本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體,具體而言,涉及一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制備方法。
背景技術(shù):
1、近年來(lái),以氮化鎵(gan)器件為主的第三代功率半導(dǎo)體器件發(fā)展迅猛。相較于傳統(tǒng)的硅器件,gan器件具有更高的工作電壓、更高的開(kāi)關(guān)頻率、更低的導(dǎo)通電阻等優(yōu)勢(shì),并可與成本極低、技術(shù)成熟度極高的硅基半導(dǎo)體集成電路工藝相兼容,在新一代高效率、小尺寸的電力轉(zhuǎn)換與管理系統(tǒng)、電動(dòng)機(jī)車(chē)、工業(yè)電機(jī)等領(lǐng)域具有巨大的發(fā)展?jié)摿Α?/p>
2、由于目前生產(chǎn)工藝的限制,目前市場(chǎng)是沒(méi)有高電流額定值的氮化鎵高電子遷移率晶體管(gan?high?electron?mobility?transistor,gan?hemt)。低壓e型gan-hemts在100v器件中的電流容量約為90a,極大地限制了gan-hemts的推廣應(yīng)用。幸運(yùn)的是,gan?hemt具有導(dǎo)通電阻的正溫度特性,這使得并聯(lián)應(yīng)用成為可能。現(xiàn)有技術(shù)中有兩種并聯(lián)方式,一種是將多顆分立器件設(shè)置在線路板上,通過(guò)線路板內(nèi)部走線使得分離器件并聯(lián);另一種是多顆芯片通過(guò)陶瓷基板進(jìn)行裝片焊接后,再塑封。其中,在線路板上并聯(lián)的方式,使得線路板內(nèi)部走線設(shè)計(jì)復(fù)雜;通過(guò)陶瓷基板并聯(lián)的方式,成本較高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)的目的在于提供一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制備方法,能夠簡(jiǎn)化線路板的設(shè)計(jì),并降低成本。
2、本申請(qǐng)的實(shí)施例一方面提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),包括線路板以及設(shè)置于線路板上的并聯(lián)組件,并聯(lián)組件包括依次設(shè)置于線路板上的第二連接層、器件層和第一連接層,器件層上間隔設(shè)置多個(gè)晶體管以及至少一個(gè)開(kāi)關(guān)元件,多個(gè)晶體管的柵極與開(kāi)關(guān)元件在第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)晶體管的漏極在第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)晶體管的源極通過(guò)第二連接層與線路板連接。
3、作為一種可實(shí)施的方式,開(kāi)關(guān)元件包括mos管,多個(gè)晶體管的柵極與mos管的源極在第一連接層內(nèi)連接作為第一接線端子,多個(gè)晶體管的漏極連接形成第二接線端子,mos管的柵極與第一連接層連接作為第三接線端子,mos管的漏極與多個(gè)晶體管的源極連接,并通過(guò)第二連接層與線路板連接。
4、作為一種可實(shí)施的方式,開(kāi)關(guān)元件包括與晶體管對(duì)應(yīng)的多個(gè)mos管,多個(gè)mos管的源極分別與對(duì)應(yīng)的晶體管的柵極連接,并通過(guò)第一連接層相互連接形成第一接線端子;多個(gè)晶體管的漏極連接形成第二接線端子,多個(gè)mos管的柵極分別通過(guò)第一連接層形成多個(gè)第三接線端子,多個(gè)mos管的漏極分別與對(duì)應(yīng)的晶體管的源極連接,并通過(guò)第二連接層與線路板連接。
5、作為一種可實(shí)施的方式,半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還包括驅(qū)動(dòng)控制芯片,驅(qū)動(dòng)控制芯片的控制端與mos管的柵極連接,驅(qū)動(dòng)控制芯片的輸入端通過(guò)第二連接層與線路板連接,驅(qū)動(dòng)控制芯片的片選端與mos管的源極連接。
6、作為一種可實(shí)施的方式,半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還包括驅(qū)動(dòng)控制芯片,驅(qū)動(dòng)控制芯片的控制端與mos管的柵極連接,驅(qū)動(dòng)控制芯片的輸入端通過(guò)第二連接層與線路板連接,驅(qū)動(dòng)控制芯片的片選端通過(guò)第一連接層形成第四接線端子。
7、作為一種可實(shí)施的方式,開(kāi)關(guān)元件包括控制芯片,控制芯片的控制端與多個(gè)晶體管的柵極通過(guò)第一連接層連接,多個(gè)晶體管的漏極連接形成第二接線端子,控制芯片的片選端與第一連接層連接形成第三接線端子。
8、作為一種可實(shí)施的方式,在多個(gè)晶體管的柵極與源極之間分別設(shè)置電子元件,和/或,在相鄰兩個(gè)晶體管的柵極之間或者晶體管的柵極與mos管的源極之間設(shè)置電子元件,電子元件包括電容、電阻、二極管、電流檢測(cè)裝置、溫度檢測(cè)裝置或者預(yù)留空位中的一種。
9、作為一種可實(shí)施的方式,并聯(lián)組件包括多組,且相鄰兩組并聯(lián)組件中一個(gè)并聯(lián)組件的第三接線端子和另一個(gè)并聯(lián)組件的第一接線端子連接形成拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。
10、本申請(qǐng)的實(shí)施例另一方面提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制備方法,用于制備如上述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),包括:形成并聯(lián)組件,其中,并聯(lián)組件包括依次設(shè)置的第二連接層、器件層和第一連接層,器件層上間隔設(shè)置多個(gè)晶體管以及至少一個(gè)開(kāi)關(guān)元件,多個(gè)晶體管的柵極與開(kāi)關(guān)元件在第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)晶體管的漏極在第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)晶體管的源極通過(guò)第二連接層連接;通過(guò)第二連接層將并聯(lián)組件設(shè)置于線路板上形成半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。
