本公開涉及一種基板處理裝置和搬送位置調(diào)整方法。

背景技術(shù)：

1、以往，已知有在基板的表面形成防干燥用的液膜之后使形成有液膜的基板與超臨界流體接觸來使基板干燥的超臨界干燥處理。

2、作為進行超臨界干燥處理的基板處理裝置，在專利文獻1中公開了一種在垂直方向上重疊配置有干燥單元和檢查單元的基板處理裝置，所述干燥單元用于對形成有液膜的基板進行超臨界干燥處理，所述檢查單元用于檢查液膜在基板上的覆蓋狀態(tài)。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：日本特開2022-30851號公報

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、本公開提供一種能夠抑制基板在處理容器的內(nèi)部與外部的相對的位置偏移的技術(shù)。

3、用于解決問題的方案

4、本公開的一個方式的基板處理裝置具備對基板進行處理的處理單元。處理單元具有：處理容器，其收容基板；第一支承部，其在處理容器的內(nèi)部將基板水平地支承；以及第二支承部，其在處理容器的外部將基板水平地支承。第一支承部和第二支承部以至少在從相對于處理容器搬入和搬出基板的方向觀察時處理容器的內(nèi)部的基板的中心軸與處理容器的外部的基板的中心軸彼此一致的方式支承基板。

5、發(fā)明的效果

6、根據(jù)本公開，能夠抑制基板在處理容器的內(nèi)部與外部的相對的位置偏移。

技術(shù)特征：

1.一種基板處理裝置，其中，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中，還具備：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中，

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其中，

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其中，

11.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其中，

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其中，

13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其中，

14.一種搬送位置調(diào)整方法，包括在以下基板處理裝置中進行的以下處理，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種基板處理裝置和搬送位置調(diào)整方法。本發(fā)明能夠抑制基板在處理容器的內(nèi)部與外部的相對的位置偏移?；逄幚硌b置具備對基板進行處理的處理單元。處理單元具有：處理容器，其收容基板；第一支承部，其在處理容器的內(nèi)部將基板水平地支承；以及第二支承部，其在處理容器的外部將基板水平地支承。第一支承部和第二支承部以至少在從相對于處理容器搬入和搬出基板的方向觀察時處理容器的內(nèi)部的基板的中心軸與處理容器的外部的基板的中心軸彼此一致的方式支承基板。

技術(shù)研發(fā)人員：梅崎翔太,木本晃司,大關(guān)雅人,檢崎亮介
受保護的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/11/28