本申請(qǐng)涉及線路板加工,特別是涉及光子計(jì)數(shù)探測(cè)器的制備方法以及相關(guān)裝置。
背景技術(shù):
1、光子計(jì)數(shù)探測(cè)器是一項(xiàng)新興的技術(shù),應(yīng)用于醫(yī)療ct(計(jì)算機(jī)斷層掃描技術(shù)),是ct機(jī)最重要的組件之一。
2、現(xiàn)有技術(shù)中,光子計(jì)數(shù)探測(cè)器包括光電轉(zhuǎn)換板件、pcb(printed?circuit?board,印制電路板)以及模數(shù)轉(zhuǎn)換芯片,光子計(jì)數(shù)探測(cè)器接收x射線后,通過半導(dǎo)體材料中每個(gè)晶體的多個(gè)像素點(diǎn)將x射線轉(zhuǎn)換為電信號(hào),并通過pcb將每個(gè)像素點(diǎn)的模擬通道連接至模數(shù)轉(zhuǎn)換芯片。
3、然而,半導(dǎo)體材料中單個(gè)晶體的像素點(diǎn)在幾百甚至上千,需要在很小尺寸內(nèi)實(shí)現(xiàn)每個(gè)像素點(diǎn)的模擬通道連接至模數(shù)轉(zhuǎn)換芯片,但現(xiàn)有的光子技術(shù)探測(cè)器的pcb無法較好地將每個(gè)像素點(diǎn)的模擬通道連接至模數(shù)轉(zhuǎn)換芯片,導(dǎo)致最終的成像質(zhì)量仍然較差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)主要解決的技術(shù)問題是提供光子計(jì)數(shù)探測(cè)器的制備方法以及相關(guān)裝置,能夠解決現(xiàn)有光子計(jì)數(shù)探測(cè)器存在的成像質(zhì)量較差的問題。
2、為解決上述技術(shù)問題,本申請(qǐng)采用的第一技術(shù)方案是提供一種光子計(jì)數(shù)探測(cè)器的制備方法,包括:獲取到第一電路板;其中,第一電路板包括相對(duì)設(shè)置的第一表面與第二表面,第一表面上設(shè)置有至少一個(gè)控深槽;第一表面、第二表面以及第一電路板的內(nèi)部線路層設(shè)置有互連的精細(xì)導(dǎo)電線路層,精細(xì)導(dǎo)電線路層包括精細(xì)導(dǎo)電線路,精細(xì)導(dǎo)電線路的線寬線距小于30微米;在每個(gè)控深槽中貼裝芯片;其中,芯片與內(nèi)部線路層的精細(xì)導(dǎo)電線路電連接;在第一電路板的第二表面的精細(xì)導(dǎo)電線路層上設(shè)置光電轉(zhuǎn)換板件,得到光子計(jì)數(shù)探測(cè)器;其中,光電轉(zhuǎn)換板件與芯片通過互連的精細(xì)導(dǎo)電線路層實(shí)現(xiàn)電連接。
3、其中,獲取到第一電路板的步驟,包括:獲取到待加工板材;其中,待加工板材為通過層壓獲取的多層芯板,芯板之間設(shè)置有半固化片;在待加工板材的兩側(cè)表面分別壓合第一軟質(zhì)金屬基材;其中,第一軟質(zhì)金屬基材包括層疊設(shè)置的第一金屬層與第一軟質(zhì)介質(zhì)層;對(duì)第一金屬層進(jìn)行蝕刻,以形成第一精細(xì)導(dǎo)電線路層;在第一精細(xì)導(dǎo)電線路上依次壓合半固化片與第二軟質(zhì)金屬基材;其中,第二軟質(zhì)金屬基材包括層疊設(shè)置的第二金屬層與第二軟質(zhì)介質(zhì)層;對(duì)第二金屬層進(jìn)行蝕刻,以形成第二精細(xì)導(dǎo)電線路層;其中,第二精細(xì)導(dǎo)電線路與第一精細(xì)導(dǎo)電線路通過金屬化孔實(shí)現(xiàn)電連接;重復(fù)上述增層步驟,直至獲得所需要的層數(shù),得到待處理板材;其中,待處理板材的最外兩側(cè)表面分別為第一表面與第二表面;在第一表面的至少一個(gè)預(yù)設(shè)區(qū)域形成控深槽;在第二表面的精細(xì)導(dǎo)電線路層上形成晶體焊盤,得到第一電路板。
4、其中,在第一表面的至少一個(gè)預(yù)設(shè)區(qū)域形成控深槽的步驟,包括:根據(jù)預(yù)設(shè)的深度及尺寸在每個(gè)預(yù)設(shè)區(qū)域加工出控深槽;其中,控深槽的深度大于或等于芯片的厚度,控深槽的尺寸大于芯片的尺寸;在控深槽的槽底形成芯片焊盤;其中,芯片焊盤設(shè)置于內(nèi)部線路層的精細(xì)導(dǎo)電線路上,且芯片焊盤的尺寸與芯片的尺寸對(duì)應(yīng)。
