本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種減少半導(dǎo)體設(shè)備之間的摩擦的方法。

背景技術(shù)：

在半導(dǎo)體干法刻蝕設(shè)備中，kiyo工藝腔使用氣體分配系統(tǒng)使氣體均勻地進(jìn)入腔體。其中機(jī)臺側(cè)主要包含以下部件：1)關(guān)閉閥；2)小段氣體管道；3)雙氣帶；4)氣體噴射器。設(shè)備工程師在日常開腔維護(hù)過程中，會牽涉到以下動作：將雙氣帶的圓形腔體套入小段氣體管道后，對準(zhǔn)插入氣體噴射器的中空的孔洞，然后用螺絲鎖緊，以緊固雙氣帶和氣體噴射器。在這個對準(zhǔn)過程中，如果由于經(jīng)驗不足，多次沒有將雙氣帶對準(zhǔn)插入到氣體噴射器的中空的孔洞，則會造成雙氣帶和氣體噴射器的連接處產(chǎn)生多次摩擦，并留下褐色印痕，可能造成產(chǎn)品中心缺陷，更嚴(yán)重的可能損壞部件。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

針對目前氣體噴射器對準(zhǔn)過程中存在的上述問題，本發(fā)明提供一種減少機(jī)臺的部件之間摩擦的方法。

本發(fā)明解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為：

一種減少機(jī)臺的部件之間摩擦的方法，應(yīng)用于包括氣體噴射器和雙氣帶的機(jī)臺，

所述氣體噴射器具有中空的圓形的孔洞，所述孔洞的內(nèi)壁上設(shè)置一o型圈；

所述雙氣帶具有凸出的圓形的腔體，所述腔體的直徑不大于所述o型圈的直徑，以使所述腔體穿過所述o型圈插入至所述孔洞內(nèi)。

優(yōu)選的，所述氣體噴射器由石英制成。

優(yōu)選的，所述雙氣帶由特氟龍制成。

優(yōu)選的，所述o型環(huán)采用全氟材質(zhì)制成。

優(yōu)選的，所述o型圈位于所述孔洞的開口處。

優(yōu)選的，所述氣體噴射器具有兩個分開設(shè)置的孔洞。

優(yōu)選的，所述雙氣帶具有兩個分開設(shè)置的腔體，并且腔體的位置與孔洞的位置一一對應(yīng)。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明通過在氣體噴射器的孔洞的內(nèi)壁上設(shè)置一o型圈，以避免雙氣帶的腔體插入至孔洞內(nèi)時與孔洞進(jìn)行相互摩擦，從而提高了使用壽命。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為從圖1的ab端看去的孔洞的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明，但不作為本發(fā)明的限定。

本發(fā)明提供了一種減少機(jī)臺的部件之間摩擦的方法，應(yīng)用于如圖1-2所示的包括氣體噴射器2和雙氣帶1的機(jī)臺，

氣體噴射器2具有中空的圓形的孔洞21，孔洞21的內(nèi)壁上設(shè)置一o型圈22；

雙氣帶1具有凸出的圓形的腔體11，腔體11的直徑不大于o型圈22的直徑，以使腔體11穿過o型圈22插入至孔洞21內(nèi)。

本發(fā)明的實施例中的機(jī)臺可以為lamkiyo機(jī)臺，該機(jī)臺主要包括兩個部件：位于圖1的右側(cè)的氣體噴射器2和左側(cè)的雙氣帶1。其中，氣體噴射器2具有一圓形的孔洞21，雙氣帶1具有一圓形的腔體11。通過在氣體噴射器2的孔洞21內(nèi)設(shè)置一o型圈22，并且腔體11的直徑不大于o型圈22的直徑，如圖2所示，使得腔體11插入至孔洞21內(nèi)時，不是直接與孔洞21的內(nèi)表面相接觸的，而是通過該o型圈22作為中間媒介，從而避免氣體噴射器2與雙氣帶1對準(zhǔn)時產(chǎn)生相互摩擦，造成各個部件的磨損。

本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，氣體噴射器2由石英制成。

本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，雙氣帶1由特氟龍制成。

本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，o型環(huán)采用全氟材質(zhì)制成。

本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，o型圈22位于孔洞21的開口處。

本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，氣體噴射器2具有兩個分開設(shè)置的孔洞21。

本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，雙氣帶1具有兩個分開設(shè)置的腔體11，并且腔體11的位置與孔洞21的位置一一對應(yīng)。

以上所述僅為本發(fā)明較佳的實施例，并非因此限制本發(fā)明的實施方式及保護(hù)范圍，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，應(yīng)當(dāng)能夠意識到凡運用本發(fā)明說明書及圖示內(nèi)容所做出的等同替換和顯而易見的變化所得到的方案，均應(yīng)當(dāng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種減少半導(dǎo)體設(shè)備之間的摩擦的方法。一種減少機(jī)臺的部件之間摩擦的方法，應(yīng)用于包括氣體噴射器和雙氣帶的機(jī)臺，所述氣體噴射器具有中空的圓形的孔洞，所述孔洞的內(nèi)壁上設(shè)置一O型圈；所述雙氣帶具有凸出的圓形的腔體，所述腔體的直徑不大于所述O型圈的直徑，以使所述腔體穿過所述O型圈插入至所述孔洞內(nèi)。本發(fā)明通過在氣體噴射器的孔洞的內(nèi)壁上設(shè)置一O型圈，以避免雙氣帶的腔體插入至孔洞內(nèi)時與孔洞進(jìn)行相互摩擦，從而提高了使用壽命。

技術(shù)研發(fā)人員：馮翔;馮俊杰;朱駿;張旭升;劉東升;彭國發(fā)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海華力微電子有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.08
技術(shù)公布日：2017.09.22