盤20c。主體部20a通過動力源使旋轉(zhuǎn)軸20b和吸盤20c旋轉(zhuǎn)。吸盤20c支承晶片W的中心部，例如通過吸附大致水平地保持晶片W。即，旋轉(zhuǎn)保持部20，在晶片W的姿勢為大致水平的狀態(tài)下，繞與晶片W的表面垂直的中心軸(鉛垂軸)使晶片W旋轉(zhuǎn)。在本實施方式中，如圖4所示，旋轉(zhuǎn)保持部20在從上方看時在逆時針方向上使晶片W旋轉(zhuǎn)。
[0088]升降裝置22安裝在旋轉(zhuǎn)保持部20，使旋轉(zhuǎn)保持部20升降。具體而言，升降裝置22在用于在搬送臂A5與吸盤20c之間進(jìn)行晶片W的交接的上升位置(交接位置)和用于進(jìn)行顯影處理的下降位置(顯影位置)之間，使旋轉(zhuǎn)保持部20 (吸盤20c)升降。
[0089]在旋轉(zhuǎn)保持部20的周圍設(shè)置有杯30。當(dāng)晶片W進(jìn)行旋轉(zhuǎn)時，供給到晶片W的表面的處理液被甩到周圍落下，杯30作為接收該落下的處理液的收納容器發(fā)揮作用。杯30具有:包圍旋轉(zhuǎn)保持部20的圓環(huán)形狀的底板31 ;從底板31的外緣向鉛垂上方突出的圓筒狀的外壁32 ;和從底板31的內(nèi)緣向鉛垂上方突出的圓筒狀的內(nèi)壁33。
[0090]外壁32的整個部分與由吸盤20c保持的晶片W相比位于外側(cè)。外壁32的上端32a與由位于下降位置的旋轉(zhuǎn)保持部20保持的晶片W相比位于上方。外壁32的上端32a側(cè)的部分成為隨著朝向上方而向內(nèi)側(cè)傾斜的傾斜壁部32b。內(nèi)壁33的整個部分與由吸盤20c保持的晶片W的外緣相比位于內(nèi)側(cè)。內(nèi)壁33的上端33a與由位于下降位置的旋轉(zhuǎn)保持部20保持的晶片W相比位于下方。
[0091]在內(nèi)壁33與外壁32之間，設(shè)置有從底板31的上表面向鉛垂上方突出的分隔壁34。即，分隔壁34包圍內(nèi)壁33。在底板31中位于外壁32與分隔壁34之間的部分形成有液體排出孔31a。液體排出孔31a與排液管35連接。在底板31中、分隔壁34與內(nèi)壁33之間的部分，形成有氣體排出孔31b。氣體排出孔31b與排氣管36連接。
[0092]在內(nèi)壁33之上設(shè)置有與分隔臂34相比更向外側(cè)伸出的傘狀部37。從晶片W上甩到外側(cè)并落下的處理液，被導(dǎo)向外壁32與分隔壁34之間，被從液體排出孔31a排出。從處理液產(chǎn)生的氣體進(jìn)入分隔壁34與內(nèi)壁33之間，該氣體被從氣體排出孔31b排出。
[0093]被內(nèi)壁33包圍的空間的上部，被分隔板38封閉。旋轉(zhuǎn)保持部20的主體部20a位于分隔板38的下方。吸盤20c位于分隔板38的上方。旋轉(zhuǎn)軸20b被插通至在分隔板38的中心部形成的貫通孔內(nèi)。
[0094]如圖4和圖5所示，處理液供給部24具有處理液的供給系統(tǒng)24a(詳細(xì)情況如后所述)、處理液頭24c和移動體24d。處理液頭24c經(jīng)由供給管24b與供給系統(tǒng)24a連接。處理液頭24c將接收來自控制裝置CU的信號從供給系統(tǒng)24a供給的處理液，從噴嘴N排出至晶片W的表面Wa。噴嘴N朝向晶片W的表面Wa向下方開口。在本實施方式中，從供給系統(tǒng)24a向多個噴嘴NI?N5分別供給處理液(參照圖5)。詳細(xì)情況在后面敘述，但在噴嘴NI?N4的上游側(cè)設(shè)置有過濾器裝置F1、F2和循環(huán)管路，因此從噴嘴NI?N4排出的處理液是被過濾器裝置F1、F2除去顆粒后的比較清潔的液體。因此，為了對晶片W的表面Wa進(jìn)行處理，從噴嘴NI?N4向該表面Wa排出。另一方面,在噴嘴N5的上游側(cè)雖然設(shè)置有過濾器裝置F3，但是不存在循環(huán)管路，因此過濾器維護(hù)模式(在后面說明)不適用于過濾器裝置F3，從噴嘴N5排出的處理液是比較被污染的液體。因此，從噴嘴N5排出的處理液，被用于處理晶片W的表面Wa以外的用途。其中，作為處理液，例如能夠列舉抗蝕劑液、稀釋液、顯影液、漂洗(rinse)液和純水等。
[0095]移動體24d，經(jīng)由臂24e與處理液頭24c連接。移動體24d接收來自控制裝置⑶的控制信號，在外壁32的外側(cè)在水平方向上延伸的導(dǎo)軌40上移動，由此，使處理液頭24c在水平方向上移動。由此，處理液頭24c在位于下降位置的晶片W的上方且與晶片W的中心軸正交的直線上沿晶片W的徑向移動。
[0096](供給系統(tǒng)的結(jié)構(gòu))
[0097]接著，對供給系統(tǒng)(氣泡除去裝置或脫氣裝置)24a進(jìn)行詳細(xì)的說明。如圖5所示，供給系統(tǒng)24a具備:泵裝置P1、P2 ;過濾器裝置Fl?F3 ;配管Dl?D35 ;_V1?V32 ；調(diào)節(jié)器Rl?R5 ;噴射器E ;流量計FMl?FM6 ;和壓力計Ml?M4。
[0098]泵裝置P1、P2用于臨時存積處理液，將該處理液供給到處理液頭24c，并使該處理液從噴嘴N排出。泵裝置P1、P2的結(jié)構(gòu)在本實施方式中相同，因此在以下的說明中對泵裝置Pl的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明，省略對泵裝置P2的說明。
[0099]如圖6所不,泵裝置Pl具有:呈有底筒狀的殼體51 ;配置在殼體51的開放端一側(cè)的蓋體52 ;配置在殼體51內(nèi)的波紋管泵53 ;磁鐵54 ;和傳感器55a?55d。殼體51具有圓筒狀的側(cè)壁51a和封閉側(cè)壁51a的底部的底壁51b。在底壁51b以貫通底壁51b方式形成有連接口 51c。連接口 51c為了導(dǎo)入和排出隊氣體而經(jīng)由配管05、06、07、012、013、015
與N2氣體源連接。
[0100]蓋體52封閉殼體51的開口側(cè)，與殼體51 —起構(gòu)成收納波紋管泵53的空間。在蓋體52以分別貫通蓋體52的方式形成有脫氣噴嘴52a、排出口 52b和排液口 52c。
[0101]脫氣噴嘴52a為了將處理液導(dǎo)入波紋管泵53內(nèi)而經(jīng)由配管D1、D2、D3、D4與處理液源連接。在本實施方式中，雖然脫氣噴嘴52a形成在蓋體52，但是脫氣噴嘴52a也可以配置在處理液源與泵裝置Pl (后述的處理液室Cl)之間。在脫氣噴嘴52a中，構(gòu)成為波紋管泵53側(cè)(出口側(cè))的流路面積比處理液源側(cè)(入口側(cè))的流路面積較小。如果考慮在從脫氣噴嘴52a的入口側(cè)向出口側(cè)流動的處理液中適用能量守恒定律，則在一定流量的處理液從脫氣噴嘴52a的入口側(cè)流向出口側(cè)的情況下，基于連續(xù)性方程，在流路面積較小的出口側(cè)流動的處理液的流速，比在流路面積大的入口側(cè)流動的處理液的流速大。這樣，基于伯努利原理(bernoulli’s principle),在脫氣噴嘴52a的出口側(cè)流動的處理液的壓力下降。結(jié)果是，溶入處理液內(nèi)的氣體從處理液內(nèi)被脫氣。由此，在波紋管泵53內(nèi)，被導(dǎo)入作為通過脫氣噴嘴52a進(jìn)行脫氣處理后的處理液的脫氣處理液和通過脫氣處理從該處理液分離出的氣體。另外，在以下說明中，也存在將脫氣處理完成液簡稱為“處理液”的情況。
[0102]排出口 52b為了將處理液排出至波紋管泵53外從噴嘴N排出，經(jīng)由配管D17?D24、D27、D28、D31與噴嘴N連接。排液口 52c為了將一部分脫氣處理完成液與通過脫氣處理從處理液分離出的氣體排出至波紋管泵53外，經(jīng)由配管D14?D16與系統(tǒng)外(system外)連接。
