一種芯片封裝結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種芯片封裝結(jié)構(gòu),包括第一導電層,第一芯片設置在第一導電層上,其輸入端與第一導電層電連接,第二導電層設置在第一芯片上,與第一芯片的輸出端電連接,第二芯片設置在第二導電層上,其輸入端與第二導電層電連接,第三導電層設置在第二芯片上,與其輸出端電連接,第一芯片和第二芯片交錯堆疊,在第一導電層、第二導電層以及第三導電層間形成第一散熱通道和第二散熱通道。本發(fā)明所述芯片封裝結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)簡潔,通過第一散熱通道、第二散熱通道等形成了多通道多層散熱,提高了器件的使用壽命和可靠性。
【專利說明】一種芯片封裝結(jié)構(gòu)
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及芯片封裝【技術領域】。具體地說涉及一種芯片封裝結(jié)構(gòu)。
【背景技術】
[0002]分立式封裝的電力電子半導體器件廣泛用于開關電源、逆變器和電機驅(qū)動器等眾多場合。但分立式封裝結(jié)構(gòu)不但增大了器件的整體尺寸,還增加了芯片間的距離,因此分立式封裝的電力電子半導體器件的連線常通過PCB板的預制導電線路相連,但這將會增大電路占用的三維空間,不利于電源系統(tǒng)的小型化。
[0003]隨著國家將“節(jié)能減排”提高到基本國策高度,能效標準不斷提高,功率器件的發(fā)展趨勢是:高擊穿電壓,低導通電阻,大電流,高工作溫度,低開關損耗以及高開關速度?;诘谌雽w材料的功率器件開發(fā),包括芯片材料、封裝集成工藝以及封裝關鍵材料等引起了包括學術界和工業(yè)界的廣泛關注。眾所周知,基于第三代半導體芯片封裝的結(jié)構(gòu)設計以及各種關鍵封裝材料的共同作用將顯著提升器件的綜合性能。但國內(nèi)外目前基于第三代半導體的芯片大多采用成熟的引線鍵合(wire bonding)技術封裝或者類似wirebonding的衍生技術來實現(xiàn)。該類技術主要存在封裝結(jié)構(gòu)層次復雜,界面熱阻大而不利于散熱、電極接觸面積小而接觸電阻大導致器件損耗高、器件主要依靠單通道散熱使得器件壽命低和可靠性差等缺陷。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]為此,本發(fā)明所要解決的技術問題在于現(xiàn)有技術中的半導體芯片封裝結(jié)構(gòu),存在層次復雜,界面熱阻大而不利于散熱、電極接觸面積小而接觸電阻大導致器件損耗高、器件主要依靠單通道散熱使得器件壽命低和可靠性差等缺陷,從而提供一種結(jié)構(gòu)簡潔,能夠多通道散熱的芯片封裝結(jié)構(gòu)。
[0005]為解決上述技術問題,本發(fā)明的技術方案如下:
[0006]本發(fā)明提供了一種芯片封裝結(jié)構(gòu),包括:
[0007]第一導電層;
[0008]第一芯片,設置在所述第一導電層上,所述第一芯片的輸入端與所述第一導電層電連接;
[0009]第二導電層,設置在所述第一芯片上,與所述第一芯片的輸出端電連接;
[0010]第二芯片,設置在所述第二導電層上,所述第二芯片的輸入端與第二導電層電連接;
[0011]第三導電層,設置在所述第二芯片上,與所述第二芯片的輸出端電連接;
[0012]其中,所述第一芯片和所述第二芯片交錯堆疊,在所述第一導電層、所述第二導電層以及所述第三導電層間形成第一散熱通道和第二散熱通道。
[0013]本發(fā)明所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),所述第一導電層的外表面和所述第三導電層的外表面為散熱片形狀。
[0014]本發(fā)明所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),所述第二導電層超出所述第一導電層和所述第三導電層的邊緣部分為散熱片形狀。
[0015]本發(fā)明所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),還包括:
[0016]第一絕緣層,覆蓋于所述第一導電層的外表面;
[0017]第二絕緣層,覆蓋于所述第三導電層的外表面。