11、作為一種可實(shí)施的方式,形成并聯(lián)組件包括:提供載板并在載板上形成臨時(shí)鍵合膜;在臨時(shí)鍵合膜上間隔設(shè)置多個(gè)晶體管和開(kāi)關(guān)元件;采用封裝材料封裝晶體管和開(kāi)關(guān)元件形成第一封裝層,并對(duì)第一封裝層處理使得晶體管和開(kāi)關(guān)元件的各個(gè)端子外露;在第一封裝層上形成第一連接層,多個(gè)晶體管的柵極與開(kāi)關(guān)元件在第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)晶體管的漏極在第一連接層內(nèi)連接;去除載板和臨時(shí)鍵合膜,并采用封裝材料封裝晶體管和開(kāi)關(guān)元件另一側(cè)面形成第二封裝層,并對(duì)第二封裝層處理使得晶體管的源極外露;在第二封裝層上形成第二連接層,晶體管的源極通過(guò)第二連接層連接。
12、本申請(qǐng)實(shí)施例的有益效果包括:
13、本申請(qǐng)?zhí)峁┑陌雽?dǎo)體結(jié)構(gòu),包括線路板以及設(shè)置于線路板上的并聯(lián)組件,并聯(lián)組件包括依次設(shè)置于線路板上的第二連接層、器件層和第一連接層,器件層上間隔設(shè)置多個(gè)晶體管以及至少一個(gè)開(kāi)關(guān)元件,多個(gè)晶體管的柵極與開(kāi)關(guān)元件在第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)晶體管的漏極在第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)晶體管的源極通過(guò)第二連接層與線路板連接,使得多個(gè)晶體管和開(kāi)關(guān)元件在第一連接層和第二連接層內(nèi)實(shí)現(xiàn)線路連接。當(dāng)將并聯(lián)組件設(shè)置于線路板上時(shí),由于多個(gè)晶體管和開(kāi)關(guān)元件在第一連接層和第二連接層內(nèi)實(shí)現(xiàn)線路連接,從而減少了線路板內(nèi)線路布局,簡(jiǎn)化線路板內(nèi)線路的設(shè)計(jì),采用線路板實(shí)現(xiàn)多個(gè)晶體管之間的并聯(lián),相對(duì)即采用陶瓷基板的,降低成本,因此,本申請(qǐng)實(shí)施例的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),能夠簡(jiǎn)化線路板的設(shè)計(jì),降低成本。
1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,包括線路板以及設(shè)置于所述線路板上的并聯(lián)組件,所述并聯(lián)組件包括依次設(shè)置于所述線路板上的第二連接層、器件層和第一連接層,所述器件層上間隔設(shè)置多個(gè)晶體管以及至少一個(gè)開(kāi)關(guān)元件,多個(gè)所述晶體管的柵極與所述開(kāi)關(guān)元件在所述第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)所述晶體管的漏極在所述第一連接層內(nèi)連接,多個(gè)所述晶體管的源極通過(guò)所述第二連接層與所述線路板連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述開(kāi)關(guān)元件包括mos管,多個(gè)所述晶體管的柵極與所述mos管的源極在第一連接層內(nèi)連接作為第一接線端子,多個(gè)所述晶體管的漏極連接形成第二接線端子,所述mos管的柵極與第一連接層連接作為第三接線端子,所述mos管的漏極與多個(gè)晶體管的源極連接,并通過(guò)所述第二連接層與所述線路板連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述開(kāi)關(guān)元件包括與所述晶體管對(duì)應(yīng)的多個(gè)mos管,多個(gè)mos管的源極分別與對(duì)應(yīng)的晶體管的柵極連接,并通過(guò)第一連接層相互連接形成第一接線端子;多個(gè)所述晶體管的漏極連接形成第二接線端子,多個(gè)mos管的柵極分別通過(guò)所述第一連接層形成多個(gè)第三接線端子,多個(gè)所述mos管的漏極分別與對(duì)應(yīng)的晶體管的源極連接,并通過(guò)所述第二連接層與所述線路板連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括驅(qū)動(dòng)控制芯片,所述驅(qū)動(dòng)控制芯片的控制端與所述mos管的柵極連接,所述驅(qū)動(dòng)控制芯片的輸入端通過(guò)第二連接層與所述線路板連接,所述驅(qū)動(dòng)控制芯片的片選端與所述mos管的源極連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括驅(qū)動(dòng)控制芯片,所述驅(qū)動(dòng)控制芯片的控制端與所述mos管的柵極連接,所述驅(qū)動(dòng)控制芯片的輸入端通過(guò)第二連接層與線路板連接,所述驅(qū)動(dòng)控制芯片的片選端通過(guò)所述第一連接層形成第四接線端子。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述開(kāi)關(guān)元件包括控制芯片,所述控制芯片的控制端與多個(gè)所述晶體管的柵極通過(guò)第一連接層連接,多個(gè)所述晶體管的漏極連接形成第二接線端子,所述控制芯片的片選端與所述第一連接層連接形成第三接線端子。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,在多個(gè)所述晶體管的柵極與源極之間分別設(shè)置電子元件,和/或,在相鄰兩個(gè)晶體管的柵極之間或者晶體管的柵極與mos管的源極之間設(shè)置電子元件,所述電子元件包括電容、電阻、二極管、電流檢測(cè)裝置、溫度檢測(cè)裝置或者預(yù)留空位中的一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述并聯(lián)組件包括多組,且相鄰兩組并聯(lián)組件中一個(gè)并聯(lián)組件的第三接線端子和另一個(gè)并聯(lián)組件的第一接線端子連接形成拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。
9.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,用于制備如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述形成并聯(lián)組件包括: