用于真空滅弧室的導電機構的制作方法
【專利摘要】一種用于真空滅弧室的導電機構，它包括位于滅弧室殼體（1）內的靜觸頭（2）、動觸頭（3）、與靜觸頭（2）一端連接的靜導電桿（4）和與動觸頭（3）一端連接的動導電桿（5），靜觸頭（2）的另一端端面與動觸頭（3）的另一端端面相對設置，靜觸頭（2）與靜導電桿（4）一體成型，動觸頭（3）與動導電桿（5）一體成型；所述動觸頭（3）的另一端為臺階結構，動觸頭（3）的另一端端面中部設有第一凸塊（3.1），第一凸塊（3.1）遠離動觸頭（3）的一端端面中部設有第二凸塊（3.2），靜觸頭（2）的另一端端面設有與第一凸塊（3.1）和第二凸塊（3.2）相適配的凹槽（6）。
【專利說明】用于真空滅弧室的導電機構

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及真空開關【技術領域】，具體是指一種用于真空滅弧室的導電機構。

【背景技術】
[0002]在中高壓電器領域中，真空開關是用于控制和保護電力系統(tǒng)的主要電器設備，而真空滅弧室是真空開關的核心部件。真空開關在斷開電路的過程中會產生電弧，電弧會使真空滅弧室內的觸頭等部件溫度急劇升高和損耗，使得使用壽命縮短，必須在真空滅弧室內進行滅弧處理。
[0003]真空滅弧室內設有導電機構，導電機構用于接通或分段電流。真空滅弧室的導電機構包括靜觸頭、動觸頭、與靜觸頭連接的靜導電桿和動觸頭連接的動導電桿，靜觸頭的一端端面與動觸頭一端端面相對設置，動導電桿外部連接有傳動機構，傳動機構通過控制動導電桿使得動觸動發(fā)生縱向位移，從而實現動觸頭和靜觸頭之間的連接或斷開，進而實現真空開關的打開或關閉，現有的用于真空滅弧室的導電機構存在一些不足之處:上述真空滅弧室內的靜觸頭與靜導電桿之間、動觸頭與動導電桿之間均通過銀焊接而成，不僅生產成本較高，且觸頭與導電桿之間的焊接處容易產生焊縫，焊縫使得導電桿與觸頭之間的電阻增大，從而對電力系統(tǒng)安全運行造成影響，出現發(fā)熱缺陷等問題，從而降低使用壽命，實用性較差，同時，焊縫使得導電桿與觸頭之間連接不牢固，難以保證導電桿與觸頭之間保持較好的垂直度(動導電桿與動觸頭保持垂直和靜導電桿與靜觸頭之間保持垂直)，容易導致動觸頭在縱向位移后與靜觸頭接觸不良，從而使得電阻增大、發(fā)熱量增加；另外，現有的動觸頭與靜觸頭的接觸面均為水平面，即兩個接觸平面貼合，接觸面積較小，且這種結構的觸頭縱向磁場的滅弧能力較差，難以適用更高的電壓電路，無法滿足高電壓電路分斷時的有效滅弧要求。
實用新型內容
[0004]本實用新型要解決的技術問題是，克服以上現有技術缺陷，提供一種生產成本較低、使用壽命較長、電阻較小的、滅弧能力較好的用于真空滅弧室的導電機構。
[0005]為解決上述技術問題，本實用新型提供的技術方案為:一種用于真空滅弧室的導電機構，它包括滅弧室殼體內的靜觸頭、動觸頭、與靜觸頭一端連接的靜導電桿和與動觸頭一端連接的動導電桿，靜觸頭的另一端端面與動觸頭的另一端端面相對設置，靜觸頭與靜導電桿一體成型，動觸頭與動導電桿一體成型；所述動觸頭的另一端為臺階結構，動觸頭的另一端端面中部設有第一凸塊，第一凸塊遠離動觸頭的一端端面中部設有第二凸塊，所述動觸頭與第一凸塊和第二凸塊一體成型，靜觸頭的另一端端面設有與第一凸塊和第二凸塊相適配的凹槽。
[0006]本實用新型與現有技術相比的優(yōu)點在于:靜觸頭與靜導電桿一體成型，動觸頭與動導電桿一體成型，不僅使得生產成本較低，同時使得導電桿與觸頭直接連接牢固，不會產生縫隙，使得觸頭與導電桿之間的電阻較小，避免現有技術因觸頭與導電桿之間電阻較大而導致發(fā)熱量較大，使用壽命較長；觸頭與導電桿一體式結構使得觸頭與導電桿之間能保持較好的垂直度，進而使得動觸頭在外部傳動機構的帶動下能與靜觸頭完全貼合接觸，防止動觸頭與靜觸頭因接觸不良而導致電阻增大、發(fā)熱量增加，進一步使得使用壽命較長；動觸頭與靜觸頭的接觸端面設有第一凸塊和第二凸塊，靜觸頭與動觸頭的接觸端面設有與第一凸塊和第二凸塊相配合的凹槽，增加動觸頭和靜觸頭的接觸面積，且增加縱向磁場的滅弧能力，提高了真空滅弧室的分斷電流能力，降低了電弧電壓，提高了真空滅弧室的耐高壓能力，能適用于高電壓電路；同時，第一凸塊具有導向的作用，使得動觸頭能靜觸頭完全接觸，防止動觸頭在縱向移動過程中與靜觸頭接觸不良，結構較簡單。
[0007]作為優(yōu)選，所述第二凸塊為半球狀結構，使得動觸頭與靜觸頭表面之間形成具有旋轉形狀的旋轉磁力線，進一步提高真空開關管的分斷電流能力。
[0008]作為優(yōu)選，所述第一凸塊和第二凸塊的厚度相同。
[0009]作為優(yōu)選，所述第一凸塊側壁與第一凸塊的端面通過圓弧過渡，使得第一凸塊的導向作用較好，進而使得動觸頭與靜觸頭完全貼合，防止動觸頭與靜觸頭因接觸不良而導致電阻增大，發(fā)熱量增加。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型用于真空滅弧室的導電機構的結構示意圖。
[0011]如圖所示:1-滅弧室殼體，2-靜觸頭，3-動觸頭，3.1-第一凸塊，3.2_第二凸塊，4-靜導電桿，5-動導電桿，6-凹槽。

【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖對本實用新型做進一步的詳細說明。
[0013]如圖1所述，一種用于真空滅弧室的導電機構，它包括滅弧室殼體I內的靜觸頭2、動觸頭3、與靜觸頭2 —端連接的靜導電桿4和與動觸頭3 —端連接的動導電桿5，靜觸頭2的另一端端面與動觸頭3的另一端端面相對設置，靜觸頭2與靜導電桿4 一體成型，動觸頭3與動導電桿5 —體成型；所述動觸頭3的另一端為臺階結構，動觸頭3的另一端端面中部設有第一凸塊3.1，第一凸塊3.1遠離動觸頭3的一端端面中部設有第二凸塊3.2，所述動觸頭3與第一凸塊3.1和第二凸塊3.2 一體成型,靜觸頭2的另一端端面設有與第一凸塊3.1和第二凸塊3.2相適配的凹槽6。
[0014]靜觸頭2與靜導電桿4 一體成型，動觸頭3與動導電桿5 —體成型，不僅使得生產成本較低，同時使得導電桿與觸頭直接連接牢固，不會產生縫隙，使得觸頭與導電桿之間的電阻較小，避免現有技術因觸頭與導電桿之間電阻較大而導致發(fā)熱量較大，使用壽命較長；觸頭與導電桿一體式結構使得觸頭與導電桿之間能保持較好的垂直度，進而使得動觸頭3在外部傳動機構的帶動下能與靜觸頭2完全貼合接觸，防止動觸頭3與靜觸頭2因接觸不良而導致電阻增大、發(fā)熱量增加，進一步使得使用壽命較長；動觸頭3與靜觸頭2的接觸端面設有第一凸塊3.1和第二凸塊3.2，靜觸頭2與動觸頭3的接觸端面設有與第一凸塊3.1和第二凸塊3.2相配合的凹槽6，增加動觸頭3和靜觸頭2的接觸面積，且增加縱向磁場的滅弧能力，提高了真空滅弧室的分斷電流能力，降低了電弧電壓，提高了真空滅弧室的耐高壓能力，能適用于高電壓電路；同時，第一凸塊3.1具有導向的作用，使得動觸頭3能靜觸頭2完全接觸，防止動觸頭3在縱向移動過程中與靜觸頭2接觸不良，結構較簡單。
[0015]所述第二凸塊3.2為半球狀結構，使得動觸頭3與靜觸頭2表面之間形成具有旋轉形狀的旋轉磁力線，進一步提高真空開關管的分斷電流能力。
[0016]所述第一凸塊3.1和第二凸塊3.2的厚度相同。
[0017]所述第一凸塊3.1側壁與第一凸塊3.2的端面通過圓弧過渡，使得第一凸塊3.1的導向作用較好，進而使得動觸頭3與靜觸頭2完全貼合，防止動觸頭3與靜觸頭2因接觸不良而導致電阻增大，發(fā)熱量增加。
[0018]用于真空滅弧室的導電機構還存在其他功能結構，如動觸動和靜觸頭之間設有相對應的導電部件和導磁部件，因未涉及發(fā)明點，不再展開說明。
[0019]以上對本實用新型及其實施方式進行了描述，這種描述沒有限制性，附圖中所示的也只是本實用新型的實施方式之一，實際的結構并不局限于此。總而言之如果本領域的普通技術人員受其啟示，在不脫離本實用新型創(chuàng)造宗旨的情況下，不經創(chuàng)造性的設計出與該技術方案相似的結構方式及實施例，均應屬于本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1.一種用于真空滅弧室的導電機構，它包括位于滅弧室殼體(1)內的靜觸頭(2)、動觸頭(3)、與靜觸頭(2) —端連接的靜導電桿(4)和與動觸頭(3) —端連接的動導電桿(5)，靜觸頭(2)的另一端端面與動觸頭(3)的另一端端面相對設置，其特征在于:靜觸頭(2)與靜導電桿(4) 一體成型，動觸頭(3)與動導電桿(5) —體成型；所述動觸頭(3)的另一端為臺階結構，動觸頭(3)的另一端端面中部設有第一凸塊(3.1)，第一凸塊(3.1)遠離動觸頭(3)的一端端面中部設有第二凸塊(3.2)，所述動觸頭(3)與第一凸塊(3.1)和第二凸塊(3.2) 一體成型，靜觸頭(2)的另一端端面設有與第一凸塊(3.1)和第二凸塊(3.2)相適配的凹槽(6)。
2.根據權利要求1所述的用于真空滅弧室的導電機構，其特征在于:所述第二凸塊(3.2)為半球狀結構。
3.根據權利要求1所述的用于真空滅弧室的導電機構，其特征在于:所述第一凸塊(3.1)和第二凸塊(3.2)的厚度相同。
4.根據權利要求1所述的用于真空滅弧室的導電機構，其特征在于:所述第一凸塊(3.1)側壁與第一凸塊(3.1)的端面通過圓弧過渡。
【文檔編號】H01H33/664GK204045488SQ201420553826
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年9月25日 優(yōu)先權日:2014年9月25日
【發(fā)明者】徐淑凡 申請人:寧波云振真空電器有限公司