5、其中,在每個(gè)控深槽中貼裝芯片的步驟,包括:在每個(gè)控深槽的芯片焊盤處貼裝芯片;在控深槽貼裝電阻與電容,以使電阻與電容圍繞芯片;在電阻與電容上涂覆絕緣膠;在第一電路板的第二表面的精細(xì)導(dǎo)電線路層上設(shè)置光電轉(zhuǎn)換板件,得到光子計(jì)數(shù)探測(cè)器的步驟,包括:在第二表面的晶體焊盤處設(shè)置光電轉(zhuǎn)換板件,以使光電轉(zhuǎn)換板件與芯片通過多層精細(xì)導(dǎo)電線路層實(shí)現(xiàn)電連接。
6、其中,在每個(gè)控深槽中貼裝芯片的步驟后,包括:獲取到第二電路板;其中,第二電路板包括接合部以及彎折部,彎折部設(shè)置于接合部沿第一方向延伸的兩端;將第二電路板的接合部焊接至第一電路板的第一表面上,以使芯片與第二電路板電連接;其中,接合部對(duì)應(yīng)芯片的位置設(shè)置有多個(gè)金屬化孔;其中,接合部沿第一方向延伸的長(zhǎng)度小于或等于第一電路板沿第一方向延伸的長(zhǎng)度。
7、其中,第二電路板為剛撓結(jié)合板,剛撓結(jié)合板包括硬板區(qū)與軟板區(qū),硬板區(qū)為接合部,軟板區(qū)為彎折部;軟板區(qū)遠(yuǎn)離硬板區(qū)的一端設(shè)置有連接器;將第二電路板的接合部焊接至第一電路板的第一表面上,以使芯片與第二電路板電連接的步驟,包括:將剛撓結(jié)合板的硬板區(qū)焊接在第一表面上;在多個(gè)金屬化孔中灌注導(dǎo)熱膠。
8、其中,第二電路板為軟板,軟板與第一電路板焊接的區(qū)域?yàn)榻雍喜?;軟板的兩端設(shè)置有連接器;將第二電路板的接合部焊接至第一電路板的第一表面上,以使芯片與第二電路板電連接的步驟,包括:將軟板對(duì)應(yīng)接合部的區(qū)域焊接在第一表面上;在多個(gè)金屬化孔中灌注導(dǎo)熱膠。
9、其中,將第二電路板的接合部焊接至第一電路板的第一表面上,以使芯片與第二電路板電連接的步驟后,包括:在第二電路板遠(yuǎn)離第一電路板的一側(cè)表面設(shè)置散熱器;其中,散熱器對(duì)應(yīng)芯片設(shè)置。
10、為解決上述技術(shù)問題,本申請(qǐng)采用的第二技術(shù)方案是提供一種光子計(jì)數(shù)探測(cè)器,光子計(jì)數(shù)探測(cè)器由上述的光子計(jì)數(shù)探測(cè)器的制備方法制成。
11、為解決上述技術(shù)問題,本申請(qǐng)采用的三技術(shù)方案是提供一種光子計(jì)數(shù)探測(cè)器陣列,光子計(jì)數(shù)探測(cè)器陣列由上述的多個(gè)光子計(jì)數(shù)探測(cè)器拼接形成。
12、本申請(qǐng)的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù),本申請(qǐng)?zhí)峁┕庾佑?jì)數(shù)探測(cè)器的制備方法以及相關(guān)裝置,通過在第一電路板的外側(cè)表面以及內(nèi)部線路層中設(shè)置互連的精細(xì)導(dǎo)電線路層,并在第一表面設(shè)置的控深槽中貼裝芯片,以使芯片與內(nèi)部線路層的精細(xì)導(dǎo)電線路電連接,以及在第二表面的精細(xì)導(dǎo)電線路層上設(shè)置光電轉(zhuǎn)換板件,能夠使光電轉(zhuǎn)換板件與芯片通過互連的精細(xì)導(dǎo)電線路實(shí)現(xiàn)電連接。進(jìn)一步地,由于精細(xì)導(dǎo)電線路的線寬線距小于30微米,因而能夠在較小尺寸內(nèi)將光電轉(zhuǎn)換板件中每個(gè)像素點(diǎn)的模擬通道連接至芯片。通過上述方式,本申請(qǐng)能夠在有限空間內(nèi)實(shí)現(xiàn)更小的像素尺寸與更多的采集通道,從而提高了ct成像的分辨率,繼而提高了最終的ct成像質(zhì)量。
1.一種光子計(jì)數(shù)探測(cè)器的制備方法,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,
9.一種光子計(jì)數(shù)探測(cè)器,其特征在于,所述光子計(jì)數(shù)探測(cè)器由權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的光子計(jì)數(shù)探測(cè)器的制備方法制成。
10.一種光子計(jì)數(shù)探測(cè)器陣列,其特征在于,所述光子計(jì)數(shù)探測(cè)器陣列由多個(gè)權(quán)利要求9中所述的多個(gè)光子計(jì)數(shù)探測(cè)器拼接形成。