[0103]波紋管泵53具有活塞板53a和波紋管(蛇紋管部件)53b?；钊?3a呈與側(cè)壁51a的內(nèi)壁面對應(yīng)的形狀，在殼體51內(nèi)能夠沿著側(cè)壁51a的延伸方向往復(fù)移動。波紋管53b在殼體51內(nèi)能夠沿著側(cè)壁51a的延伸方向伸縮。波紋管53b的一端側(cè)安裝在蓋體52中朝向底壁51b側(cè)的面。波紋管53b的另一端側(cè)安裝在活塞板53a中朝向蓋體52側(cè)去的面。因此，波紋管泵53的容積根據(jù)活塞板53a的位置進(jìn)行變化。即，波紋管泵53是容積可變的栗。
[0104]由蓋體52、波紋管53b和活塞板53a包圍的空間，構(gòu)成能夠存積處理液的處理液室Cl。S卩，處理液室Cl的大小是指波紋管泵53的容積。由殼體51和活塞板53a包圍的空間，構(gòu)成導(dǎo)入和排出N2氣體的氣體室C2。
[0105]磁鐵54安裝在活塞53a的外周部。傳感器55a?55d檢測磁鐵54的磁場，由此檢測活塞板53a的位置。傳感器55a?55d以隔著側(cè)壁51a與磁鐵54相對的方式配置在側(cè)壁51a的外表面。傳感器55a?55d配置成隨著從蓋體52側(cè)朝向底壁51b側(cè)以此順序排列。
[0106]傳感器55a位于最靠蓋體52的位置，對波紋管泵53內(nèi)(處理液室Cl)已空(Empty)的情況進(jìn)行檢測。傳感器55b位于與傳感器55a相比更靠底壁51b并且與傳感器55c相比更靠蓋體52的位置，對波紋管泵53內(nèi)(處理液室Cl)大致已空(Pre Empty)的情況進(jìn)行檢測。傳感器55c位于與傳感器55b相比更靠底壁51b并且與傳感器55d相比更靠蓋體52的位置，對在波紋管泵53內(nèi)(處理液室Cl)大致填充(Pre Full)有處理液的情況進(jìn)行檢測。傳感器55d位于最靠底壁51b的位置，對在波紋管泵53內(nèi)(處理液室Cl)填充(Full)有處理液的情況進(jìn)行檢測。
[0107]過濾器裝置Fl?F3用于除去處理液中包含的顆粒等異物。過濾器裝置Fl?F3的結(jié)構(gòu)在本實施方式中相同，因此在以下的說明中，對過濾器裝置Fl的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明，省略對過濾器裝置F2、F3的結(jié)構(gòu)的說明。
[0108]如圖7所示，過濾器裝置Fl具有呈筒狀的殼體61和過濾器62。殼體61具有:圓筒狀的側(cè)壁61a;封閉側(cè)壁61a的底部的底壁61b ;配置在側(cè)壁61a的頂壁61c ;和配置在由側(cè)壁61a、底壁61b和頂壁61c形成的空間內(nèi)的過濾器支承部61d。
[0109]過濾器62具有過濾器容器63和過濾器主體64。過濾器62安裝在過濾器支承部61d。因此，過濾器62保持在殼體61內(nèi)。
[0110]過濾器容器63由呈圓筒形狀的外側(cè)側(cè)壁63a、呈圓筒形狀的內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b、配置在外側(cè)側(cè)壁63a和內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b的一端側(cè)的頂壁63c、以及配置在外側(cè)側(cè)壁63a和內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b的另一端側(cè)的底壁63d構(gòu)成。
[0111]內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b以與外側(cè)側(cè)壁63a為大致同軸的方式配置在外側(cè)側(cè)壁63a的內(nèi)側(cè)。在外側(cè)側(cè)壁63a和內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b形成有大量的貫通孔，使得處理液能夠通過過濾器容器63的內(nèi)外。在過濾器62安裝在過濾器支承部61d上的狀態(tài)，外側(cè)側(cè)壁63a的貫通孔的至少一部分，未被過濾器支承部61d封閉，與在側(cè)壁61a和過濾器支承部61d之間形成的流路流體連接。
[0112]在頂壁63c的中央部形成有貫通孔63e。S卩，頂壁63c呈圓環(huán)狀。頂壁63c在外側(cè)側(cè)壁63a與內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b之間封閉外側(cè)側(cè)壁63a和內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b的一端側(cè)。底壁63d封閉外側(cè)側(cè)壁63a和內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b的另一端側(cè)。
[0113]過濾器主體64呈圓筒形狀。過濾器主體64配置在由外側(cè)側(cè)壁63a、內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b、頂壁63c和底壁63d包圍的空間內(nèi)。過濾器主體64的材質(zhì)例如能夠列舉尼龍、聚乙烯。過濾器主體64也可以具有能夠除去例如0.05 μ m左右的顆粒的性能。另外，由于新過濾器主體64內(nèi)包含大量的顆粒，因此在更換為新過濾器62的情況下，優(yōu)選預(yù)先在過濾器62中流通處理液，從過濾器主體64內(nèi)預(yù)先除去顆粒。
[0114]在殼體61的頂壁61c形成有:導(dǎo)入來自泵裝置P1、P2的處理液的導(dǎo)入口 65a ;排出通過過濾器62后的處理液的排出口 65b ;和將不通過過濾器62的處理液排出至系統(tǒng)外(system外)的排液口 65c。排出口 65b與頂壁63c的貫通孔63e連通。
[0115]從導(dǎo)入口 65a導(dǎo)入的處理液，從排出口 65b或排液口 65c被排出到過濾器裝置Fl夕卜。在處理液從導(dǎo)入口 65a流向排出口 65b的情況下，處理液在形成于側(cè)壁61a和底壁61b與過濾器支承部61d之間的流路中流通后，依次流過外側(cè)側(cè)壁63a的貫通孔、過濾器主體64、內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b的貫通孔和內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b的內(nèi)部，經(jīng)由頂壁63c的貫通孔63e和排出口65b被排出到過濾器裝置Fl外。另一方面，在處理液從導(dǎo)入口 65a流向排液口 65c的情況下，處理液在形成于側(cè)壁61a和底壁61b與過濾器支承部61d之間的流路中流通后，一部分在過濾器62內(nèi)流動，而其它部分繼續(xù)在該流路中流通，經(jīng)由排液口 65c被排出到過濾器裝置Fl外。
[0116]返回至圖5，配管Dl的上游端與處理液源連接。配管Dl的下游端與配管D2連接。在配管Dl上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有閥V1、調(diào)節(jié)器Rl和壓力計Ml。閥Vl是利用空氣使閥開閉(打開/關(guān)閉(0N/0FF))的氣動閥。調(diào)節(jié)器Rl是調(diào)整對在自身流動的處理液施加的壓力的大小，由此控制處理液的流量的壓力控制閥。在調(diào)節(jié)器Rl中設(shè)定的壓力的大小例如為lOOkPa。另外,在本說明書中,利用表(gauge)壓力表示壓力。
[0117]配管D2的下游側(cè)分支為配管D3、D4。配管D3的下游端與泵裝置Pl的脫氣噴嘴52a連接。在配管D3上設(shè)置有閥V2。配管D4的下游端與泵裝置P2的脫氣噴嘴52a連接。在配管D4上設(shè)置有閥V3。閥V2、V3是與閥Vl同樣的氣動閥。
[0118]配管D5的上游端與N2氣體源連接。配管D5的下游端與泵裝置Pl的連接口 51c連接。在配管D5上從上游側(cè)起依次設(shè)置有調(diào)節(jié)器R2、壓力計M2和閥V4。調(diào)節(jié)器R2是與調(diào)節(jié)器Rl同樣的壓力控制閥。在調(diào)節(jié)器R2中設(shè)定的壓力的大小例如是200kPa。閥V4是與閥Vl同樣的氣動閥。
[0119]配管D6從配管D5分支后再與配管D5合流。配管D6的上游端在調(diào)節(jié)器R2的上游側(cè)與配管D5連接。配管D6的下游側(cè)在閥V4的下游側(cè)與配管D5連接。在配管D6上從上游側(cè)起依次設(shè)置有調(diào)節(jié)器R3和閥V5。調(diào)節(jié)器R3是通過任意調(diào)整N2氣體的壓力的大小來控制N2氣體的流量的電-氣調(diào)壓閥。電-氣調(diào)壓閥是將電信號轉(zhuǎn)換為空氣壓力信號的方式的壓力控制閥。電-氣調(diào)壓閥通過預(yù)先設(shè)置多個對N2氣體施加的壓力的大小，使泵裝置P1、P2的壓力變化，能夠以不同大小的流量使處理液從泵裝置P1、P2流動。調(diào)節(jié)器R3中設(shè)定的壓力的大小例如為25kPa和50kPa這2個。調(diào)節(jié)器R3根據(jù)從控制裝置⑶接收到的控制信號，使壓力的大小在第一值(例如25kPa)與第二值(例如50kPa)之間切換。
[0120]配管D7從配管D5分支。配管D7的上游端連接在配管D5中壓力計M2與閥V4之間。配管D7的下游端與泵裝置P2的連接口 51c連接。在配管D7上設(shè)置有閥V6。閥V6是與閥Vl同樣的氣動閥。
[0121]配管D35從配管D6分支。配管D35的上游端連接在配管D6中調(diào)節(jié)器R3與閥V5之間。配管D35的下游端連接在配管D7中閥V6與泵裝置P2的連接口 51c之間。在配管D35上設(shè)置有閥V32。閥V32是與閥Vl同樣的氣動閥。N2氣體源、配管D5?D7、D35、調(diào)節(jié)器R2、R3和閥V4?V6、V32作為構(gòu)成為使脫氣處理完成液從泵裝置P1、P2內(nèi)排出的供給排出部的一部分發(fā)揮作用。
[0122]配管D8配置在空氣源與噴射器E之間。噴射器E由噴嘴、擴(kuò)散室和連接噴嘴和擴(kuò)散室的連接部構(gòu)成。配管D8的上游端與空氣源連接。配管D8的下游端與噴射器E的噴嘴連接。在配管D8上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有調(diào)節(jié)器R4、壓力計M3和閥V7。調(diào)節(jié)器R4是與調(diào)節(jié)器Rl同樣的壓力控制閥。調(diào)節(jié)器R4被調(diào)整，使得泵裝置P1、P2的氣體室C2內(nèi)的壓力成為例如_35kPa左右。閥V7是與閥Vl同樣的氣動閥。
[0123]配管D9從配管D8分支。配管D9的上游端在調(diào)節(jié)器R4的上游側(cè)與配管D8連接。配管D9的下游端在閥V7與噴射器E之間與配管D8連接。在配管D9上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有調(diào)節(jié)器R5、壓力計M4和閥V8。調(diào)節(jié)器R5是與調(diào)節(jié)器Rl同樣的壓力控制閥。調(diào)節(jié)器R5被調(diào)整，使得泵裝置P1、P2的氣體室C2內(nèi)的壓力成為例如_80kPa左右。閥V8是與閥Vl同樣的氣動閥。
[0124]配管DlO的上游端與噴射器E的擴(kuò)散室連接。流過配管DlO的氣體從配管DlO的下游端被排出至系統(tǒng)外(system外)。
[0125]配管Dll的一端與噴射器E的連接部連接。配管Dll的另一端分支為配管D12、D13，與配管D12、D13的一端連接。配管D12的另一端在配管D5、D6的合流點與泵裝置Pl的連接口 51c之間與配管D5連接。在配管D12上設(shè)置有閥V9。配管D13的另一端在閥V6與泵裝置P2的連接口 51c之間與配管D7連接。在配管D13上設(shè)置有閥V10。閥V9、V10是與閥Vl同樣的氣動閥?？諝庠础⑴涔蹹8?D13、調(diào)節(jié)器R4、R5和閥V7?Vl作為構(gòu)成為供給排出部的一部分發(fā)揮作用，該供給排出部構(gòu)成為使處理液從處理液源經(jīng)由脫氣噴嘴52a供給至泵裝置P1、P2內(nèi)，使脫氣處理完成液存積在泵裝置P1、P2內(nèi)。
[0126]配管D14的上游端與泵裝置Pl的排液口 52c連接。配管D15的上游端與泵裝置P2的排液口 52c連接。配管D14、D15的下游端均與配管D16的上游端連接。流過配管D16的氣體被從配管D16的下游端排出至系統(tǒng)外(system外)。在配管D14上設(shè)置有閥VII。配管D15上設(shè)置有閥V12。閥VI1、V12是與閥Vl同樣的氣動閥。
[0127]配管D17的上游端與泵裝置Pl的排出口 52b連接。配管D18的上游端與泵裝置P2的排出口 52b連接。配管D17、D18的下游端均與配管D19的上游端連接。在配管D17上設(shè)置有閥V13。配管D18上設(shè)置有閥V14。閥V13、V14是與閥Vl同樣的氣動閥。
[0128]配管D19的下游側(cè)分支為配管D20?D22。配管D20的下游端與過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a連接。配管D23的上游端與過濾器裝置Fl的排出口 65b連接。在配管D23上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有流量計FMl、閥V15和噴嘴NI。流量計FMl是利用超聲波對在配管D23中流動的處理液的流速進(jìn)行測量，基于該流速計算流量的超聲波流量計。當(dāng)使用超聲波流量計時，因為能夠在配管內(nèi)不設(shè)置測量儀器地檢測流量，因此能夠抑制壓力損失的發(fā)生。閥V15是具有流量調(diào)節(jié)功能的氣動閥。
[0129]配管D24在流量計FMl的上游側(cè)從配管D23分支。在配管D24上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有流量計FM2、閥V16和噴嘴N2。流量計FM2是與流量計FMl同樣的超聲波流量計。閥V16是與閥V15同樣的氣動閥。
[0130]配管D25的上游端與過濾器裝置Fl的排液口 65c連接。在配管D25上設(shè)置有閥V17。閥V17是以手動進(jìn)行開閉的手動閥。在配管D25中流動的液體從配管D25的下游端被排出至系統(tǒng)外(system外)。另外，由于新過濾器主體64處于干燥的狀態(tài)，含有大量的空氣，因此在將過濾器62交換為新過濾器時，也可以打開手動閥，排出過濾器主體64中包含的空氣。
[0131]配管D26從配管D25分支后再次與配管D25合流。在配管D26上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有閥V18、流量計FM3和閥V19。閥V18是與閥Vl同樣的氣動閥。流量計FM3是根據(jù)浮動在錐形管內(nèi)的浮標(biāo)的位置讀取流量的面積式(浮標(biāo)式)流量計。閥V19是止回閥，其進(jìn)行動作，使得從配管D26的上游側(cè)流向下游側(cè)的處理液流動，使想要在反方向上流動的處理液不流動。
[0132]配管D21的下游端與過濾器裝置F2的導(dǎo)入口 65a連接。配管D27的上游端與過濾器裝置F2的排出口 65b連接。在配管D27上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有流量計FM4、閥V20和噴嘴N3。流量計FM4是與流量計FMl同樣的超聲波流量計。閥V20是與閥V15同樣的具有流量調(diào)節(jié)功能的氣動閥。
