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      基板處理裝置、基板處理方法以及存儲介質(zhì)與流程

      文檔序號:11179249閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供一種能夠抑制缺陷的產(chǎn)生并且能夠使用干燥液來使基板表面干燥的基板處理裝置、基板處理方法以及存儲介質(zhì)。在對由基板保持部(31)保持著的旋轉(zhuǎn)的基板(W)的表面供給處理液來進行處理的基板處理裝置(16)中,干燥液供給噴嘴(411)向利用處理液進行處理后的旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給干燥液,移動機構(gòu)(41、42、421)使干燥液在基板(W)上的著液點(PA)以從基板(W)的中心部朝向周緣部的朝向移動。控制部(18)進行控制,使得以著液點為基點形成的干燥液的流線中的距離(L)為預(yù)先設(shè)定的上限距離M以下,其中,該距離(L)是從上述著液點的中心至該干燥液的流線的靠基板的旋轉(zhuǎn)中心側(cè)的端部的距離。

      技術(shù)研發(fā)人員:丸本洋
      受保護的技術(shù)使用者:東京毅力科創(chuàng)株式會社
      技術(shù)研發(fā)日:2017.03.08
      技術(shù)公布日:2017.10.03
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