本發(fā)明涉及一種發(fā)光元件以及發(fā)光裝置。

背景技術(shù)：

1、以往，提出了一種發(fā)光元件，該發(fā)光元件具備：半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其具有n型半導(dǎo)體層、和以將n型半導(dǎo)體層的一部分露出的方式層疊的有源層以及p型半導(dǎo)體層；設(shè)置在半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的一面?zhèn)鹊膎電極以及p電極。在這樣的發(fā)光元件中，由于半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的組分，導(dǎo)致產(chǎn)生半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中的電流擴(kuò)散的偏差，因此為了實(shí)現(xiàn)面內(nèi)的均勻的電流密度，進(jìn)行了各種設(shè)計(jì)。

2、例如，提出了在與半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)連接的電極間設(shè)置溝槽，來(lái)控制水平電流的流動(dòng)等方法(例如，專利文獻(xiàn)1)。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)

5、專利文獻(xiàn)1：(日本)特表2010-530628號(hào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、本發(fā)明是鑒于上述課題而作出的發(fā)明，其目的在于提供一種能夠更高效地取出光的發(fā)光元件以及發(fā)光裝置。

3、用于解決課題的方案

4、本公開(kāi)包括以下發(fā)明。

5、(1)一種發(fā)光元件，其包括：

6、基板；

7、半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)體，其配置在所述基板上，從所述基板側(cè)依次包括n側(cè)半導(dǎo)體層、有源層和p側(cè)半導(dǎo)體層；

8、p電極，其配置在所述p側(cè)半導(dǎo)體層上，與所述p側(cè)半導(dǎo)體層電連接；

9、n電極，其配置在所述n側(cè)半導(dǎo)體層上，與所述n側(cè)半導(dǎo)體層電連接；

10、所述n電極包括基部和從所述基部延伸的多個(gè)延伸部，

11、所述基板包括從所述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)體露出的露出部，

12、在俯視觀察下，所述露出部包括：第一露出部，其位于相鄰的兩個(gè)所述延伸部之間；第二露出部，其配置在所述基板的外周部，與所述第一露出部相連；

13、在俯視觀察下，所述p電極配置在所述延伸部與所述第一露出部之間。

14、(2)一種發(fā)光裝置，其包括：

15、上述發(fā)光元件；

16、覆蓋部件，其在俯視觀察下至少覆蓋與所述露出部相鄰的所述n側(cè)半導(dǎo)體層的側(cè)面以及所述有源層的側(cè)面。

17、發(fā)明效果

18、根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的發(fā)光元件以及發(fā)光裝置，能夠提供一種能夠更高效地取出光的發(fā)光元件以及發(fā)光裝置。

技術(shù)特征：

1.一種發(fā)光元件，其特征在于，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光元件，其特征在于，

3.如權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光元件，其特征在于，

4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的發(fā)光元件，其特征在于，

5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的發(fā)光元件，其特征在于，

6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的發(fā)光元件，其特征在于，

7.一種發(fā)光裝置，其特征在于，包括：

8.如權(quán)利要求7所述的發(fā)光裝置，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
目的在于提供一種能夠更高效地取出光的發(fā)光元件以及發(fā)光裝置。一種發(fā)光元件，其包括：基板；半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)體，其配置在所述基板上，從所述基板側(cè)依次包括n側(cè)半導(dǎo)體層、有源層和p側(cè)半導(dǎo)體層；p電極，其配置在所述p側(cè)半導(dǎo)體層上，與所述p側(cè)半導(dǎo)體層電連接；n電極，其配置在所述n側(cè)半導(dǎo)體層上，與所述n側(cè)半導(dǎo)體層電連接；所述n電極包括基部和從所述基部延伸的多個(gè)延伸部，所述基板包括從所述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)體露出的露出部，在俯視觀察下，所述露出部包括：第一露出部，其位于相鄰的兩個(gè)所述延伸部之間；第二露出部，其配置在所述基板的外周部，與所述第一露出部相連；在俯視觀察下，所述p電極配置在所述延伸部與所述第一露出部之間。

技術(shù)研發(fā)人員：楠瀨健,渡邊健太郎
受保護(hù)的技術(shù)使用者：日亞化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19