本技術(shù)涉及顯示裝置制造，尤其涉及一種應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、在oled顯示器的制造工藝中，通常會使用到干蝕刻設(shè)備對顯示面板進(jìn)行干蝕刻處理。干蝕刻是將特定氣體置于低壓狀態(tài)下施加電壓，將其激發(fā)成電漿(等離子體)，對顯示面板上的膜層進(jìn)行化學(xué)性蝕刻或離子轟擊，以實(shí)現(xiàn)去除部分膜層并形成圖案層的一種蝕刻方式。如圖1所示，現(xiàn)有的一種干蝕刻設(shè)備，包括上殼體1′、下殼體2′和下電極3′。其中，上殼體1′內(nèi)形成天線室10′，下殼體2′內(nèi)形成有蝕刻室20′，天線室10′位于蝕刻室20′的頂部。天線室10′內(nèi)設(shè)置有用于輸送蝕刻氣體的氣管，氣管上連接有多個噴頭11′，噴頭11′的噴射端延伸至蝕刻室20′內(nèi)，通過噴頭11′向蝕刻室20′輸入蝕刻氣體。下電極3′水平設(shè)置在蝕刻室20′內(nèi)，顯示面板4′放置在下電極3′上。蝕刻室20′的側(cè)壁上開設(shè)有多個出氣口21′，出氣口21′靠近蝕刻室20′的四角位置。蝕刻氣體在顯示面板的表面進(jìn)行蝕刻處理后通過出氣口21′排出。

2、現(xiàn)有技術(shù)存在以下不足：出氣口21′設(shè)置在靠近蝕刻室20′的四角位置，蝕刻處理過程中，顯示面板4′的四角位置區(qū)域內(nèi)的蝕刻氣體流速相比于其他區(qū)域更大。造成顯示面板4′的四角位置區(qū)域內(nèi)的蝕刻氣體與膜層反應(yīng)不充分，進(jìn)而使得該區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生晶體物。晶體物難以被蝕刻氣體帶出，遺留在顯示面板4′上的晶體物導(dǎo)致后續(xù)加工中圖案層產(chǎn)生不良。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提出一種應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其可使蝕刻氣體與顯示面板上的膜層充分反應(yīng)，避免產(chǎn)生晶體物而導(dǎo)致顯示面板出現(xiàn)質(zhì)量缺陷。

2、為達(dá)此目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

3、提供的一種應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，包括：

4、蝕刻室，其用于對顯示面板進(jìn)行蝕刻處理；

5、下電極，其設(shè)置于所述蝕刻室的底部，所述顯示面板放置在所述下電極的頂面上；

6、天線室，其設(shè)置于所述蝕刻室的頂部，所述天線室內(nèi)設(shè)置有用于輸送蝕刻氣體的氣管，所述氣管與所述蝕刻室連通；

7、限流組件，其用于減緩所述蝕刻氣體在所述顯示面板上的流速，所述限流組件包括阻擋件，所述阻擋件設(shè)置于所述下電極的頂面上，所述阻擋件環(huán)繞在所述顯示面板的周圍并與所述顯示面板間隔，所述阻擋件的高度尺寸大于所述顯示面板的厚度尺寸。

8、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，所述阻擋件與所述顯示面板的間距為3cm-5cm。

9、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，所述阻擋件的高度為3cm-5cm。

10、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，沿所述阻擋件的長度方向，所述阻擋件上間隔設(shè)置有多個導(dǎo)氣槽，所述導(dǎo)氣槽位于所述阻擋件背離所述顯示面板的一側(cè)，所述導(dǎo)氣槽的一端延伸至所述阻擋件的頂端，另一端朝向所述阻擋件的底端延伸。

11、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，所述蝕刻室的側(cè)壁上間隔設(shè)置有多個出氣口，靠近所述出氣口的區(qū)域內(nèi)所述導(dǎo)氣槽的分布密度小于遠(yuǎn)離所述出氣口的區(qū)域內(nèi)所述導(dǎo)氣槽的分布密度。

12、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，所述限流組件還包括擋板，所述阻擋件朝向所述顯示面板的一側(cè)設(shè)置有第一安裝槽，所述擋板與所述第一安裝槽插接，所述擋板鄰近于所述出氣口。

13、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，所述阻擋件為方框結(jié)構(gòu)，所述阻擋件包括依次首尾相連的四個分框體，四個所述分框體與所述下電極的四個側(cè)邊一一對應(yīng)設(shè)置，每個所述分框體的底部均設(shè)置有連接部，所述連接部與所述分框體之間圍成第二安裝槽，所述第二安裝槽與所述下電極插接。

14、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，所述限流組件還包括彈性卡扣，所述彈性卡扣與所述阻擋件轉(zhuǎn)動連接，所述限流組件通過所述彈性卡扣與所述下電極卡接固定。

15、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，所述限流組件還包括彈性帶，所述彈性帶的兩端分別與所述阻擋件連接，所述彈性帶與所述阻擋件之間形成用于容納所述下電極的安裝空間。

16、作為應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備的一種優(yōu)選方案，所述蝕刻室的側(cè)壁上設(shè)置有多個用于檢測所述蝕刻氣體流速的傳感器，多個所述傳感器沿所述下電極的圓周方向間隔分布。

17、本實(shí)用新型相比于現(xiàn)有技術(shù)的有益效果：

18、本實(shí)用新型的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，通過在顯示面板的周圍設(shè)置限流組件，利用限流組件阻擋從顯示面板朝向下電極的周部流動的蝕刻氣體，進(jìn)而減緩蝕刻氣體的流速。該結(jié)構(gòu)可促進(jìn)蝕刻氣體與顯示面板上的膜層進(jìn)行充分反應(yīng)，避免顯示面板上靠近出氣口的區(qū)域因反應(yīng)不充分而產(chǎn)生晶體物，進(jìn)而避免顯示面板因晶體物的存在而出現(xiàn)質(zhì)量缺陷。

技術(shù)特征：

1.一種應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述阻擋件與所述顯示面板的間距為3cm-5cm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述阻擋件的高度為3cm-5cm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，沿所述阻擋件的長度方向，所述阻擋件上間隔設(shè)置有多個導(dǎo)氣槽，所述導(dǎo)氣槽位于所述阻擋件背離所述顯示面板的一側(cè)，所述導(dǎo)氣槽的一端延伸至所述阻擋件的頂端，另一端朝向所述阻擋件的底端延伸。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述蝕刻室的側(cè)壁上間隔設(shè)置有多個出氣口，靠近所述出氣口的區(qū)域內(nèi)所述導(dǎo)氣槽的分布密度小于遠(yuǎn)離所述出氣口的區(qū)域內(nèi)所述導(dǎo)氣槽的分布密度。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述限流組件還包括擋板，所述阻擋件朝向所述顯示面板的一側(cè)設(shè)置有第一安裝槽，所述擋板與所述第一安裝槽插接，所述擋板鄰近于所述出氣口。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述阻擋件為方框結(jié)構(gòu)，所述阻擋件包括依次首尾相連的四個分框體，四個所述分框體與所述下電極的四個側(cè)邊一一對應(yīng)設(shè)置，每個所述分框體的底部均設(shè)置有連接部，所述連接部與所述分框體之間圍成第二安裝槽，所述第二安裝槽與所述下電極插接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述限流組件還包括彈性卡扣，所述彈性卡扣與所述阻擋件轉(zhuǎn)動連接，所述限流組件通過所述彈性卡扣與所述下電極卡接固定。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述限流組件還包括彈性帶，所述彈性帶的兩端分別與所述阻擋件連接，所述彈性帶與所述阻擋件之間形成用于容納所述下電極的安裝空間。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述蝕刻室的側(cè)壁上設(shè)置有多個用于檢測所述蝕刻氣體流速的傳感器，多個所述傳感器沿所述下電極的圓周方向間隔分布。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種應(yīng)用于顯示面板的干蝕刻設(shè)備，包括蝕刻室、下電極、天線室和限流組件。下電極設(shè)置于蝕刻室的底部，顯示面板放置在下電極的頂面上。天線室設(shè)置于蝕刻室的頂部，天線室內(nèi)設(shè)置有用于輸送蝕刻氣體的氣管，氣管與蝕刻室連通；限流組件包括阻擋件，阻擋件設(shè)置于下電極的頂面上，阻擋件環(huán)繞在顯示面板的周圍并與顯示面板間隔，阻擋件的高度尺寸大于顯示面板的厚度尺寸。利用限流組件阻擋從顯示面板朝向下電極的周部流動的蝕刻氣體，進(jìn)而減緩蝕刻氣體的流速。該結(jié)構(gòu)可促進(jìn)蝕刻氣體與顯示面板上的膜層進(jìn)行充分反應(yīng)，避免顯示面板上靠近出氣口的區(qū)域因反應(yīng)不充分而產(chǎn)生晶體物，進(jìn)而避免顯示面板因晶體物的存在而出現(xiàn)質(zhì)量缺陷。

技術(shù)研發(fā)人員：吳烜睿
受保護(hù)的技術(shù)使用者：樂金顯示光電科技（中國）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231012
技術(shù)公布日：2024/5/29