本申請屬于通信傳輸結(jié)構(gòu)制造，尤其涉及一種差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法。

背景技術(shù)：

1、隨著物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)、人工智能和5g通信等技術(shù)的快速發(fā)展與不斷普及，相關(guān)領(lǐng)域的電子設(shè)備與產(chǎn)品也朝著更高速率、更高帶寬及更高密度方向不斷提升和發(fā)展。通信系統(tǒng)設(shè)計中各級互連間距不斷減小、互連密度大幅增長。隨著電路中傳輸速率及時鐘頻率的不斷提高，高頻高速信號在傳輸中受到的損耗、反射和串?dāng)_等信號完整性問題影響的趨勢日益嚴(yán)重。為了解決串?dāng)_和傳輸損耗問題，重新設(shè)計一種矩形微傳輸結(jié)構(gòu)，并生產(chǎn)制備，但并沒有專門適合所設(shè)計的微傳輸結(jié)構(gòu)的，因此亟需一種針對該傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法。

2、同時現(xiàn)有的微傳輸結(jié)構(gòu)，采用的是昂貴的硅晶圓并在其上制作，但以硅晶圓為載體的微傳輸結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)成本較高，對于矩形微傳輸結(jié)構(gòu)，若采用硅晶圓制作將會造成較大的材料浪費(fèi)，且由于硅晶圓的規(guī)格一般為300mm，只能在單個硅晶圓上進(jìn)行制作，受硅晶圓的面積和形狀影響，制作矩形微傳輸結(jié)構(gòu)的成本較高，而生產(chǎn)效率較低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請旨在至少能夠在一定程度上解決缺少生產(chǎn)微傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法的技術(shù)問題，為此，本申請?zhí)峁┝艘环N差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，能夠適用于微傳輸結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)，提供制備方法，能夠顯著提高生產(chǎn)效率和材料利用率，減少了材料浪費(fèi)，也有效降低制作成本。

2、本申請實(shí)施例提供一種差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，差分傳輸結(jié)構(gòu)包括傳輸外導(dǎo)體、第一內(nèi)導(dǎo)體和第二內(nèi)導(dǎo)體，傳輸外導(dǎo)體呈條型且內(nèi)部設(shè)有連通兩端的通道，第一內(nèi)導(dǎo)體和第二內(nèi)導(dǎo)體的兩端分別位于通道的兩端，第一內(nèi)導(dǎo)體和第二內(nèi)導(dǎo)體相間隔布置并支撐于通道內(nèi)，且分別與傳輸外導(dǎo)體的內(nèi)壁間隔，傳輸外導(dǎo)體沿布置方向開設(shè)有多個犧牲層釋放孔；制備方法包括：

3、采用方形的臨時載板，并在臨時載板的待加工面涂覆光刻膠，烘干形成感光基層；在待加工面上確定將對差分傳輸結(jié)構(gòu)加工的位置；

4、在差分傳輸結(jié)構(gòu)的高度方向?qū)⑵浞譃槎鄬樱捶謱禹樞蜻M(jìn)行多層加工，每層加工時，在待加工面的表面涂覆光刻膠，形成感光干膜，將每層對應(yīng)的差分傳輸結(jié)構(gòu)的位置作為非曝光區(qū)域，對感光干膜進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，再在各層對應(yīng)線路凹槽內(nèi)電鍍，完成所有層的電鍍后，形成傳輸結(jié)構(gòu)半成品；

5、將傳輸結(jié)構(gòu)半成品與臨時載板解鍵合；

6、采用去膜液褪去感光干膜，形成差分傳輸結(jié)構(gòu)。

7、在可選實(shí)施方式中，按分層順序進(jìn)行多層加工時：

8、先在待加工面的表面涂覆形成一層感光干膜；將傳輸外導(dǎo)體在高度方向的底層部分的位置作為非曝光區(qū)域，對感光干膜進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽；在對應(yīng)線路凹槽內(nèi)進(jìn)行電鍍，形成差分傳輸結(jié)構(gòu)的底層部分；

9、然后涂覆形成一層感光干膜，將傳輸外導(dǎo)體、第一內(nèi)導(dǎo)體、第二內(nèi)導(dǎo)體在高度方向的中間層部分的位置作為非曝光區(qū)域，對表面的感光干膜進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，在對應(yīng)線路凹槽內(nèi)電鍍，形成差分傳輸結(jié)構(gòu)的中間層部分；

10、再覆形成一層感光干膜，將傳輸外導(dǎo)體在高度方向的頂層部分的位置作為非曝光區(qū)域，對表面的感光干膜進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，在對應(yīng)線路凹槽內(nèi)電鍍，形成差分傳輸結(jié)構(gòu)的頂層部分，獲得傳輸結(jié)構(gòu)半成品。

11、在可選實(shí)施方式中，在形成感光基層后，在表面沉積一層種子層，再涂覆光刻膠，形成感光干膜，通過對感光干膜顯影處理獲得對應(yīng)的線路凹槽，使線路凹槽處的種子層外露，之后在種子層上電鍍形成底層部分。

12、在可選實(shí)施方式中，涂覆形成一層感光干膜前，在底層部分、中間層部分和頂層部分的表面，以及同層感光干膜的表面，采用化學(xué)機(jī)械拋光方式將表面研磨平整，再在待加工面的表面沉積一層種子層；對感光干膜進(jìn)行顯影處理時，使對應(yīng)線路凹槽處的種子層外露；電鍍時，在對應(yīng)線路凹槽內(nèi)的種子層上進(jìn)行；在解鍵合后，采用刻蝕液釋放殘留的種子層。

13、在可選實(shí)施方式中，所沉積的種子層的導(dǎo)電率為[40ms/m,50ms/m]，附著力的測試等級滿足jis標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的k-1三角格數(shù)1mm。

14、在可選實(shí)施方式中，中間層部分包括多個中間層，每個中間層按分層順序進(jìn)行多層加工，每層中間層經(jīng)對應(yīng)層線路凹槽內(nèi)電鍍形成。

15、在可選實(shí)施方式中，在相鄰中間層中，包括凹凸匹配的中間凹層和中間凸層，其中中間凹層帶有層疊凹槽，層疊凹槽通過涂覆的感光干膜顯影處理形成。

16、在可選實(shí)施方式中，臨時載板的尺寸大于等于300mm×300mm，臨時載板采用玻璃、不銹鋼、銅板或硅制成。

17、在可選實(shí)施方式中，還包括制備絕緣介質(zhì)層，差分傳輸結(jié)構(gòu)還包括絕緣介質(zhì)層，絕緣介質(zhì)層將第一內(nèi)導(dǎo)體和第二內(nèi)導(dǎo)體固定于傳輸外導(dǎo)體的內(nèi)壁；制備絕緣介質(zhì)層時，在對應(yīng)位置所在層的感光干膜設(shè)置絕緣介質(zhì)層對應(yīng)的非曝光區(qū)域，對所在層的感光干膜進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，再在所在層的線路凹槽內(nèi)填充絕緣介質(zhì)材料，使與絕緣介質(zhì)層與傳輸外導(dǎo)體搭接。

18、在可選實(shí)施方式中，還包括制備支撐條，差分傳輸結(jié)構(gòu)還包括支撐條，支撐條連接絕緣介質(zhì)層和傳輸外導(dǎo)體；制備支撐條時，在對應(yīng)位置所在層的感光干膜設(shè)置支撐條對應(yīng)的非曝光區(qū)域，對所在層的感光干膜進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，再在所在層的線路凹槽內(nèi)電鍍，形成支撐條。

19、在可選實(shí)施方式中，還包括制備定位柱，差分傳輸結(jié)構(gòu)還包括定位柱，定位柱連接于傳輸外導(dǎo)體的頂部，制備定位柱時，在傳輸外導(dǎo)體的頂部涂覆形成一層感光干膜，預(yù)留多個定位柱的位置作為非曝光區(qū)域，對頂部的感光干膜進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，再在對應(yīng)的線路凹槽內(nèi)電鍍，形成定位柱。

20、由上述技術(shù)方案可知，本申請的有益效果為：

21、本申請的差分傳輸結(jié)構(gòu)能夠解決串?dāng)_和傳輸損耗問題，針對差分傳輸結(jié)構(gòu)，提出制備方法，替代了現(xiàn)有硅晶圓，采用方形的臨時載板作為載體，從圓形替換為了方形板狀，采用foplp技術(shù)拓展了fowlp技術(shù)的面積，使得其可以有效地利用載板的面積；通過確定差分傳輸結(jié)構(gòu)的加工位置，由于傳輸外導(dǎo)體呈條型，能夠并列排布在臨時載板上，并在臨時載板上劃分出多個條型區(qū)域，這樣能夠在臨時載板上同時加工多個差分傳輸結(jié)構(gòu)，通過將差分傳輸結(jié)構(gòu)分層并分層加工，能夠按高度方向逐步將傳輸外導(dǎo)體、第一內(nèi)導(dǎo)體和第二內(nèi)導(dǎo)體分層累疊，形成傳輸結(jié)構(gòu)半成品；通過涂覆光刻膠在臨時載板上形成一層隔離層，以便于之后將傳輸結(jié)構(gòu)半成品與臨時載板解鍵合，這樣能夠在制作差分傳輸結(jié)構(gòu)后快速將其從臨時載板上脫離，再通過去膜液能夠去掉感光干膜，以便在第一內(nèi)導(dǎo)體、第二內(nèi)導(dǎo)體與傳輸外導(dǎo)體之間形成空氣介質(zhì)，形成最終的差分傳輸結(jié)構(gòu)產(chǎn)品，能夠適用于微傳輸結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)，通過上述過程提供制備方法，同時通過增大單個臨時載板的產(chǎn)量，能夠顯著提高生產(chǎn)效率和材料利用率，減少了材料浪費(fèi)，也有效降低制作成本。