[0133]配管D28在流量計FM4與閥V20之間從配管D27分支。在配管D28上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有閥V21和噴嘴N4。閥V21是與閥V15同樣的具有流量調(diào)節(jié)功能的氣動閥。
[0134]配管D29的上游端與過濾器裝置F2的排液口 65c連接。在配管D29上設(shè)置有閥V22。閥V22是與閥V17同樣的手動閥。在配管D29中流動的液體，從配管D29的下游端被排出至系統(tǒng)外(system外)。
[0135]配管D30從配管D29分支后再次與配管D29合流。在配管D30上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有閥V23、流量計FM5和閥V24。閥V23是與閥Vl同樣的氣動閥。流量計FM5是與流量計FM3同樣的面積式流量計。閥V24是與閥V19同樣的止回閥。
[0136]配管D22的下游端與過濾器裝置F3的導(dǎo)入口 65a連接。配管D31的上游端與過濾器裝置F3的排出口 65b連接。在配管D31上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有流量計FM6、閥V25和噴嘴N5。流量計FM6是與流量計FMl同樣的超聲波流量計。閥V25是與閥V15同樣的具有流量調(diào)節(jié)功能的氣動閥。
[0137]配管D32從配管D23分支。配管D32的上游端連接在配管D23中流量計FMl與閥V15之間。配管D32的下游端與配管D2的上游端連接。配管D32與配管D2的一部分一起作為將處理液送回泵裝置P1、P2的第一循環(huán)管路的一部分發(fā)揮作用。在配管D32上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有閥V26和閥V27。閥V26是與閥V15同樣的具有流量調(diào)節(jié)功能的氣動閥。閥V27是與閥V19同樣的止回閥。其中，由于過濾器裝置Fl位于排出管路中配管D32的上游端的上游側(cè)，因此沒有必要在循環(huán)管路和排出管路雙方設(shè)置過濾器裝置F1，能夠削減過濾器裝置Fl的數(shù)量。
[0138]配管D33從配管D27分支。配管D33的上游端連接在配管D27中流量計FM4與配管D27、D28的分支點之間。配管D33的下游端與配管D2的上游端連接。配管D33與配管D2的一部分一起作為將處理液送回泵裝置P1、P2的第二循環(huán)管路的一部分發(fā)揮作用。在配管D33上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有閥V28和閥V29。閥V28是與閥V15同樣的具有流量調(diào)節(jié)功能的氣動閥。閥V29是與閥V19同樣的止回閥。其中，由于過濾器裝置F2位于排出管路中配管D33的上游端的上游側(cè)，因此沒有必要在循環(huán)管路和排出管路雙方設(shè)置過濾器裝置F2，能夠削減過濾器裝置F2的數(shù)量。
[0139]配管D34從配管D2分支。配管D34的上游端連接在配管Dl、D2的合流點的上游偵U。在配管D34上設(shè)置有閥V30。閥V30是與閥Vl同樣的氣動閥。流過配管D34的液體，從配管D34的下游端被排出至系統(tǒng)外(system外)。因此，配管D34作為排出管路的一部分發(fā)揮作用，該排出管路構(gòu)成為將在第一或第二循環(huán)管路中流動的處理液排出至系統(tǒng)外。
[0140]在配管D2上且在配管D1、D2的分支點與配管D34、D2的分支點之間設(shè)置有閥V31。閥V31是與閥V15同樣的具有流量調(diào)節(jié)功能的氣動閥。配管D17?D24、D27、D28、D31作為排出管路發(fā)揮作用，該排出管路構(gòu)成為將從泵裝置P1、P2排出的處理液經(jīng)由噴嘴NI?N5排出至基板W。
[0141]閥Vl ?V16、V18、V20、V21、V23、V25、V26、V28、V30、V31 根據(jù)從控制裝置 CU 接收到的控制信號，將閥開閉。調(diào)節(jié)器Rl?R5根據(jù)從控制裝置CU接收到的控制信號，調(diào)整對在自身流動的處理液施加的壓力的大小。在調(diào)節(jié)器R1、R2、R4、R5中，也可以人工手動調(diào)整對在自身流動的處理液、N2氣體或空氣施加的壓力的大小。在調(diào)節(jié)器R3中，也可以根據(jù)規(guī)定的程序動態(tài)調(diào)整對在自身流動的N2氣體施加的壓力的大小。
[0142](泵裝置的動作)
[0143]接著，參照圖5，對由泵裝置P1、P2進(jìn)行的處理液的吸引和排出動作進(jìn)行說明。另夕卜，由于這些動作在泵裝置P1、P2中均相同，因此在以下的說明中，對泵裝置Pl的吸引和排出動作進(jìn)行說明，省略對泵裝置P2的吸引和排出動作的說明。
[0144]首先，從所有的閥被關(guān)閉的初始狀態(tài)起，控制裝置⑶對閥V1、V2、V7、V9指示使這些閥打開。由此，來自空氣源的空氣沿著配管D8、噴射器E和配管DlO的順序流動，在噴射器E的連接部產(chǎn)生負(fù)壓。因此，經(jīng)由與噴射器E的連接部連接的配管Dll、D12、D5，泵裝置Pl的氣體室C2被減壓，活塞板53a被拉到殼體51的底壁51b側(cè)附近。因此，波紋管泵53的容積被擴(kuò)大，處理液經(jīng)由脫氣噴嘴52a從處理液源被導(dǎo)入波紋管泵53內(nèi)。此時，處理液在通過脫氣噴嘴52a時被脫氣，因此脫氣處理液和通過脫氣處理從處理液分離出的氣體被導(dǎo)入波紋管泵53內(nèi)。
[0145]接著，控制裝置⑶對閥Vll指示使該閥打開，并且，對閥V1、V2、V7、V9指示使這些閥關(guān)閉。由此，一部分的脫氣處理完成液與通過脫氣處理從處理液分離的氣體一起被排出波紋管泵53外。
[0146]接著，控制裝置⑶對閥Vll指示使該閥關(guān)閉，并且對閥V4、V13指示使這些閥打開。由此，N2氣體從N2氣體源在配管D5中流動，泵裝置Pl的氣體室C2內(nèi)被加壓，活塞板53a被推到蓋體52 —側(cè)。因此，處理液經(jīng)由排出口 52b和配管D17被供給到噴嘴NI?N5中的任一噴嘴，或者通過配管D32、D33進(jìn)行循環(huán)而被送回泵裝置P1、P2，或者從配管D25、D29、D34中的任一配管被排出至系統(tǒng)外(system外)。
[0147](閥的開閉時刻)
[0148]接著，參照圖5和圖8，對規(guī)定的閥的開閉時刻進(jìn)行說明。首先，對閥V15、V16、V26的開閉時刻進(jìn)行說明(圖8(a))。在控制裝置CU指示閥V26使(ON)該閥打開的期間，控制裝置⑶指示其它閥V15、V16使這些閥關(guān)閉(OFF)。此時，來自泵裝置P1、P2的處理液不從噴嘴N1、N2排出，在成為一部分的第一循環(huán)管路的配管D32中流動。之后，該處理液返回泵裝置P1、P2再次在系統(tǒng)內(nèi)進(jìn)行循環(huán)，或者從配管D34被排出到系統(tǒng)外(system外)。
[0149]接著，在控制裝置⑶指示閥V15使該閥打開(ON)的期間，控制裝置⑶指示其它閥V16、V26使這些閥關(guān)閉(OFF)。此時，來自泵裝置Pl、P2的處理液從噴嘴NI排出。接著，在控制裝置⑶指示閥V16使該閥打開(ON)的期間，控制裝置⑶指示其它閥V15、V26使這些閥關(guān)閉(OFF)。如圖8(a)所示，閥V26在閥V16被閉塞并經(jīng)由過若干時間后被打開。此時，來自泵裝置P1、P2的處理液從噴嘴N2排出。如上所述，閥V15、V16、V26以在任一個閥被打開時其它閥被閉塞的方式被控制。
[0150]另一方面，對閥V20、V21、V28的開閉時刻進(jìn)行說明(圖8(b))。在控制裝置⑶指示閥V28使該閥打開(ON)的期間，控制裝置⑶指示其它閥V20、V21使這些閥關(guān)閉(OFF)。此時，來自泵裝置Pl、P2的處理液不從噴嘴N3、N4排出，在成為第二循環(huán)管路的一部分的配管D33中流動。之后，該處理液返回泵裝置P1、P2再次在系統(tǒng)內(nèi)進(jìn)行循環(huán)，或者從配管D34被外出系統(tǒng)外(system外)。
