一種真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，包括靜導(dǎo)電桿本體，靜導(dǎo)電桿本體上設(shè)有數(shù)個(gè)互相平行的環(huán)形槽，所述環(huán)形槽的截面為圓弧狀，并且所述環(huán)形槽與靜導(dǎo)電桿本體的端面平行。本實(shí)用新型所述的真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，其制造工藝簡單，成本較低，采用本靜導(dǎo)電桿的真空滅弧室能夠增大與環(huán)氧樹脂的接觸面積，防止真空滅弧室的上下竄動(dòng)，增強(qiáng)現(xiàn)有平瓷真空滅弧室的固封效果。
【專利說明】一種真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種中高壓電力開關(guān)器件，尤其涉及一種用于真空滅弧室中的靜導(dǎo)電桿，屬于真空滅弧室【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]真空滅弧室又名真空開關(guān)管，是中高壓電力開關(guān)的核心部件，其主要作用是:通過管內(nèi)真空優(yōu)良的絕緣性，使中高壓電路切斷電源后能迅速熄弧并抑制電流，避免事故和意外的發(fā)生。具有節(jié)能、節(jié)材、防火、防爆、體積小、壽命長、維護(hù)費(fèi)用低、運(yùn)行可靠和無污染等特點(diǎn)。因此，真空滅弧室被廣泛的應(yīng)用于電力的輸配電控制系統(tǒng)，還應(yīng)用于冶金、礦山、石油、化工、鐵路、廣播、通訊、工業(yè)高頻加熱等配電系統(tǒng)。
[0003]真空滅弧室利用高真空工作絕緣滅弧介質(zhì)，靠密封在真空中的一對觸頭來實(shí)現(xiàn)電力電路的通斷功能。當(dāng)其斷開一定數(shù)值的電流時(shí)，動(dòng)靜觸頭在分離的瞬間，電流收縮到觸頭剛分離的一點(diǎn)上，出現(xiàn)電極間電阻劇烈增大和溫度迅速提高，直至發(fā)生電極金屬的蒸發(fā)，同時(shí)形成極高的電場強(qiáng)度，導(dǎo)致極強(qiáng)烈的發(fā)射和間隙擊穿，產(chǎn)生真空電弧。當(dāng)工頻電流接近零時(shí)，同時(shí)也是觸頭開距的增大，真空電弧的等離子體很快向四周擴(kuò)散，電弧電流過零后，觸頭間隙的介質(zhì)迅速由導(dǎo)電體變?yōu)榻^緣體，于是電流被分?jǐn)唷?br> [0004]目前，對于整體瓷結(jié)構(gòu)的平瓷真空滅弧室來說，在固封過程中，容易因?yàn)闇缁∈业纳舷赂Z動(dòng)而造成固封出現(xiàn)差異，影響產(chǎn)品的性能。究其原因，主要是因?yàn)槠渲械撵o導(dǎo)電桿與環(huán)氧樹脂接觸面積過小，兩者在接觸時(shí)，容易產(chǎn)生滑動(dòng)而導(dǎo)致滅弧室的上下竄動(dòng)，今兒影響到平瓷真空滅弧室固封的效果。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型的目的在于:針對上述存在的問題，提供一種用于真空滅弧室中，帶開槽結(jié)構(gòu)的靜導(dǎo)電桿，從而能夠有效的解決現(xiàn)有真空滅弧室由于靜導(dǎo)電桿與環(huán)氧樹脂接觸面積過小而導(dǎo)致的滅弧室上下竄動(dòng)，解決現(xiàn)有平瓷真空滅弧室固封效果不佳的問題。
[0006]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，包括靜導(dǎo)電桿本體，靜導(dǎo)電桿本體上設(shè)有數(shù)個(gè)互相平行的環(huán)形槽，所述環(huán)形槽的截面為圓弧狀，并且所述環(huán)形槽與靜導(dǎo)電桿本體的端面平行。
[0007]作為優(yōu)選，本實(shí)用新型所述的真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，其所述環(huán)形槽設(shè)置在靜導(dǎo)電桿本體的外露端，且與靜導(dǎo)電桿本體的該外露端的端面相平行。
[0008]作為優(yōu)選，本實(shí)用新型所述的真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，其所述環(huán)形槽為2-5個(gè)，其截面形狀、大小相同，間隔3-5_設(shè)置。
[0009]作為優(yōu)選，本實(shí)用新型所述的真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，其所述環(huán)形槽的口部為倒角設(shè)置，其倒角的大于90度。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型所述的真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，其制造工藝簡單，成本較低，采用本靜導(dǎo)電桿的真空滅弧室能夠增大與環(huán)氧樹脂的接觸面積，防止真空滅弧室的上下竄動(dòng)，增強(qiáng)現(xiàn)有平瓷真空滅弧室的固封效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖中標(biāo)記:1-靜導(dǎo)電桿本體，2-環(huán)形槽，3-靜導(dǎo)電桿本體的端面，4-外露端，21-環(huán)形槽的口部。

【具體實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型作詳細(xì)的說明。
[0014]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本實(shí)用新型技術(shù)進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0015]如圖1所示，實(shí)施例1:
[0016]一種真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，包括靜導(dǎo)電桿本體I,靜導(dǎo)電桿本體I上設(shè)有數(shù)個(gè)互相平行的環(huán)形槽2，所述環(huán)形槽2的截面為圓弧狀，并且所述環(huán)形槽2與靜導(dǎo)電桿本體I的端面3平行。具體來說，環(huán)形槽2設(shè)置在靜導(dǎo)電桿本體I的外露端4，且與靜導(dǎo)電桿本體I的該外露端4的端面相平行。所述環(huán)形槽2為2-5個(gè)，其截面形狀、大小相同，間隔3-5mm設(shè)置。在實(shí)際生產(chǎn)中，環(huán)形槽開設(shè)的數(shù)量并不限于2-5個(gè)，還可以更加靜導(dǎo)電桿本體外露端的長度來設(shè)置，同時(shí)，相鄰兩環(huán)形槽的間距也不限于3-5_，根據(jù)實(shí)際情況來決定。只是，在本實(shí)施例中，將環(huán)形槽2為2-5個(gè)，間隔3-5_設(shè)置；這樣是綜合考慮了靜導(dǎo)電桿上開設(shè)環(huán)形槽所需加工成本，以及開設(shè)這樣的環(huán)形槽后能夠增大靜導(dǎo)電桿與環(huán)氧樹脂的接觸面積。
[0017]另外,該環(huán)形槽2的口部21為倒角設(shè)置,其倒角的大于90度，即倒鈍角，鈍角的作用是，當(dāng)環(huán)氧樹脂充滿整管外部時(shí)，本實(shí)用新型所述的靜導(dǎo)電桿上該處鈍角可以減少與環(huán)氧樹脂的摩擦，使得其環(huán)氧樹脂與環(huán)形槽的接觸更加合理和貼合。
[0018]靜導(dǎo)電桿采用無氧銅材料，在其上開設(shè)環(huán)形槽的作業(yè)相對簡單一些。固封常采用環(huán)氧樹脂材料，當(dāng)環(huán)氧樹脂充滿整管外部時(shí)，通過本實(shí)用新型所述的靜導(dǎo)電桿能夠增大與環(huán)氧樹脂的接觸面積，防止整管上下竄動(dòng)，增強(qiáng)現(xiàn)有平瓷真空滅弧室的固封效果。
[0019]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，包括靜導(dǎo)電桿本體(1 )，其特征在于:靜導(dǎo)電桿本體(1)上設(shè)有數(shù)個(gè)互相平行的環(huán)形槽(2)，所述環(huán)形槽(2)的截面為圓弧狀，并且所述環(huán)形槽(2)與靜導(dǎo)電桿本體(1)的端面(3)平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，其特征在于:環(huán)形槽(2)設(shè)置在靜導(dǎo)電桿本體(1)的外露端(4)，且與靜導(dǎo)電桿本體(1)的該外露端(4)的端面相平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，其特征在于:所述環(huán)形槽(2)為2-5個(gè)，其截面形狀、大小相同，間隔3-5mm設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一所述的真空滅弧室用靜導(dǎo)電桿，其特征在于:所述環(huán)形槽(2)的口部(21)為倒角設(shè)置,其倒角的大于90度。
【文檔編號】H01H33/664GK204215958SQ201420745836
【公開日】2015年3月18日 申請日期:2014年12月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月3日
【發(fā)明者】肖紅, 劉繼君, 冉隆科, 王俁涵 申請人:成都凱賽爾電子有限公司