本發(fā)明屬于一種電氣設(shè)備，具體涉及一種配電柜殼式并聯(lián)電抗器。

背景技術(shù)：

傳統(tǒng)的電抗器一般都包括上鐵芯、下鐵芯和中間的氣隙墊片，整體鐵芯使用硅鋼片。為了提高產(chǎn)品的抗直流能力，往往需要大的氣隙，但會導(dǎo)致產(chǎn)品體積增大。氣隙墊片一般由塑料注塑而成，是不導(dǎo)磁的材料。主要用于抑制上下鐵芯之間的振動，降低噪音。由于硅鋼主要適用于低頻領(lǐng)域，當(dāng)系統(tǒng)電路中存在高次諧波或高頻直流分量時，電抗器的濾波效果變差，同時硅鋼片的磁致伸縮變大，電抗器的高頻噪音變大。另外，線圈的端頭和連接端子之間一般采用焊接的方式連接，并且焊接后完成，并且焊接后完成，線圈的端頭與連接端子之間存在間隙，致使線圈與連接端子之間接觸電阻大，發(fā)熱量大，影響整個產(chǎn)品的使用壽命。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種配電柜殼式并聯(lián)電抗器，以解決上述技術(shù)中存在的不足。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為：

一種配電柜殼式并聯(lián)電抗器，是由器體、線端套管、中性點(diǎn)套管、中性點(diǎn)引線、線餅、繞組、引線、壓力釋放器和電流互感器組成，所述的繞組兩個分別位于器體內(nèi)部兩側(cè)，線餅位于兩個繞組之間，中性點(diǎn)引線連接線餅左上端，線端套管連接中性點(diǎn)引線，中性點(diǎn)套管下側(cè)兩端分別設(shè)置有一個電流互感器，引線連接線餅右上端，線端套管連接引線，線端套管下側(cè)兩端分別設(shè)置有一個電流互感器，壓力釋放器連接器體右側(cè)上方。

所述的線餅為矩形扁平狀，線餅上設(shè)置有絕緣件。

所述的繞組外側(cè)設(shè)置有磁屏蔽。

本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，技術(shù)合理。絕緣結(jié)構(gòu)合理，局部放電量低，耐受雷電沖擊能力強(qiáng)，雜散損耗低，無局部過熱，電磁力小，震動和噪音低，溫度分布均勻，冷卻效果好。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。

如圖1所示，一種配電柜殼式并聯(lián)電抗器，是由器體1、線端套管2、中性點(diǎn)套管3、中性點(diǎn)引線4、線餅5、繞組6、引線7、壓力釋放器8和電流互感器9組成，所述的繞組6兩個分別位于器體1內(nèi)部兩側(cè)，線餅5位于兩個繞組6之間，中性點(diǎn)引線4連接線餅5左上端，線端套管2連接中性點(diǎn)引線4，中性點(diǎn)套管3下側(cè)兩端分別設(shè)置有一個電流互感器9，引線7連接線餅5右上端，線端套管2連接引線7，線端套管2下側(cè)兩端分別設(shè)置有一個電流互感器9，壓力釋放器8連接器體1右側(cè)上方，所述的線餅5為矩形扁平狀，線餅5上設(shè)置有絕緣件，所述的繞組6外側(cè)設(shè)置有磁屏蔽。

繞組6由兩路并聯(lián)而成，線端對地絕緣距離大于中性點(diǎn)引線4對地絕緣距離，繞組6的成型絕緣件沿等位線布置，絕緣可靠性高，局部放電量低。殼式并聯(lián)電抗器線餅5面積大，餅間電容大，線餅5對地電容小，采用沿等位線布置的成型絕緣件，具有很高的耐受雷電沖擊的能力。殼式并聯(lián)電抗器的磁屏蔽吸收了主空道中全部的磁通，屏蔽效果完好。殼式并聯(lián)電抗器線餅5豎直裝配，線餅5表面的垂直油道使油有良好的對流散熱，獲得良好的冷卻效果。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種配電柜殼式并聯(lián)電抗器，是由器體、線端套管、中性點(diǎn)套管、中性點(diǎn)引線、線餅、繞組、引線、壓力釋放器和電流互感器組成，所述的繞組兩個分別位于器體內(nèi)部兩側(cè)，線餅位于兩個繞組之間，中性點(diǎn)引線連接線餅左上端，線端套管連接中性點(diǎn)引線，中性點(diǎn)套管下側(cè)兩端分別設(shè)置有一個電流互感器，引線連接線餅右上端，線端套管連接引線，線端套管下側(cè)兩端分別設(shè)置有一個電流互感器，壓力釋放器連接器體右側(cè)上方，所述的線餅為矩形扁平狀，線餅上設(shè)置有絕緣件，所述的繞組外側(cè)設(shè)置有磁屏蔽。本發(fā)明絕緣結(jié)構(gòu)合理，局部放電量低，耐受雷電沖擊能力強(qiáng)，雜散損耗低，電磁力小，震動和噪音低，溫度分布均勻，冷卻效果好。

技術(shù)研發(fā)人員：沈建;李冬華;杜林;周超;陳偉浩;許宏新
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州基弘電氣設(shè)備制造有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.07.18
技術(shù)公布日：2017.10.03