[0151]接著，在控制裝置⑶指示閥V20使該閥打開(ON)的期間，控制裝置⑶指示其它閥V21、V28使這些閥關(guān)閉(OFF)。此時，來自泵裝置Pl、P2的處理液從噴嘴N3排出。接著，在控制裝置⑶指示閥V21使該閥打開(ON)的期間，控制裝置⑶指示其它閥V20、V28使這些閥關(guān)閉(OFF)。如圖8(b)所示，閥V28在閥V21被閉塞并經(jīng)由過若干時間后被打開。此時，來自泵裝置P1、P2的處理液從噴嘴N4排出。如上所述，閥V20、V21、V28以在任一個閥被打開時其它閥被閉塞的方式被控制。
[0152](循環(huán)模式)
[0153]接著，參照圖9和圖10，對通過第一或第二循環(huán)管路使處理液在系統(tǒng)內(nèi)循環(huán)的循環(huán)模式進(jìn)行說明。其中，圖9是表示圖5的供給系統(tǒng)24a中為了說明循環(huán)模式所必要的部件的圖。圖9表示第一循環(huán)管路的部件(配管D32)，第二循環(huán)管路的部件(配管D33)的記載被從圖9省略。但是，在通過第二循環(huán)管路進(jìn)行的循環(huán)模式的供給系統(tǒng)24a的動作，與通過第一循環(huán)管路進(jìn)行的循環(huán)模式的供給系統(tǒng)24a的動作相同。因此，在以下說明中，省略與第二循環(huán)管路相關(guān)的說明。
[0154]首先，在圖10(a)所示的初始狀態(tài)(步驟I)下，控制裝置CU對閥V4、V6指示使該閥打開。因此，通過來自N2氣體源的N2氣體，泵裝置P1、P2的氣體室C2內(nèi)一起被加壓，將活塞板53a推向蓋體52 —側(cè)的力被作用到活塞板53a。
[0155]接著，使用圖10(b)，對步驟2進(jìn)行說明。在步驟2中，控制裝置⑶對閥VlO指示使該閥打開，并且對閥V6、V14指示使這些閥關(guān)閉，使泵裝置P2的氣體室C2內(nèi)與泵裝置Pl的氣體室C2內(nèi)相比為相對低的壓力。由此，在泵裝置Pl的波紋管泵53與泵裝置P2的波紋管泵53之間產(chǎn)生壓力差。因此，存積在泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)的處理液，以排出口52b、配管D17、D19、D20、過濾器裝置Fl和配管D23、D32、D2、D4的順序流動，轉(zhuǎn)移到泵裝置P2的波紋管泵53內(nèi)。這樣一來，泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)的處理液減少，并且，泵裝置P2的波紋管泵53內(nèi)的處理液增加(圖10(b))。
[0156]接著，分開為以下兩個圖形進(jìn)行說明，S卩:在泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)的處理液大致為空之前，泵裝置P2的波紋管泵53內(nèi)的處理液被填充的第一圖形(步驟3?7、圖10(c)?(g));和在泵裝置P2的波紋管泵53內(nèi)的處理液被填充之前，泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)的處理液大致為空的第二圖形(步驟8?12、圖10(h)?(I))。
[0157]首先，使用圖10 (C)，對步驟3進(jìn)行說明。在步驟3中，泵裝置P2的傳感器55d根據(jù)泵裝置P2的傳感器55d對處理液是否被填充在波紋管泵53內(nèi)(處理液室Cl)進(jìn)行檢測(圖10(c))。在泵裝置P2的波紋管泵53已填充完的情況下，產(chǎn)生將該處理液移送至泵裝置Pl的波紋管泵53的必要。但是，由于泵裝置P2的氣體室C2與泵裝置Pl的氣體室C2相比為相對低的壓力，因此不能推出泵裝置P2的活塞板53a。于是，執(zhí)行步驟4的處理。
[0158]使用圖10 (d)，對步驟4進(jìn)行說明。在步驟4中，控制裝置⑶當(dāng)從泵裝置P2的傳感器55d接收到檢測信號時，對閥V6指示使該閥打開。由此，通過來自N2氣體源的N2氣體，泵裝置P2的氣體室C2被加壓，將活塞板53a推向蓋體52側(cè)的力作用于活塞板53a(圖10(d))。泵裝置P2內(nèi)的加壓例如進(jìn)行15秒左右。此時，閥V14保持被閉塞的狀態(tài)不變，因此存積在泵裝置Pl的波紋管泵53中的處理液，以排出口 52b、配管D17、D19、D20、過濾器裝置Fl和配管D23、D32、D2、D3的順序流動，返回泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)。
[0159]接著，使用圖10(e)，對步驟5進(jìn)行說明。在步驟5中，控制裝置⑶對閥V1、V2、V7、V9指示使這些閥打開，并且，對閥V3指示使該閥關(guān)閉。由此，來自空氣源的空氣以配管D8、噴射器E和配管DlO的順序流動，在噴射器E的連接部產(chǎn)生負(fù)壓。因此，經(jīng)由與噴射器E的連接部連接的配管Dll、D12、D5，泵裝置Pl的氣體室C2被減壓，將活塞板53a拉向殼體51的底壁51b—側(cè)。因此，處理液從處理液源經(jīng)由脫氣噴嘴52a被導(dǎo)入波紋管泵53內(nèi)(圖10(e))。此外，存積在泵裝置P2的波紋管泵53中的處理液，以排出口 52b、配管D18、D19、D20、過濾器裝置Fl和配管D23、D32、D2、D3的順序流動，返回泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)(相同附圖)。
[0160]接著，使用圖10 (f)，對步驟6進(jìn)行說明。在步驟6中，泵裝置Pl的傳感器55c通過泵裝置Pl的傳感器55c對波紋管泵53內(nèi)(處理液室Cl)是否被處理液大致填充進(jìn)行檢測(圖10(f))。當(dāng)泵裝置Pl的波紋管泵53被完全填充時，在使處理液從泵裝置P2的波紋管泵53向泵裝置Pl的波紋管泵53循環(huán)時，泵裝置Pl的波紋管泵53擴(kuò)大的余地消失。此時，控制裝置⑶對閥Vll指示使該閥打開，使一部分的脫氣處理完成液與通過脫氣處理從處理液分離的氣體一起從排液口 52c排出至波紋管泵53外。
[0161]接著，使用圖10 (g)，對步驟7進(jìn)行說明。在步驟7中，控制裝置⑶當(dāng)從泵裝置Pl的傳感器55c接收檢測信號時，對閥V9指示使該閥打開，并且對閥Vl指示使該閥關(guān)閉，使泵裝置Pl的氣體室C2內(nèi)為比泵裝置P2的氣體室C2內(nèi)低的壓力。由此，在泵裝置Pl的波紋管泵53與泵裝置P2的波紋管泵53之間產(chǎn)生壓力差。因此，存積在泵裝置P2的波紋管泵53內(nèi)的處理液，以排出口 52b、配管D18、D19、D20、過濾器裝置Fl和配管D23、D32、D2、D3的順序流動，轉(zhuǎn)移到泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)(圖10(g))。另外，步驟7(圖10(g))與在步驟2(圖10(b))中將泵裝置Pl與泵裝置P2交換的情況相同。因此，步驟7之后的循環(huán)模式，通過在步驟2之后將泵裝置Pl與泵裝置P2交換，與上述說明相同的說明成立。
[0162]另一方面，使用圖10 (h)，對步驟8進(jìn)行說明。在步驟8中，在泵裝置P2的波紋管泵53內(nèi)的處理液被填充之前，根據(jù)泵裝置Pl的傳感器55b，對泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)(處理液室Cl)的處理液是否大致變空進(jìn)行檢測(圖10(h))。
