碳膜電位器的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種碳膜電位器，包括：基座、碳膜電阻體、定觸片、動觸片、旋轉(zhuǎn)撥盤和導(dǎo)電滑片，所述基座端面上設(shè)有半圓形狀弧形槽，所述弧形槽內(nèi)設(shè)有多個澆筑孔，所述澆筑孔等間距排布設(shè)置，所述碳膜電阻體下端面對應(yīng)連接所述澆筑孔覆于所述弧形槽上，所述基座兩端固定設(shè)置有所述定觸片，所述定觸片連接所述碳膜電阻體，所述基座中央設(shè)有所述旋轉(zhuǎn)撥盤，所述旋轉(zhuǎn)撥盤一端連接所述動觸片，所述旋轉(zhuǎn)撥盤另一端連接導(dǎo)電滑片，所述導(dǎo)電滑片滑動連接所述碳膜電阻體。通過上述方式，本實(shí)用新型能夠讓碳膜電阻體更加牢固地固定于基座上，使得碳膜電位器穩(wěn)定性更佳。
【專利說明】碳膜電位器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電位器領(lǐng)域，特別是涉及一種穩(wěn)定性更佳的碳膜電位器。

【背景技術(shù)】
[0002]碳膜電位器的電阻體是用經(jīng)過研磨的碳黑，石墨，石英等材料涂敷于基體表面而成，該工藝簡單，是目前應(yīng)用最廣泛的電位器。具有分辯力高耐磨性好，壽命較長的特點(diǎn)。但同樣存在電流噪聲，非線性大，耐潮性以及阻值穩(wěn)定性差的缺點(diǎn)，特別在長時間使用后，由于碳膜電阻體覆蓋涂抹的不穩(wěn)定造成脫落和損壞的情況，使得碳膜電位器接觸性能降低，進(jìn)而影響到正常使用。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種碳膜電位器，能夠讓碳膜電阻體更加牢固地固定于基座上，使得碳膜電位器穩(wěn)定性更佳。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種碳膜電位器，包括:基座、碳膜電阻體、定觸片、動觸片、旋轉(zhuǎn)撥盤和導(dǎo)電滑片，所述基座端面上設(shè)有半圓形狀弧形槽，所述弧形槽內(nèi)設(shè)有多個澆筑孔，所述澆筑孔等間距排布設(shè)置，所述碳膜電阻體下端面對應(yīng)連接所述澆筑孔覆于所述弧形槽上，所述基座兩端固定設(shè)置有所述定觸片，所述定觸片連接所述碳膜電阻體，所述基座中央設(shè)有所述旋轉(zhuǎn)撥盤，所述旋轉(zhuǎn)撥盤一端連接所述動觸片，所述旋轉(zhuǎn)撥盤另一端連接導(dǎo)電滑片，所述導(dǎo)電滑片滑動連接所述碳膜電阻體。
[0005]在本發(fā)明一個較佳實(shí)施例中，所述動觸片和所述定觸片一端連接所述碳膜電阻體，所述動觸片和所述定觸片另一端設(shè)有引出端觸點(diǎn)。
[0006]在本發(fā)明一個較佳實(shí)施例中，所述碳膜電阻體燒筑固定于所述基座上。
[0007]在本發(fā)明一個較佳實(shí)施例中，所述澆筑孔側(cè)壁上還設(shè)有徑向固定孔。
[0008]在本發(fā)明一個較佳實(shí)施例中，所述澆筑孔縱向深度為15mm-25mm。
[0009]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明能夠讓碳膜電阻體更加牢固地固定于基座上，使得碳膜電位器穩(wěn)定性更佳。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中:
[0011]圖1是本發(fā)明碳膜電位器一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2是所示弧形槽一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、基座；2、碳I旲電阻體；3、徑向固定孔；4、定觸片.’ 5、動觸片；6、旋轉(zhuǎn)撥盤；7、導(dǎo)電滑片；8、弧形槽；9、澆筑孔；10、引出端觸點(diǎn)。

【具體實(shí)施方式】
[0014]下面將對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0015]請參閱圖1和圖2，本發(fā)明實(shí)施例包括:
[0016]—種碳膜電位器，包括:基座1、碳膜電阻體2、定觸片4、動觸片5、旋轉(zhuǎn)撥盤6和導(dǎo)電滑片7，所述基座I端面上設(shè)有半圓形狀弧形槽8，所述弧形槽8內(nèi)設(shè)有多個澆筑孔9，所述澆筑孔9等間距排布設(shè)置，所述碳膜電阻體2下端面對應(yīng)連接所述澆筑孔9覆于所述弧形槽8上，所述基座I兩端固定設(shè)置有所述定觸片4，所述定觸片4連接所述碳膜電阻體2，所述基座I中央設(shè)有所述旋轉(zhuǎn)撥盤6，所述旋轉(zhuǎn)撥盤6 —端連接所述動觸片5，所述旋轉(zhuǎn)撥盤6另一端連接導(dǎo)電滑片7，所述導(dǎo)電滑片7滑動連接所述碳膜電阻體2。
[0017]另外，所述動觸片5和所述定觸片4 一端連接所述碳膜電阻體2，所述動觸片5和所述定觸片4另一端設(shè)有引出端觸點(diǎn)10。
[0018]另外，所述碳膜電阻體2澆筑固定于所述基座I上。
[0019]另外，所述澆筑孔9側(cè)壁上還設(shè)有徑向固定孔3。
[0020]另外,所述燒筑孔9縱向深度為15mm-25mm。
[0021]本發(fā)明的工作原理為在基座I端面上設(shè)有半圓形狀弧形槽8，弧形槽8內(nèi)設(shè)有多個澆筑孔9，澆筑孔9等間距排布設(shè)置，碳膜電阻體2下端面對應(yīng)連接澆筑孔9覆于弧形槽8上，澆筑孔9側(cè)壁上還設(shè)有徑向固定孔3，澆筑孔9和徑向固定孔3可以在碳膜電阻體2澆筑時對碳膜電阻體2的縱向和橫向都起到固定的作用。
[0022]碳膜電阻體2燒筑固定于基座I上,基座I兩端固定設(shè)置有定觸片4,定觸片4連接碳膜電阻體2，基座I中央設(shè)有旋轉(zhuǎn)撥盤6，旋轉(zhuǎn)撥盤6 —端連接動觸片5，旋轉(zhuǎn)撥盤6另一端連接導(dǎo)電滑片7，導(dǎo)電滑片7滑動連接碳膜電阻體2，動觸片5和定觸片4 一端連接碳膜電阻體2，動觸片5和定觸片4另一端設(shè)有引出端觸點(diǎn)10，引出端觸點(diǎn)10可以便于連接到其他電路元件。
[0023]以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種碳膜電位器，其特征在于，包括:基座、碳膜電阻體、定觸片、動觸片、旋轉(zhuǎn)撥盤和導(dǎo)電滑片，所述基座端面上設(shè)有半圓形狀弧形槽，所述弧形槽內(nèi)設(shè)有多個澆筑孔，所述澆筑孔等間距排布設(shè)置，所述碳膜電阻體下端面對應(yīng)連接所述澆筑孔覆于所述弧形槽上，所述基座兩端固定設(shè)置有所述定觸片，所述定觸片連接所述碳膜電阻體，所述基座中央設(shè)有所述旋轉(zhuǎn)撥盤，所述旋轉(zhuǎn)撥盤一端連接所述動觸片，所述旋轉(zhuǎn)撥盤另一端連接導(dǎo)電滑片，所述導(dǎo)電滑片滑動連接所述碳膜電阻體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳膜電位器，其特征在于，所述動觸片和所述定觸片一端連接所述碳膜電阻體，所述動觸片和所述定觸片另一端設(shè)有引出端觸點(diǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳膜電位器，其特征在于，所述碳膜電阻體澆筑固定于所述基座上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳膜電位器，其特征在于，所述澆筑孔側(cè)壁上還設(shè)有徑向固定孑U
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳膜電位器，其特征在于，所述澆筑孔縱向深度為15mm-25mm0
【文檔編號】H01C1/02GK203931686SQ201420350554
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年6月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月30日
【發(fā)明者】林偉良 申請人:常州市零伍壹玖電子有限公司