本技術(shù)涉及磁性裝置，特別涉及一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、海爾貝克磁組件(也可以叫“海爾貝克磁鐵”，英文名稱halbach)是一種常見的磁性組件，其通過將不同充磁方向的永磁鐵按照一定規(guī)律排列，能夠在組件一側(cè)匯聚磁力線，而在另一側(cè)削弱磁力線，從而獲得比較理想的單邊磁場，在工程上有非常重要的意義，并被廣泛應(yīng)用于諸如核磁共振、磁懸浮、永磁特種電機等工業(yè)領(lǐng)域。

2、當(dāng)前部分海爾貝克磁組件是通過粘接的方式形成的，即將多個磁鐵粘接成海爾貝克磁組件，在粘接過程中，由于各磁鐵互相之間存在磁性作用力，因此會出現(xiàn)膠水附著不均勻的問題，影響最終成品的質(zhì)量，當(dāng)前雖然也存在用磁性件來平衡海爾貝克磁組件內(nèi)各磁鐵互相之間的磁力作用的技術(shù)方案，但對膠水附著的改善效果不夠理想。

3、因此，在對各磁鐵進行粘接的過程中，如何優(yōu)化平衡各磁鐵互相之間的磁力作用，以更利于膠水在各磁鐵之間附著的問題有待解決。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)，克服上述缺陷，能夠平衡海爾貝克組件上各磁鐵互相之間的磁力作用，以更利于膠水在各磁鐵之間附著。

2、為達成上述目的，本實用新型的解決方案為：一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)，包括導(dǎo)磁塊，以及從左至右依次設(shè)置的第一磁塊、第二磁塊、第三磁塊、第四磁塊、第五磁塊和第六磁塊，用于磁力作用于一磁組件；

3、磁組件包括從左至右并排的第一磁鐵、第二磁鐵、第三磁鐵和第四磁鐵，且充磁方向依次為向上、向左、向下和向右；

4、第一磁塊位于第一磁鐵下方，充磁方向向上；

5、第二磁塊位于第三磁鐵下方右邊部，充磁方向向下；

6、第三磁塊位于第四磁鐵下方左邊部，緊靠在第二磁塊右側(cè)，充磁方向向上；

7、導(dǎo)磁塊貼合設(shè)置在第二磁塊和第三磁塊靠近磁組件的一側(cè)；

8、第四磁塊、第五磁塊和第六磁塊互相間隔設(shè)置在磁組件下方范圍之外，且充磁方向依次為向下、向上和向下。

9、進一步，所述導(dǎo)磁塊由鋼材制成。

10、進一步，所述第五磁塊和第六磁塊之間設(shè)置有由不導(dǎo)磁材料制成的間隔塊。

11、進一步，所述第一磁塊位于第一磁鐵下方中央。

12、進一步，所述的充磁方向為由s磁極到n磁極的連線方向。

13、采用上述方案后，本實用新型的有益效果在于：第一磁塊位于第一磁鐵下方，充磁方向向上；第二磁塊位于第三磁鐵下方右邊部，充磁方向向下；第三磁塊位于第四磁鐵下方左邊部，緊靠在第二磁塊右側(cè)，充磁方向向上；導(dǎo)磁塊貼合設(shè)置在第二磁塊和第三磁塊靠近磁組件的一側(cè)；第四磁塊、第五磁塊和第六磁塊間隔設(shè)置在磁組件下方范圍之外，且充磁方向依次為向下、向上和向下，進而能夠平衡第一磁鐵、第二磁鐵、第三磁鐵和第四磁鐵互相之間的磁力作用，以在將第一磁鐵、第二磁鐵、第三磁鐵和第四磁鐵粘接成一體的海爾貝克磁組件的過程中，能夠使膠水分布更加均勻，以提升海爾貝克磁組件的產(chǎn)品質(zhì)量。

技術(shù)特征：

1.一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括導(dǎo)磁塊(1)，以及從左至右依次設(shè)置的第一磁塊(2)、第二磁塊(3)、第三磁塊(4)、第四磁塊(5)、第五磁塊(6)和第六磁塊(7)，用于磁力作用于一磁組件(8)；

2.如權(quán)利要求1所述一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述導(dǎo)磁塊(1)由鋼材制成。

3.如權(quán)利要求1所述一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述第五磁塊(6)和第六磁塊(7)之間設(shè)置有由不導(dǎo)磁材料制成的間隔塊(13)。

4.如權(quán)利要求1所述一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述第一磁塊(2)位于第一磁鐵(9)下方中央。

5.如權(quán)利要求1所述一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的充磁方向為由s磁極到n磁極的連線方向。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開一種優(yōu)化海爾貝克磁鐵間相互作用力的磁排列結(jié)構(gòu)，包括導(dǎo)磁塊，以及從左至右依次設(shè)置的第一磁塊、第二磁塊、第三磁塊、第四磁塊、第五磁塊和第六磁塊；一磁組件包括從左至右并排的第一磁鐵、第二磁鐵、第三磁鐵和第四磁鐵，且充磁方向依次為向上、向左、向下和向右；第一磁塊在第一磁鐵下方，充磁方向向上；第二磁塊在第三磁鐵下方右邊部，充磁方向向下；第三磁塊在第四磁鐵下方左邊部，緊靠在第二磁塊右側(cè)，充磁方向向上；導(dǎo)磁塊貼合設(shè)置在第二磁塊和第三磁塊靠近磁組件的一側(cè)；第四磁塊、第五磁塊和第六磁塊間隔設(shè)置在磁組件下方范圍外，且充磁方向依次為向下、向上和向下。本技術(shù)能夠優(yōu)化調(diào)整磁組件上各磁鐵之間的磁力作用。

技術(shù)研發(fā)人員：周保平,李鑫,董福海,林云,周維娜
受保護的技術(shù)使用者：包頭市英思特稀磁新材料股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231227
技術(shù)公布日：2024/12/19