[0163]圖10⑴?⑴所示的后續(xù)的步驟9?12與上述的步驟4?7相同，因此省略說明。另外，步驟12 (圖10(1))與在步驟2(圖10(b))中將泵裝置Pl與泵裝置P2交換后的情況相同。因此，步驟12之后的循環(huán)模式，通過在步驟2之后將泵裝置Pl與泵裝置P2交換，與上述說明相同的說明成立。
[0164]但是，當(dāng)處理液與過濾器主體64接觸時，包含在過濾器主體64中的顆粒逐漸溶出到處理液中。因此，當(dāng)處理液的液流滯留在過濾器主體64中時，處理液中的顆粒濃度逐漸變高。當(dāng)這樣的處理液經(jīng)由排出管路被排出至基板W時，大量的顆粒附著在基板W上，在被處理后的基板W上產(chǎn)生缺陷的可能性變高。但是，在以上那樣的循環(huán)模式中，即使處理液從泵裝置Pl排出結(jié)束，也能夠從泵裝置P2排出處理液。通過在從泵裝置P2排出處理液的期間向泵裝置Pl供給處理液，使得即使處理液從泵裝置P2排出結(jié)束，也能夠從泵裝置Pl排出處理液。因此，能夠繼續(xù)向過濾器裝置Fl供給處理液。不僅如此，在上述那樣的循環(huán)模式中，從泵裝置Pl排出的處理液，在通過過濾器裝置Fl之后，經(jīng)由構(gòu)成循環(huán)管路的配管D32、D2返回泵裝置P2。同樣，從泵裝置P2排出的處理液，在通過過濾器裝置Fl之后，經(jīng)由構(gòu)成循環(huán)管路的配管D32、D2返回泵裝置P1。因此，處理液在過濾器裝置Fl中不會滯留地流動。因此，由于能夠抑制處理液中的顆粒濃度的增加，因此能夠抑制在基板W產(chǎn)生缺陷的可能性。
[0165](過濾器維護(hù)模式)
[0166]接著，參照圖11?圖13，對過濾器維護(hù)模式進(jìn)行說明。其中，圖11是表示在圖5的供給系統(tǒng)24a中為了說明過濾器維護(hù)模式所需的部件、省略其它部件進(jìn)行表示的圖。圖11表示泵裝置Pl的部件，從圖11省略了泵裝置P2的部件的記載。在以下說明中，說明使用了泵裝置Pl的過濾器維護(hù)模式的動作，使用泵裝置P2的過濾器維護(hù)模式的動作與使用泵裝置Pl的情況相同。因此，在以下說明中，省略使用泵裝置P2的過濾器維護(hù)模式的說明。
[0167]過濾器維護(hù)模式中包括:使用第一或第二循環(huán)管路，除去過濾器主體64中包含的空氣的恢復(fù)(refresh)動作；和使處理液浸透至更換的新過濾器62，并除去該過濾器主體64中包含的顆粒的初始動作?；謴?fù)動作，例如在過濾器62的使用期間遍及規(guī)定期間以上的長期的情況下、產(chǎn)生缺陷的基板W的數(shù)量或基板W上產(chǎn)生的缺陷的比率為規(guī)定值以上的情況下進(jìn)行。開始恢復(fù)動作的時刻被設(shè)定在上述循環(huán)模式中的步驟2與步驟3之間(穩(wěn)定狀態(tài)期間)。
[0168]另外，圖11表示第一循環(huán)管路的部件(配管D32)，從圖11省略了第二循環(huán)管路的部件(配管D33)的記載。另外，通過第二循環(huán)管路進(jìn)行的過濾器維護(hù)模式的供給系統(tǒng)24a的動作與通過第一循環(huán)管路進(jìn)行的過濾器維護(hù)模式的供給系統(tǒng)24a的動作相同。因此，在以下說明中，省略與包括過濾器裝置F2的第二循環(huán)管路相關(guān)的說明。
[0169]首先，對進(jìn)入過濾器維護(hù)模式前的時刻的步驟11 (圖13的“開始”)進(jìn)行說明。在步驟 11 中，閥 V4、V13、V26、V31 被打開，其它(閥 V1、V2、V9、VI1、V8、V5、V18、V30 和調(diào)節(jié)器R3)被閉塞。因此，處理液通過第一循環(huán)管路進(jìn)行循環(huán)。
[0170]接著，對步驟12 (圖12 (a)、圖13的“循環(huán)停止”)進(jìn)行說明。在步驟12中，控制裝置⑶對閥V13、V26、V31指示使這些閥關(guān)閉。因此，通過第一循環(huán)管路進(jìn)行的處理液的循環(huán)停止。因此，此時，如圖12(a)所示，雖然過濾器主體64由于處理液而處于潤濕的狀態(tài)，但是處理液沒有在過濾器裝置Fl內(nèi)流通。另外，此時，由于閥V4被打開，因此通過來自N2氣體源的N2氣體，泵裝置Pl的氣體室C2被加壓，將活塞板53a推向蓋體52 —側(cè)的力被作用于活塞板53a。
[0171]接著，對步驟13(圖13的“通常脫氣液排出”)進(jìn)行說明。在步驟13中，控制裝置⑶對閥Vll指示使該閥打開。因此，與泵裝置Pl的氣體室C2被加壓的情況相互作用，處理液從泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)被完全排出到系統(tǒng)外。由此，在后述的步驟15 (圖13的“高脫氣液補充”)中向泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)供給高脫氣液時，能夠?qū)⒏嗟母呙摎庖捍娣e在該波紋管泵53內(nèi)。
[0172]接著，對步驟14(圖13的“補充前減壓”)進(jìn)行說明。在步驟14中，控制裝置⑶對閥V9、V8指示使這些閥打開，并且對閥V4、V11指示使這些閥關(guān)閉。由此，來自空氣源的空氣以配管D8、噴射器E和配管DlO的順序流動，在噴射器E的連接部產(chǎn)生負(fù)壓。因此，通過與噴射器E的連接部連接的配管D11、D12、D5，泵裝置Pl的氣體室C2被減壓。
[0173]接著，對步驟15(圖13的“高脫氣液補充”)進(jìn)行說明。在步驟15中，控制裝置⑶對閥V1、V2指示使這些閥打開。由此，泵裝置Pl的活塞板53a被急劇地拉到殼體51的底壁51b側(cè)。因此，泵裝置Pl的波紋管泵53的容積被擴(kuò)大，處理液從處理液源經(jīng)由脫氣噴嘴52a被導(dǎo)入該波紋管泵53內(nèi)。此時，處理液在通過脫氣噴嘴52a時被脫氣，因此脫氣處理完成液和通過脫氣處理從處理液分離出的氣體被導(dǎo)入該波紋管泵53內(nèi)。
[0174]此處，在閥V8所處的配管D9上設(shè)置有調(diào)節(jié)器R5。在調(diào)節(jié)器R5中設(shè)定的壓力的大小，比在調(diào)節(jié)器R4中設(shè)定的壓力的大小大。因此，在步驟15中，與使用調(diào)節(jié)器R4的情況相t匕，氣體室C2進(jìn)一步被減壓，因此處理液經(jīng)由脫氣噴嘴52a以更快的流速被引入泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)。結(jié)果是，處理液的壓力進(jìn)一步下降，溶入處理液內(nèi)的大量氣體被從處理液內(nèi)脫氣。該高脫氣液在與存在于過濾器主體64內(nèi)的微小氣泡接觸時,發(fā)揮捕獲該微小氣泡的功能。因此，通過使這樣的高脫氣液浸透至過濾器裝置64中，能夠更有效地捕獲存在于過濾器主體64內(nèi)的微小氣泡。由此，能夠改善過濾器主體64的性能。將該脫氣處理完成液與使用調(diào)節(jié)器R4制造的脫氣處理完成液(通常脫氣液)區(qū)別，在本說明書中存在稱為“高脫氣液”的情況。
[0175]接著，對步驟16(圖13的“補充后待機”)進(jìn)行說明。在步驟16中，控制裝置CU對閥V1、V2、V8指示使這些閥關(guān)閉。此時，保持高脫氣液存積在泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)的狀態(tài)。
[0176]接著，對步驟17(圖13的“補充后加壓”)進(jìn)行說明。在步驟17中，控制裝置⑶對閥V5指示使該閥打開，并且，對閥V9指示使該閥關(guān)閉。因此，泵裝置Pl的氣體室C2內(nèi)被加壓，但是高脫氣液不從泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)排出。