[0018]本發(fā)明所述的多芯片封裝結(jié)構(gòu),還包括:第一導電柱,與所述第一芯片的控制端電連接,經(jīng)所述第二導電層、所述第二散熱通道、所述第三導電層以及所述第二絕緣層后伸出,并與所述第二導電層和所述第三導電層保持絕緣;
[0019]第二導電柱,與所述第二芯片的控制端電連接,經(jīng)所述第三導電層以及所述第二絕緣層后伸出,并與所述第三導電層保持絕緣。
[0020]本發(fā)明所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),所述第一導電柱與所述第二導電層和所述第三導電層之間有縫隙,所述縫隙間填充有絕緣導熱材料;
[0021]所述第二導電柱與所述第三導電層之間有縫隙,所述縫隙間填充有絕緣導熱材料。
[0022]本發(fā)明所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),所述第一導電柱與所述第二導電層以及所述第三導電層相接觸的外表面涂覆有絕緣導熱材料;
[0023]所述第二導電柱與所述第三導電層相接觸的外表面涂覆有絕緣導熱材料。
[0024]本發(fā)明所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),還包括:
[0025]第一二極管芯片,位于所述第一散熱通道內(nèi),所述第一二極管芯片的正極通過所述第二導電層與所述第一芯片的輸出端電連接,所述第一二極管芯片的負極通過所述第一導電層與所述第一芯片的輸入端電連接;
[0026]第二二極管芯片,位于所述第二散熱通道內(nèi),所述第二二極管芯片的正極通過所述第三導電層與所述第二芯片的輸出端電連接,所述第二二極管芯片的負極通過所述第二導電層與所述第二芯片的輸入端電連接。
[0027]本發(fā)明所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),所述第一散熱通道和所述第二散熱通道間均填充有絕緣導熱材料。
[0028]本發(fā)明所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),所述第一芯片和所述第二芯片為可控半導體芯片。
[0029]本發(fā)明的上述技術方案相比現(xiàn)有技術具有以下優(yōu)點:
[0030]本發(fā)明提供了一種芯片封裝結(jié)構(gòu),包括第一導電層,第一芯片設置在第一導電層上,其輸入端與第一導電層電連接,第二導電層設置在第一芯片上,與第一芯片的輸出端電連接,第二芯片設置在第二導電層上,其輸入端與第二導電層電連接,第三導電層設置在第二芯片上,與其輸出端電連接,第一芯片和第二芯片交錯堆疊,在第一導電層、第二導電層以及第三導電層間形成第一散熱通道和第二散熱通道。本發(fā)明所述芯片封裝結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)簡潔,通過第一散熱通道、第二散熱通道等形成了多通道散熱,提高了器件的使用壽命和可靠性。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0031]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚的理解,下面根據(jù)本發(fā)明的具體實施例并結(jié)合附圖,對本發(fā)明作進一步詳細的說明,其中
[0032]圖1是芯片外部未并聯(lián)二極管時芯片封裝結(jié)構(gòu)的示意圖;
[0033]圖2是芯片外部未并聯(lián)二極管時芯片封裝結(jié)構(gòu)的爆炸圖;
[0034]圖3是三個芯片封裝結(jié)構(gòu)并聯(lián)的電路拓撲圖;
[0035]圖4是芯片封裝結(jié)構(gòu)的電路拓撲圖;
[0036]圖5是芯片外部并聯(lián)二極管時芯片封裝結(jié)構(gòu)的示意圖;
[0037]圖6是芯片外部并聯(lián)二極管時芯片封裝結(jié)構(gòu)的爆炸圖。
[0038]圖中附圖標記表不為:1-第一導電層,2-第一芯片,3-第二導電層,4-第二芯片,5-第三導電層,6-第一散熱通道,7-第二散熱通道,8-第一絕緣層,9-第二絕緣層,10-第一導電柱,11-第二導電柱,12-第一二極管芯片,13-第二二極管芯片,21-第一芯片的輸入端,22-第一芯片的輸出端,23-第一芯片的控制端,41-第二芯片的輸入端,42-第二芯片的輸出端,43-第二芯片的控制端。
