清潔器的制造方法【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種清潔器，包括磨盤和連接磨盤的手柄，磨盤能夠相對手柄運(yùn)動，操作人員手持手柄，即可將磨盤伸到待清潔物表面對其進(jìn)行清潔，可以很好地清潔到待清潔物表面的周邊區(qū)域。同時清潔器包括貫穿所述手柄內(nèi)部的吸氣管，其一端露出于所述磨盤表面，另一端連接吸氣接頭。對于待清潔物的表面能夠一邊磨，一邊將磨下的顆粒吸走。清潔器的磨盤材料為陶瓷，減少了磨動對待清潔物表面及其周邊物體可能造成的損壞?！緦＠f明】'、主.:士哭/月/Π口口【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，尤其涉及一種清潔器?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]光刻(photolithography)是通過一系列生產(chǎn)步驟,將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。在此之后，晶圓表面會留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。通過光刻工藝過程，最終在晶圓上保留的是特征圖形部分。光刻是半導(dǎo)體工藝中重要的制程，包含涂膠，曝光，顯影等步驟。[0003]曝光制程使用的機(jī)臺即光刻機(jī)如圖1所示，襯底10放置于載臺(table)20上，在曝光室I中曝光。但是，如果在承載襯底10的載臺20上存在顆粒物(particle),貝U可能導(dǎo)致失焦(defocus)，影響曝光的精確度?，F(xiàn)有的做法是，當(dāng)曝光時檢測到失焦現(xiàn)象時，通過影像確定襯底10上失焦現(xiàn)象出現(xiàn)的具體位置，然后對應(yīng)確定下方載臺20上存在顆粒的位置；之后，取下襯底10，操作人員將承載載臺20的轉(zhuǎn)動臺30(stage)圍繞設(shè)置于曝光室I一側(cè)的轉(zhuǎn)軸40沿圖1中箭頭方向轉(zhuǎn)出所述曝光室1，然后操作人員手持一個大理石磨片在載臺20上存在顆粒物的位置移動以磨去顆粒物，再用無塵布沾異丙醇(IPA)將載臺20表面擦拭干凈。[0004]由于曝光時襯底10設(shè)置于曝光室I內(nèi)部,襯底10的上方及周圍具有其他組件，因此，若要進(jìn)行上述清潔載臺20的過程，必須將轉(zhuǎn)動臺30整體轉(zhuǎn)出曝光室I的外部，其過程較為繁瑣。而且由于曝光是個非常精細(xì)的制程，轉(zhuǎn)動臺30大范圍的轉(zhuǎn)動，可能導(dǎo)致之后的曝光出現(xiàn)更大的偏差。另外，由于大理石磨片的體積大、重量大，很容易將載臺20的表面過度磨損而損壞載臺20，而且體積過大的大理石磨片在清潔過程中易損壞載臺20周邊的鏡子等物體。
實(shí)用新型內(nèi)容[0005]針對現(xiàn)有技術(shù)中具有的問題，本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是，提供一種裝置，能夠在不將轉(zhuǎn)動臺全部轉(zhuǎn)出的情況下，實(shí)現(xiàn)對載臺表面的清潔，且不損壞載臺的表面。[0006]基于此，本實(shí)用新型提供一種清潔器，包括手柄和連接所述手柄的磨盤，所述磨盤能夠相對所述手柄運(yùn)動。[0007]可選的，所述清潔器還包括彈性支架，所述手柄通過所述彈性支架連接所述磨盤。[0008]可選的，所述清潔器還包括固定件，緊貼所述磨盤背面的中間位置設(shè)置，所述彈性支架連接于所述手柄的一端和所述固定件。[0009]可選的，所述磨盤上形成有至少一個吸氣孔。[0010]可選的，所述清潔器還包括貫穿所述手柄內(nèi)部的吸氣管和位于手柄外部的吸氣接頭，所述吸氣管的一端與所述吸氣孔連通，另一端連接所述吸氣接頭。[0011]可選的，所述吸氣孔的數(shù)量有多個，其中一部分吸氣孔直接連通所述吸氣管，另一部分吸氣孔通過支管從所述磨盤的兩側(cè)穿出，而從外部連接到所述吸氣管在手柄內(nèi)部的部分。[0012]可選的，所述支管在所述手柄內(nèi)部匯聚至所述吸氣管。[0013]可選的，所述磨盤的材料為陶瓷。[0014]可選的，所述吸氣管的材料為橡膠。[0015]相比于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型提供的清潔器包括磨盤和連接磨盤的手柄，磨盤能夠相對手柄運(yùn)動，使得操作人員手持手柄，即可將磨盤伸到待清潔物表面對其進(jìn)行清潔，可以很好地清潔到待清潔物表面的周邊區(qū)域。同時清潔器包括貫穿所述手柄內(nèi)部的吸氣管，其一端露出于所述磨盤表面，另一端連接吸氣接頭。對于待清潔物的表面能夠一邊磨，一邊將磨下的顆粒吸走。清潔器的磨盤材料為陶瓷，減少了磨動對待清潔物表面及其周邊物體可能造成的損壞。【專利附圖】【附圖說明】[0016]圖1為光刻時曝光室及內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。[0017]圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例所述的清潔器的正面示意圖。[0018]圖3為本實(shí)用新型一實(shí)施例所述的清潔器的背面示意圖。【具體實(shí)施方式】[0019]以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本實(shí)用新型實(shí)施例的目的。[0020]圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例所述的清潔器的示意圖。如圖2所示，清潔器包括手柄200和連接手柄200的磨盤100，磨盤100和手柄200通過彈性支架400連接，使得磨盤100能夠相對手柄200運(yùn)動。[0021]如圖3所示，彈性支架400連接于手柄200的一端和磨盤100背面的中間位置。具體的，在磨盤100背面的中間位置具有固定件410，所述固定件410緊貼磨盤100背面設(shè)置，所述彈性支架400的數(shù)量為兩根，分別連接于所述固定件410的兩端。如此，磨盤100可以繞固定件410而相對于彈性支架400自由轉(zhuǎn)動，使得操作人員能夠手持手柄200，從各個角度來回移動以清潔被清潔物表面，而磨盤100的正面始終貼合被清潔物表面。因此，彈性支架400是由彈性材料制成，彈性支架400的彈性也使得在清潔過程中磨盤100能夠更加靈活，更加利于清潔狹窄區(qū)域。[0022]如圖2所示，清潔器還包括貫穿所述手柄200內(nèi)部的吸氣管300，圖2和圖3中虛線部分即為吸氣管300在手柄內(nèi)部的部分，所述吸氣管300的一端穿出手柄200后進(jìn)入磨盤100并露出于所述磨盤100表面，另一端連接吸氣接頭500。具體地，吸氣管300的一端穿過手柄200后，穿過固設(shè)于磨盤100邊緣的管套320，并由所述管套320穿出至磨盤100。由于吸氣管300質(zhì)地較軟，因此管套320能夠在手柄200的外側(cè)對吸氣管300加以固定。在本實(shí)施例中，吸氣接頭500位于所述清潔器的外側(cè)，因此吸氣管300從手柄200中穿出后于手柄200的外側(cè)連接所述吸氣接頭500。吸氣管300的材料為橡膠，具有一定的彈性。當(dāng)需要使用清潔器時，將吸氣接頭500連接至一真空管道，使得吸氣管300的內(nèi)部產(chǎn)生負(fù)壓，即可在其露出磨盤100的表面處產(chǎn)生吸力，以吸走被磨掉的顆粒。[0023]所述磨盤100上形成有至少一個吸氣孔110，所述吸氣孔110與吸氣管300連通，能夠?qū)⒈磺鍧嵨锉砻娴念w粒吸入吸氣管300。如圖2所示，在本實(shí)施例中，所述吸氣孔110的有多個，均勻分布于磨盤100的表面，以在整個磨盤100的表面產(chǎn)生吸力，增強(qiáng)清潔的效果。當(dāng)然，本實(shí)用新型并不限制吸氣孔110的分布方式，其也可雜亂無章的分布于磨盤100的表面。[0024]在本實(shí)施例中，吸氣管300在從磨盤100背面的中部穿入磨盤100后，在磨盤100的內(nèi)部分別連至多個吸氣孔110，但本發(fā)明不以此為限，吸氣管300也可在磨盤100的外部分為多根以后，分別對應(yīng)穿入磨盤100。此時，在所述磨盤100的內(nèi)部，吸氣孔110除了連接吸氣管300以外，還連接支管310，如圖2和圖3所示，通過支管310從磨盤100的兩側(cè)穿出，而從外部連接到吸氣管300在手柄200內(nèi)部的部分。具體的，支管310的一端從磨盤100的側(cè)面進(jìn)入連接至吸氣孔110，另一端從所述手柄200的側(cè)面進(jìn)入并連接至吸氣管300。如此，吸氣孔110吸附的顆粒既能直接進(jìn)入吸氣管300，也能通過支管310從手柄200的側(cè)面進(jìn)入到吸氣管300，進(jìn)而從吸氣管300排出。吸氣孔110和吸氣管300的多路連通使得吸附的顆粒能更順暢地進(jìn)入和排出吸氣管300。與此同時，支管310的設(shè)置也能加固手柄200和磨盤100之間的連接。[0025]在本實(shí)施例中，所述磨盤100具有正面(吸附面)和背面，圖2中可見的為其吸附面。吸氣孔I1形成于所述吸附面且和吸附面位于同一水平面上，不會對磨盤100的磨動過程造成影響。吸氣孔I1連接的支管310從所述背面穿出并連接至吸氣管300。[0026]優(yōu)選實(shí)施例中，磨盤100的材料為陶瓷，使得在磨盤100的表面不會因?yàn)楫a(chǎn)生過大的摩擦力而損壞待磨物。[0027]本實(shí)用新型所述的清潔器可以靠手動靈活地控制其磨盤100磨動，同時也具備了吸附功能。因此，若待磨物的表面顆粒并未緊緊附著時，亦可僅僅利用本實(shí)用新型的吸附功能，即磨盤100不與待磨物表面接觸,僅僅開啟吸氣管300吸走顆粒。[0028]本實(shí)用新型可在光刻制程中，用于對曝光室中載臺表面的清潔。此時待磨物為載臺20。使用所述清潔器的時，不用將轉(zhuǎn)動臺30完全轉(zhuǎn)出曝光室I的內(nèi)部，而是部分轉(zhuǎn)出，留出小部分操作空間，即可實(shí)現(xiàn)對載臺20表面的清潔。[0029]對載臺20具體的清潔方法是:當(dāng)曝光時檢測到失焦現(xiàn)象時，通過影像確定襯底10上失焦現(xiàn)象出現(xiàn)的具體位置，然后對應(yīng)確定下方載臺20上存在顆粒的位置；之后，取下襯底10，操作人員先將本實(shí)用新型所示清潔器的磨盤100的表面用沾有異丙醇(IPA)的無塵布擦拭干凈，再將吸氣接頭500接入真空管道，以在吸氣管300的內(nèi)部產(chǎn)生負(fù)壓；接著，操作人員將承載載臺20的轉(zhuǎn)動臺30圍繞設(shè)置于曝光室I一側(cè)的轉(zhuǎn)軸40沿圖1中箭頭方向部分轉(zhuǎn)出；然后，在曝光室I的外部手持本實(shí)用新型所示清潔器的手柄200，將磨盤100伸入載臺20的表面已經(jīng)檢測出的顆粒的地方，由里到外旋轉(zhuǎn)做重復(fù)運(yùn)動即可。在此過程中，顆粒先被磨盤100磨掉，而后被吸氣孔110吸入吸氣管300，最后排到真空管道中，即實(shí)現(xiàn)了載臺20表面的清潔。在載臺20的表面存在鏡子，在用此清潔器清潔的過程中，操作人員通過手持手柄來旋轉(zhuǎn)，使手遠(yuǎn)離載臺20，能避免清潔過程對所述鏡子的損壞。[0030]綜上所述，本實(shí)用新型提供的清潔器包括磨盤100和連接磨盤的手柄200，磨盤100能夠相對手柄200運(yùn)動，使得操作人員手持手柄200，即可將磨盤100伸到待清潔物表面對其進(jìn)行清潔，可以很好地清潔到待清潔物表面的周邊區(qū)域。同時清潔器包括貫穿所述手柄內(nèi)部的吸氣管300，其一端露出于所述磨盤100的表面，另一端連接吸氣接頭500。對于待清潔物的表面能夠一邊磨，一邊將磨下的顆粒吸走。清潔器的磨盤100的材料為陶瓷，減少了磨動對待清潔物表面及其周邊物體可能造成的損壞。在光刻制程中，對晶圓承載盤表面的清潔，本實(shí)用新型有著很好的效果。[0031]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對實(shí)用新型進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包括這些改動和變型在內(nèi)。【權(quán)利要求】1.一種清潔器，其特征在于:包括手柄和連接所述手柄的磨盤，所述磨盤能夠相對所述手柄運(yùn)動；還包括貫穿所述手柄內(nèi)部的吸氣管和位于手柄外部的吸氣接頭，所述吸氣管的一端與所述吸氣孔連通，另一端連接所述吸氣接頭；所述吸氣孔的數(shù)量有多個，其中一部分吸氣孔直接連通所述吸氣管，另一部分吸氣孔通過支管從所述磨盤的兩側(cè)穿出，而從外部連接到所述吸氣管在手柄內(nèi)部的部分。2.如權(quán)利要求1所述的清潔器，其特征在于:還包括彈性支架，所述手柄通過所述彈性支架連接所述磨盤。3.如權(quán)利要求2所述的清潔器，其特征在于:還包括固定件，緊貼所述磨盤背面的中間位置設(shè)置，所述彈性支架連接于所述手柄的一端和所述固定件。4.如權(quán)利要求1所述的清潔器，其特征在于:所述磨盤上形成有至少一個吸氣孔。5.如權(quán)利要求1所述的清潔器，其特征在于:所述支管在所述手柄內(nèi)部匯聚至所述吸氣管。6.如權(quán)利要求1所述的清潔器，其特征在于:所述磨盤的材料為陶瓷。7.如權(quán)利要求1所述的清潔器，其特征在于:所述吸氣管的材料為橡膠。【文檔編號】H01L21/67GK204155908SQ201420318298【公開日】2015年2月11日申請日期:2014年6月13日優(yōu)先權(quán)日:2014年6月13日【發(fā)明者】楊艷全申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司