[0177]接著，對步驟18 (圖13的“補充后排氣”)進(jìn)行說明。在步驟18中，控制裝置CU對閥Vll指示使該閥打開。因此，存積在泵裝置Pl的波紋管泵53內(nèi)的高脫氣液和氣體中一部分的脫氣處理完成液與通過脫氣處理從處理液分離出的氣體一起經(jīng)由配管D14、D16排出至系統(tǒng)外。在步驟18中，也可以僅將通過脫氣處理從處理液分離出的氣體排出至系統(tǒng)夕卜。通過以上的步驟13?18，結(jié)束高脫氣液的制造步驟。
[0178]接著，對步驟19(圖13的“虛擬流通液體”)進(jìn)行說明。在步驟19中，控制裝置⑶對閥V13、V18指示使這些閥打開，對閥Vll指示使該閥關(guān)閉，并且，對調(diào)節(jié)器R3指示以第一值向在自身流動的N2氣體施加壓力。此時，如圖12(b)所示，高脫氣液能夠在過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a與排液口 65c之間流通。因此，從過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a導(dǎo)入的高脫氣液朝向排液口 65c逐漸流動。即，高脫氣液逐漸浸透至過濾器主體64。步驟19中的過濾器裝置Fl內(nèi)的高脫氣液的流量，例如為60ml/min左右。步驟19所要的時間例如為200秒左右。另外，在高脫氣液從排液口 65c排出之前，也可以轉(zhuǎn)移至下一步驟20。
[0179]接著，對步驟20 (圖13的“初始流通液體”)進(jìn)行說明。在步驟20中，控制裝置⑶對閥V26、V30指示使這些閥打開，對閥V18指示使該閥關(guān)閉，并且，對調(diào)節(jié)器R3指示以第二值向在自身流動的N2氣體施加壓力。此時，如圖12(c)、(d)所示，高脫氣液能夠在過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a與排出口 65b之間流通。第二值被設(shè)定為比第一值大。由此，泵裝置Pl的氣體室C2被以更大的壓力加壓。因此，從過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a導(dǎo)入的高脫氣液，以比步驟19大的流量朝向排出口 65b流動。結(jié)果是，如圖12(c)所示，高脫氣液進(jìn)一步浸透至過濾器主體64。浸透至大致整個過濾器主體64的高脫氣液，如圖12(d)所示，在穿過至比過濾器容器63的內(nèi)側(cè)側(cè)壁63b更靠內(nèi)側(cè)后，從排出口 65b排出。從排出口 65b排出的高脫氣液經(jīng)由配管D23、D32、D2、D34被排出至系統(tǒng)外。步驟20中的過濾器裝置Fl內(nèi)的高脫氣液的流量例如為75ml/min左右。步驟20所要的時間例如為640秒左右。
[0180]但是，在通過交換過濾器62將干燥狀態(tài)的過濾器主體64設(shè)置在過濾器裝置Fl的情況下，在過濾器主體64中包含氣體和大量顆粒。當(dāng)使高脫氣液在這樣的狀態(tài)的過濾器62中流通時，雖然能夠從過濾器裝置64內(nèi)排出氣體和顆粒，但是大量的顆粒伴隨在高脫氣液中，使得高脫氣液被污染。但是，由于配管D34通向系統(tǒng)外，因此，不會使被污染的高脫氣液返回泵裝置P1，能夠?qū)⒈晃廴镜母呙摎庖号懦鲋料到y(tǒng)外。
[0181]接著，對步驟21(圖13的“加壓保持”)進(jìn)行說明。在步驟21中，控制裝置⑶對閥V26、V30指示使這些閥關(guān)閉。此時，如圖12(e)所示，排出口 65b和排液口 65c的下游側(cè)的閥V18、V26 一起被關(guān)閉，因此從過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a導(dǎo)入的高脫氣液滯留在過濾器裝置Fl內(nèi)。不僅如此，由于高脫氣液從過濾器裝置Fl的上游側(cè)被送入過濾器裝置Fl內(nèi)，因此過濾器裝置Fl內(nèi)的壓力增加。因此，高脫氣液更加容易浸透至整個過濾器主體64。因此，能夠更加促進(jìn)微小氣泡從過濾器主體64排出。步驟21所要的時間例如為600秒左右。
[0182]接著，對步驟22 (圖13的“流通液體”)進(jìn)行說明。在步驟22中，控制裝置⑶對閥V26、V30指示使這些閥打開。此時，如圖12 (f)所示，高脫氣液能夠在過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a與排出口 65b之間流通。不僅如此，由于閥V5被打開，因此與調(diào)節(jié)器R3的作用相互作用，泵裝置Pl的氣體室C2內(nèi)被以更大的壓力加壓。因此，從過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a導(dǎo)入的高脫氣液以比步驟19快的流速在過濾器裝置Fl內(nèi)流動，被從排出口 65b排出。在步驟22中，使高脫氣液在過濾器裝置Fl中持續(xù)流動規(guī)定時間。從排出口 65b排出的高脫氣液經(jīng)由配管D23、D32、D2、D34被排出至系統(tǒng)外。步驟22中的過濾器裝置Fl內(nèi)的高脫氣液的流量例如為75ml/min左右。步驟22所要的時間例如為3250秒左右。
[0183]接著，對步驟23(圖13的“結(jié)束”)進(jìn)行說明。在步驟23中，控制裝置⑶對閥V4、V31指示使這些閥打開，對閥V5、V30指示使這些閥關(guān)閉，并且使調(diào)節(jié)器R3停止。由此，各個閥和調(diào)節(jié)器轉(zhuǎn)移至與步驟11相同的狀態(tài)。因此，處理液通過第一循環(huán)管路再次進(jìn)行循環(huán)。
[0184]在以上的過濾器維護(hù)模式中，在步驟19(圖13的“虛擬流通液體”)中，從泵裝置Pl以第一流量向過濾器裝置Fl供給高脫氣液，在接著的步驟20 (圖13的“初始流通液體”)中，以比第一流量大的第二流量從泵裝置Pl向過濾器裝置Fl供給高脫氣液。因此，在步驟19中，高脫氣液逐漸浸透至過濾器裝置Fl內(nèi)的過濾器主體64后，在步驟20中，高脫氣液浸透至大致整個過濾器主體64。在過濾器主體64最開始與比較大的流量的高脫氣液接觸的情況下，高脫氣液不會浸透至整個過濾器主體64，存在過濾器主體64內(nèi)的大小的氣泡保持持續(xù)存在的狀態(tài)的問題，但是通過經(jīng)過上述那樣的步驟19、20，高脫氣液逐漸浸透至過濾器主體64，因此能夠?qū)⑦^濾器主體64內(nèi)的大小的氣泡排出至過濾器主體64外。而且，在上述的過濾器維護(hù)模式中，在步驟22 (圖13的“流通液體”)中，保持使高脫氣液從泵裝置Pl向過濾器裝置Fl流動規(guī)定時間的狀態(tài)。因此，能夠通過高脫氣液更有效地將過濾器主體64內(nèi)的微小氣泡排出至過濾器主體64外。以上方式的結(jié)果是，能夠改善過濾器主體64的性能。但是，雖然通過過濾器62的交換也能夠改善過濾器主體64的性能，而為了交換過濾器62，需要停止用于向基板W排出處理液的供給系統(tǒng)24a，存在生產(chǎn)能力下降的問題。但是，當(dāng)采用上述的過濾器維護(hù)模式時，通過流通高脫氣液，能夠改善過濾器主體64的性能，沒有必要停止供給系統(tǒng)24a，因此基本沒有生產(chǎn)能力下降的問題。另外，在一定期間使用過濾器62后，結(jié)果在氣泡蓄積在過濾器主體64中過濾器主體64的性能下降的情況下、干燥狀態(tài)的過濾器主體64由于過濾器62的更換而設(shè)置在過濾器裝置Fl的情況下，均能夠應(yīng)用上述的過濾器維護(hù)模式。
[0185](其它實施方式)
[0186]以上，對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行了詳細(xì)的說明，但是本發(fā)明并不限定于上述的實施方式。例如，也可以采用與上述的實施方式不同的結(jié)構(gòu)的供給系統(tǒng)24a。圖14表示供給系統(tǒng)24a的另一例子。該供給系統(tǒng)24a的配管D19的下游側(cè)的結(jié)構(gòu)與上述實施方式不同。在以下說明中，尤其以不同點為中心進(jìn)行說明。配管D19的下游側(cè)不分支，配管D19的下游端與配管D20的上游端連接。配管D20的下游端與過濾器裝置Fl的導(dǎo)入口 65a連接。在配管D23上，從上游側(cè)起依次設(shè)置有流量計FMl、閥V15和噴嘴NI。配管D24在流量計FMl的上游側(cè)從配管D23分支。在配管D24上，從上游側(cè)起一起設(shè)置有流量計FM2、閥V16和噴嘴N2。在該供給系統(tǒng)24a的另一例子中，在過濾器裝置Fl的下游側(cè)分支為配管D23、D24，因此能夠使通過過濾器裝置Fl后的處理液流向多個配管。因此，沒有必要在每個配管設(shè)置過濾器裝置，能夠降低成本。
[0187]也可以不使用N2氣體源和空氣源這樣的流體的力，而使用線性致動器等機械構(gòu)件使波紋管泵53的活塞板53a動作。
[0188]也可以使用波紋管泵53以外的容積可變的泵。
[0189]在上述實施方式中，根據(jù)波紋管泵53的容積的變動向波紋管泵53內(nèi)供給處理液，從波紋管泵53內(nèi)排出處理液。但是也可以采用如下方式:使用容積不變的泵，使該泵內(nèi)的壓力相對變高或變低，由此向該泵內(nèi)供給處理液，從該泵內(nèi)排出處理液。
[0190]在上述的實施方式中，使用脫氣噴嘴52a通過泵裝置P1、P2的動作制造脫氣處理完成液，但是也可以采用如下方式:泵裝置PU P2不具備脫氣噴嘴52a，將由其它裝置制造的脫氣處理完成液供給至泵裝置P1、P2。
【權(quán)利要求】
1.一種氣泡除去方法，其特征在于，包括: 第一步驟，經(jīng)由與基板的處理液的供給源側(cè)相比容器側(cè)的流路面積較小的脫氣噴嘴，向所述處理容器內(nèi)供給處理液，對來自所述供給源的處理液進(jìn)行脫氣； 第二步驟，在所述第一步驟之后，將作為在所述第一步驟中進(jìn)行了脫氣處理后的處理液的脫氣處理完成液，以第一處理液流量從所述容器供給至具有過濾器的過濾器裝置；第三步驟，在所述第二步驟之后，將所述脫氣處理完成液以比所述第一處理液流量大的第二處理液流量從所述容器供給至所述過濾器裝置；和 第四步驟，在所述第三步驟之后，保持使所述脫氣處理完成液從所述容器向所述過濾器裝置流動規(guī)定時間的狀態(tài)。
2.如權(quán)利要求1所述的氣泡除去方法，其特征在于，還包括: 在所述第三步驟之后且在所述第四步驟之前，對所述過濾器裝置內(nèi)進(jìn)行加壓的第五步驟。
3.如權(quán)利要求1或2所述的氣泡除去方法，其特征在于，還包括: 在所述第一步驟之前，將存積在所述容器內(nèi)的處理液排出至所述容器外的第六步驟。
4.如權(quán)利要求1?3中任一項所述的氣泡除去方法，其特征在于: 所述容器是容積可變的泵， 在所述第一步驟中，使所述泵的容積擴(kuò)大，將所述處理液從所述供給源供給至所述泵內(nèi)， 在所述第二步驟?第四步驟中，使所述泵的容積縮小，將所述脫氣處理完成液從所述泵供給至所述過濾器裝置內(nèi)。
5.一種氣泡除去裝置，其特征在于，包括: 第一容器，其暫時存積從供給源供給的基板的處理液； 第一脫氣噴嘴，其位于所述供給源與所述第一容器之間，與所述供給源側(cè)相比所述第一容器側(cè)的流路面積較?。? 排出管路，其將從所述第一容器排出的處理液向所述基板排出； 過濾器裝置，其設(shè)置于排出管路且具有過濾器； 供給排出部，其將處理液從所述供給源經(jīng)由所述第一脫氣噴嘴供給至所述第一容器內(nèi)，使作為進(jìn)行了脫氣處理后的處理液的脫氣處理完成液存積在所述第一容器內(nèi)，并使所述第一容器內(nèi)的所述脫氣處理完成液排出至所述排出管路；和控制部，其控制所述供給排出部的動作， 所述控制部使所述供給排出部執(zhí)行: 將所述脫氣處理完成液以第一處理液流量從所述第一容器供給至所述過濾器裝置的第一動作； 在所述第一動作之后，將所述脫氣處理完成液以比所述第一處理液流量大的第二處理液流量從所述第一容器供給至所述過濾器裝置的第二動作；和 在所述第二動作之后，保持使所述脫氣處理完成液從所述第一容器向所述過濾器裝置流動規(guī)定時間的狀態(tài)的第三動作。
6.如權(quán)利要求5所述的氣泡除去裝置，其特征在于: 所述第一容器是容積可變的泵， 所述控制部， 在使所述供給排出部執(zhí)行所述第一動作時，以第一壓力對所述泵進(jìn)行加壓，使所述泵的容積縮小， 在使所述供給排出部執(zhí)行所述第二動作和第三動作時，以比所述第一壓力高的第二壓力對所述泵進(jìn)行加壓，使所述泵的容積縮小。
7.如權(quán)利要求5所述的氣泡除去裝置，其特征在于: 還包括循環(huán)管路，其從所述排出管路分支，使處理液返回所述第一容器， 所述過濾器裝置設(shè)置在所述排出管路中與所述循環(huán)管路的分支點相比更靠所述第一容器側(cè)的位置。
8.如權(quán)利要求7所述的氣泡除去裝置，其特征在于: 在所述循環(huán)管路設(shè)置有將在所述循環(huán)管路中流動的處理液排出的排出管路。
9.如權(quán)利要求5?8中任一項所述的氣泡除去裝置，其特征在于，還包括: 第二容器，其暫時存積從供給源供給的基板的處理液；和 第二脫氣噴嘴，其位于所述供給源與所述第二容器之間，與所述供給源側(cè)相比所述第二容器側(cè)的流路面積較小， 用于對所述基板排出的處理液分別從所述第一容器和第二容器排出至所述排出管路，所述供給排出部使處理液從所述供給源經(jīng)由所述第二脫氣噴嘴供給至所述第二容器內(nèi)，使作為進(jìn)行了脫氣處理后的處理液的脫氣處理完成液存積在所述第二容器內(nèi)，并使所述第二容器內(nèi)的所述脫氣處理完成液排出至所述排出管路， 所述控制部使所述供給排出部執(zhí)行動作，使得在所述第一容器內(nèi)的所述脫氣處理完成液被供給至所述過濾器裝置時，不使所述第二容器內(nèi)的所述脫氣處理完成液供給至所述過濾器裝置，并且在所述第二容器內(nèi)的所述脫氣處理完成液被供給至所述過濾器裝置時，不使所述第一容器內(nèi)的所述脫氣處理完成液供給至所述過濾器裝置。
10.如權(quán)利要求5?9中任一項所述的氣泡除去裝置，其特征在于: 所述排出管路分支成多個子管路。
11.如權(quán)利要求10所述的氣泡除去裝置，其特征在于: 所述排出管路在所述過濾器裝置的下游側(cè)分支成多個子管路。
12.一種脫氣裝置，其特征在于，包括: 容積可變的泵，其暫時存積從供給源供給的基板的處理液； 脫氣噴嘴，其位于所述供給源與所述泵之間，與所述供給源側(cè)相比所述泵側(cè)的流路面積較小； 排出管路，其用于將從所述泵排出的處理液向所述基板排出；和供給排出部，其使處理液從所述供給源經(jīng)由所述脫氣噴嘴供給至所述泵內(nèi)，使作為進(jìn)行了脫氣處理后的處理液的脫氣處理完成液存積在所述泵內(nèi)，并使所述泵內(nèi)的所述脫氣處理完成液排出至所述排出管路， 所述供給排出部在使處理液從所述供給源經(jīng)由所述脫氣噴嘴供給至所述泵內(nèi)時，有選擇地使第一壓力或比所述第一壓力低的第二壓力作用于所述泵。
13.如權(quán)利要求12所述的脫氣裝置，其特征在于: 還具備收納所述泵的殼體， 所述供給排出部包括: 噴射器，其有選擇地使流體以第一噴射器流量或比所述第一噴射器流量低的第二噴射器流量從入口側(cè)向出口側(cè)流通；和 配管，其使所述殼體與所述泵的外表面之間的空間和所述噴射器中的所述入口與所述出口之間的中間部流體性地連接。
【文檔編號】H01L21/67GK104517874SQ201410513762
【公開日】2015年4月15日 申請日期:2014年9月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月4日
【發(fā)明者】井關(guān)智弘, 船越秀朗, 戶塚誠也 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社