本發(fā)明涉及半導體光源封裝及半導體芯片制造領域。
背景技術:
半導體光源,如發(fā)光二極管led光源等,具有啟動時間短、亮度高、能耗低、體積小、壽命長、安全性高等優(yōu)點,正在逐步取代傳統(tǒng)鹵鎢燈、氙燈等能耗高、壽命短的光源,獲得了廣泛的應用。
普通大功率led模組的基板,傳熱性和絕緣性是矛盾的,如為了實現(xiàn)良好的導熱,led基板一般設計成共陽極的導電結構;而為了實現(xiàn)良好的絕緣性,又不得不犧牲熱傳導性。本發(fā)明就是設計一種復合高導熱絕緣金屬基板,解決上述問題。
技術實現(xiàn)要素:
附圖說明
圖1為傳統(tǒng)半導體基板結構示意圖
圖2為本發(fā)明一種復合高導熱絕緣金屬基板結構示意圖
主要元件標記說明:
1、第一金屬層
2、第一絕緣層
3、第二金屬層
4、第二絕緣層
5、電路層
6、鉆孔
具體實施方式:
下面通過實施例,并結合附圖,對本發(fā)明的技術方案進行具體的說明。
如圖1展示了傳統(tǒng)半導體基板結構示意圖,其中第一金屬層1上層為第二絕緣層4,第二絕緣層4設置有開口,使電路層5的陽極與第一金屬層1形成通路,構成以第一金屬層1為陽極的共陽極結構。該傳統(tǒng)結構的特點是第一金屬層1的材料為高導熱性的銅、鋁,或合金材料,具有良好的導熱性,從而能夠滿足大功率半導體光源的散熱問題,但是以第一金屬層1為陽極的共陽極結構,造成該基板絕緣性能差,容易造成漏電、短路等,安裝使用不方便。
如圖2展示了本發(fā)明一種復合高導熱絕緣金屬基板結構示意圖,包括第一金屬層1,設置在第一金屬層1下層的第一絕緣層2,設置在第一絕緣層2下層的第二金屬層3,設置在所述第一金屬層上層的第二絕緣層4,設置在第二絕緣層4上層的電路層5,以及鉆孔6。其中,本發(fā)明基板的設置,主要創(chuàng)新點在于在原來的金屬基板的基礎上,在底面加上至少一層絕緣層和一層金屬層,使得上下兩層銅基板絕緣,即基板既通過第一金屬層1形成了共陽極結構,又通過第一絕緣層2與外界實現(xiàn)了電絕緣。所述第一金屬層厚度為0.8-1mm,所述第二金屬層厚度為0.8-1mm,從而保證了良好的導熱性,而所述絕緣層厚度控制在0.1mm以內,兼具良好的導熱性和電絕緣性。所述第一金屬層1下方的絕緣層與金屬層,數(shù)量可以根據需要增加,至少各為一層。所述金屬基板上的鉆孔深度至少到達第二金屬層,從而保證電絕緣性。
以上實施方案只為說明本發(fā)明技術構思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術的人了解本發(fā)明新型的內容并加以實施,并不能以此限制本發(fā)明新型的保護范圍,凡根據本發(fā)明新型精神實質所做的等小變化或修飾均涵蓋在本發(fā)明新型的保護范圍內。