【具體實施方式】
[0039]本實施例提供了一種芯片封裝結(jié)構(gòu),如圖1、圖2所示,包括:
[0040]第一導電層I;
[0041]第一芯片2,設置在所述第一導電層I上,所述第一芯片2的輸入端21與所述第一導電層I電連接;
[0042]第二導電層3,設置在所述第一芯片2上,與所述第一芯片2的輸出端22電連接;
[0043]第二芯片4,設置在所述第二導電層3上,所述第二芯片4的輸入端41與第二導電層3電連接;
[0044]第三導電層5,設置在所述第二芯片4上,與所述第二芯片4的輸出端42電連接;
[0045]其中,所述第一芯片I和所述第二芯片2交錯堆疊,在所述第一導電層1、所述第二導電層3以及所述第三導電層5間形成第一散熱通道6和第二散熱通道7。
[0046]具體地,第一導電層1、第二導電層3、第三導電層5可以為銅層,也可以為其它能導電導熱的材料,比如鋁,第一導電層1、第二導電層3、第三導電層5、第一散熱通道6以及第二散熱通道7實現(xiàn)了芯片封裝結(jié)構(gòu)的多通道多層散熱,取得了非常好的散熱效果。
[0047]優(yōu)選地,所述第一導電層I的外表面和所述第三導電層5的外表面可以為散熱片形狀。
[0048]優(yōu)選地,所述第二導電層3超出所述第一導電層I和所述第三導電層5的邊緣部分可以為散熱片形狀。
[0049]具體的,上述散熱片形狀包括但不限于針狀、柱狀、片狀或者翅狀等形狀,可以進一步增強第一導電層I的外表面、第三導電層5的外表面以及第二導電層3超出第一導電層I和第三導電層5的邊緣部分的散熱性能。
[0050]優(yōu)選地,本實施例所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),還可以包括:
[0051]第一絕緣層8,覆蓋于所述第一導電層I的外表面;
[0052]第二絕緣層9,覆蓋于所述第三導電層5的外表面。
[0053]具體地,第一絕緣層8和第二絕緣層9可以采用噴涂或電鍍的方式覆蓋于第一導電層I和第三導電層5的外表面。
[0054]優(yōu)選地,可以平鋪多個該芯片封裝結(jié)構(gòu),通過相鄰的芯片封裝結(jié)構(gòu)間的第一導電層I和第二導電層3分別電連接,可以使相鄰的兩個第一芯片2的輸入端、輸出端共用,無需增加多余的導線就實現(xiàn)了相鄰的兩個第一芯片2的并聯(lián);通過各個芯片封裝結(jié)構(gòu)間相鄰的第二導電層3和第三導電層4的電接觸,可以使相鄰的兩個第二芯片4的輸入端、輸出端共用,無需增加多余的導線就實現(xiàn)了相鄰的兩個第二芯片4的并聯(lián)。
[0055]當然,也可以將第一導電層I和第三導電層5的面積加大,這樣相鄰的芯片封裝結(jié)構(gòu)間就會只有第一導電層I和第三導電層5分別電連接,而第二導電層3間保持絕緣,從而實現(xiàn)了多個芯片封裝結(jié)構(gòu)間的并聯(lián)。
[0056]圖3為三個芯片封裝結(jié)構(gòu)間并聯(lián)的電路拓撲圖,可以應用于目前逆變器常用的三相橋式逆變電路。可以看到三個芯片封裝結(jié)構(gòu)中的第一導電層I電連接,使得第一芯片2的輸入端(集電極)共用,三個芯片封裝結(jié)構(gòu)中的第三導電層5電連接,使得第二芯片4的輸出端(發(fā)射極)共用,從而無需增加多余的導線就可以實現(xiàn)三個芯片封裝結(jié)構(gòu)間的并聯(lián)。
[0057]優(yōu)選地,本實施例所述的多芯片封裝結(jié)構(gòu),還可以包括:第一導電柱10,與所述第一芯片2的控制端23電連接,經(jīng)所述第二導電層3、所述第二散熱通道7、所述第三導電層5以及所述第二絕緣層9后伸出,并與所述第二導電層3和所述第三導電層5保持絕緣;
[0058]第二導電柱11,與所述第二芯片4的控制端43電連接,經(jīng)所述第三導電層5以及所述第二絕緣層9后伸出,并與所述第三導電層5保持絕緣。
[0059]具體地,可以通過第一導電柱10向第一芯片2的控制端23輸入控制信號,控制第一芯片2的啟動或者關閉,可以通過第二導電柱11向第二芯片4的控制端43輸入控制信號,控制第二芯片4的啟動或者關閉,實現(xiàn)了對第二芯片2和第四芯片4的分時復用。
[0060]可選地,所述第一導電柱10與所述第二導電層3和所述第三導電層5之間有縫隙,所述縫隙間填充有絕緣導熱材料;
[0061]所述第二導電柱11與所述第三導電層5之間有縫隙,所述縫隙間填充有絕緣導熱材料。
[0062]具體地,通過在第一導電柱10與第二導電層3、第三導電層5的通道的縫隙間填充絕緣導熱材料,在保證了第一導電柱與第二導電層3、第三導電層5絕緣的同時,也能夠使第一導電柱10具有良好的散熱性,有利于器件保持良好的性能。通過在第二導電柱11與所述第三導電層5的通道的縫隙間填充絕緣導熱材料也可以達到相同的有益效果。
[0063]作為另一種可選的方式,所述第一導電柱10與所述第二導電層3以及所述第三導電層5相接觸的外表面可以涂覆有絕緣導熱材料,所述第二導電柱11與所述第三導電層5相接觸的外表面可以涂覆有絕緣導熱材料。同樣能在絕緣的同時保障第一導電柱10和第二導電柱11具有良好的散熱性。
[0064]優(yōu)選地,所述第一芯片2和所述第二芯片4為可控半導體芯片。
[0065]具體地,可控半導體芯片包含MOS管芯片、IGBT芯片、晶閘管芯片、三極管芯片等。所述第一芯片2和所述第二芯片4可以為同一種可控半導體芯片,也可以為不同種可控半導體芯片。以三極管芯片和MOS管芯片為例,當所述第一芯片2和/或所述第二芯片4為三極管芯片時,芯片的基極即為控制端,芯片的集電極即為輸入端,芯片的發(fā)射極即為輸出端;當所述第一芯片2和/或所述第二芯片4為MOS管芯片時,芯片的柵極即為控制端,芯片的源極即為輸入端,芯片的漏極即為輸出端。
[0066]優(yōu)選地,所述第一散熱通道6和所述第二散熱通道7間均可以填充有絕緣導熱材料。進一步增強了第一散熱通道6和第二散熱通道7的散熱性能。
[0067]圖4為上述芯片封裝結(jié)構(gòu)的電路拓撲圖,結(jié)合圖1、圖2可以看到,電流從第一導電層I流入,經(jīng)第一導電層I流入第一芯片2的輸入端21 (集電極D),經(jīng)第一芯片2的輸出端22 (發(fā)射極S)輸出至第二導電層3,經(jīng)第二導電層3流入第二芯片4的輸入端41 (集電極D),經(jīng)第二芯片4的輸出端42 (發(fā)射極S)流出至第三導電層5,將電流引出,實現(xiàn)了第一芯片2和第_■芯片4的串聯(lián)。
[0068]優(yōu)選地,所述芯片封裝結(jié)構(gòu),如圖5、圖6所示,還可以包括:
[0069]第一二極管芯片12,位于所述第一散熱通道6內(nèi),所述第一二極管芯片12的正極通過所述第二導電層3與所述第一芯片2的輸出端22電連接,所述第一二極管芯片12的負極通過所述第一導電層I與所述第一芯片2的輸入端21電連接;
[0070]第二二極管芯片13,位于所述第二散熱通道7內(nèi),所述第二二極管芯片13的正極通過所述第三導電層5與所述第二芯片4的輸出端42電連接,所述第二二極管芯片13的負極通過所述第二導電層3與所述第二芯片4的輸入端41電連接。
[0071]具體地,若芯片內(nèi)沒有集成二極管時,可以外接二極管芯片來對芯片進行保護,若芯片內(nèi)集成二極管時,可以外接高性能二極管芯片提高來對芯片進行保護或者減少二極管的開關損耗。
[0072]如圖4所示,結(jié)合圖5和圖6,可以看到,第一二極管芯片12的正極通過第二導電層3與第一芯片2的輸出端22 (發(fā)射極S)電連接,第一二極管芯片12的負極通過所述第一導電層I與所述第一芯片2的輸入端21 (集電極D)電連接;第二二極管芯片13的正極通過所述第三導電層5與所述第二芯片4的輸出端42 (發(fā)射極S)電連接,所述第二二極管芯片13的負極通過所述第二導電層3與所述第二芯片4的輸入端41 (集電極D)電連接。
[0073]本實施例所述芯片封裝結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)簡潔,通過第一散熱通道6、第二散熱通道7、第一絕緣層8、第二絕緣層9等形成了多通道散熱,提高了器件的使用壽命和可靠性。
[0074]顯然,上述實施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例,而并非對實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說,在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處于本發(fā)明創(chuàng)造的保護范圍之中。
【權(quán)利要求】
1.一種芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,包括: 第一導電層⑴; 第一芯片(2),設置在所述第一導電層(1)上,所述第一芯片(2)的輸入端(21)與所述第一導電層⑴電連接; 第二導電層(3),設置在所述第一芯片(2)上,與所述第一芯片(2)的輸出端(22)電連接; 第二芯片(4),設置在所述第二導電層(3)上,所述第二芯片(4)的輸入端(41)與第二導電層⑶電連接; 第三導電層(5),設置在所述第二芯片(4)上,與所述第二芯片(4)的輸出端(42)電連接; 其中,所述第一芯片(1)和所述第二芯片(2)交錯堆疊,在所述第一導電層(1)、所述第二導電層(3)以及所述第三導電層(5)間形成第一散熱通道(6)和第二散熱通道(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一導電層(1)的外表面和所述第三導電層(5)的外表面為散熱片形狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二導電層(3)超出所述第一導電層(1)和所述第三導電層(5)的邊緣部分為散熱片形狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括: 第一絕緣層(8),覆蓋于所述第一導電層(1)的外表面; 第二絕緣層(9),覆蓋于所述第三導電層(5)的外表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括:第一導電柱(10),與所述第一芯片(2)的控制端(23)電連接,經(jīng)所述第二導電層(3)、所述第二散熱通道(7)、所述第三導電層(5)以及所述第二絕緣層(9)后伸出,并與所述第二導電層(3)和所述第三導電層⑶保持絕緣; 第二導電柱(11),與所述第二芯片⑷的控制端(43)電連接,經(jīng)所述第三導電層(5)以及所述第二絕緣層(9)后伸出,并與所述第三導電層(5)保持絕緣。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一導電柱(10)與所述第二導電層(3)和所述第三導電層(5)之間有縫隙,所述縫隙間填充有絕緣導熱材料; 所述第二導電柱(11)與所述第三導電層(5)之間有縫隙,所述縫隙間填充有絕緣導熱材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一導電柱(10)與所述第二導電層(3)以及所述第三導電層(5)相接觸的外表面涂覆有絕緣導熱材料; 所述第二導電柱(11)與所述第三導電層(5)相接觸的外表面涂覆有絕緣導熱材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括: 第一二極管芯片(12),位于所述第一散熱通道(6)內(nèi),所述第一二極管芯片(12)的正極通過所述第二導電層(3)與所述第一芯片(2)的輸出端(22)電連接,所述第一二極管芯片(12)的負極通過所述第一導電層⑴與所述第一芯片⑵的輸入端(21)電連接; 第二二極管芯片(13),位于所述第二散熱通道(7)內(nèi),所述第二二極管芯片(13)的正極通過所述第三導電層(5)與所述第二芯片(4)的輸出端(42)電連接,所述第二二極管芯片(13)的負極通過所述第二導電層(3)與所述第二芯片(4)的輸入端(41)電連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一散熱通道(6)和所述第二散熱通道(7)間均填充有絕緣導熱材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一芯片(2)和所述第二芯片(4)為可控半導體芯片。
【文檔編號】H01L23/538GK104392980SQ201410708119
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2014年11月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月27日
【發(fā)明者】梁嘉寧, 徐國卿, 劉玢玢, 石印洲, 宋志斌, 常明, 蹇林旎 申請人:深圳先進技術研究院