技術(shù)特征：

1.一種差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所述差分傳輸結(jié)構(gòu)包括傳輸外導(dǎo)體(110)、第一內(nèi)導(dǎo)體(120)和第二內(nèi)導(dǎo)體(130)，所述傳輸外導(dǎo)體(110)呈條型且內(nèi)部設(shè)有連通兩端的通道，所述第一內(nèi)導(dǎo)體(120)和所述第二內(nèi)導(dǎo)體(130)的兩端分別位于所述通道的兩端，所述第一內(nèi)導(dǎo)體(120)和所述第二內(nèi)導(dǎo)體(130)相間隔布置并支撐于所述通道內(nèi)，且分別與所述傳輸外導(dǎo)體(110)的內(nèi)壁間隔，所述傳輸外導(dǎo)體(110)沿布置方向開設(shè)有多個犧牲層釋放孔(110a)；所述制備方法包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所述按分層順序進(jìn)行多層加工時：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，在形成所述感光基層(310)后，在表面沉積一層種子層(330)，再涂覆光刻膠，形成感光干膜(320)，通過對感光干膜(320)顯影處理獲得對應(yīng)的線路凹槽，使線路凹槽處的所述種子層(330)外露，之后在種子層(330)上電鍍形成所述底層部分(111)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，涂覆形成一層感光干膜(320)前，在所述底層部分(111)、所述中間層部分(112)和所述頂層部分(113)的表面，以及同層所述感光干膜(320)的表面，采用化學(xué)機(jī)械拋光方式將表面研磨平整，再在待加工面的表面沉積一層種子層(330)；對感光干膜(320)進(jìn)行顯影處理時，使對應(yīng)線路凹槽處的種子層(330)外露；電鍍時，在對應(yīng)線路凹槽內(nèi)的種子層(330)上進(jìn)行；在解鍵合后，采用刻蝕液釋放殘留的種子層(330)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所沉積的所述種子層(330)的導(dǎo)電率為[40ms/m,50ms/m]，附著力的測試等級滿足jis標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的k-1三角格數(shù)1mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所述中間層部分(112)包括多個中間層，每個中間層按分層順序進(jìn)行多層加工，每層所述中間層經(jīng)對應(yīng)層線路凹槽內(nèi)電鍍形成。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，在相鄰所述中間層中，包括凹凸匹配的中間凹層(112a)和中間凸層(112b)，其中所述中間凹層(112a)帶有層疊凹槽，層疊凹槽通過涂覆的感光干膜(320)顯影處理形成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，所述臨時載板(300)的尺寸大于等于300mm×300mm，所述臨時載板(300)采用玻璃、不銹鋼、銅板或硅制成。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，還包括制備絕緣介質(zhì)層(140)，所述差分傳輸結(jié)構(gòu)還包括絕緣介質(zhì)層(140)，所述絕緣介質(zhì)層(140)將所述第一內(nèi)導(dǎo)體(120)和所述第二內(nèi)導(dǎo)體(130)固定于所述傳輸外導(dǎo)體(110)的內(nèi)壁；制備所述絕緣介質(zhì)層(140)時，在對應(yīng)位置所在層的所述感光干膜(320)設(shè)置所述絕緣介質(zhì)層(140)對應(yīng)的非曝光區(qū)域，對所在層的感光干膜(320)進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，再在所在層的線路凹槽內(nèi)填充絕緣介質(zhì)材料，使與所述絕緣介質(zhì)層(140)與所述傳輸外導(dǎo)體(110)搭接。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，還包括制備支撐條(150)，所述差分傳輸結(jié)構(gòu)還包括支撐條(150)，所述支撐條(150)連接所述絕緣介質(zhì)層(140)和所述傳輸外導(dǎo)體(110)；制備所述支撐條(150)時，在對應(yīng)位置所在層的所述感光干膜(320)設(shè)置所述支撐條(150)對應(yīng)的非曝光區(qū)域，對所在層的感光干膜(320)進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，再在所在層的線路凹槽內(nèi)電鍍，形成所述支撐條(150)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，還包括制備定位柱(160)，所述差分傳輸結(jié)構(gòu)還包括定位柱(160)，所述定位柱(160)連接于所述傳輸外導(dǎo)體(110)的頂部，制備所述定位柱(160)時，在所述傳輸外導(dǎo)體(110)的頂部涂覆形成一層感光干膜(320)，預(yù)留多個所述定位柱(160)的位置作為非曝光區(qū)域，對頂部的感光干膜(320)進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，再在對應(yīng)的線路凹槽內(nèi)電鍍，形成所述定位柱(160)。

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種差分傳輸結(jié)構(gòu)的制備方法，屬于通信傳輸結(jié)構(gòu)制造技術(shù)領(lǐng)域，制備方法包括：采用尺寸大于等于硅晶圓的臨時載板，并在臨時載板的待加工面涂覆光刻膠形成感光基層；確定將對差分傳輸結(jié)構(gòu)加工的位置；在差分傳輸結(jié)構(gòu)的高度方向?qū)⑵浞譃槎鄬?，按分層順序進(jìn)行多層加工，每層加工時，在表面涂覆光刻膠形成感光干膜，對感光干膜進(jìn)行顯影處理，獲得對應(yīng)的線路凹槽，再在各層對應(yīng)線路凹槽內(nèi)電鍍，完成所有層加工形成傳輸結(jié)構(gòu)半成品；將傳輸結(jié)構(gòu)半成品與臨時載板解鍵合；褪去感光干膜、釋放殘留的種子層，形成差分傳輸結(jié)構(gòu)。本申請能夠適用于微傳輸結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)，提供制備方法，顯著提高生產(chǎn)效率和材料利用率，也有效降低制作成本。

技術(shù)研發(fā)人員：劉燕春,楊云春,陸原,閻躍鵬,趙晗陽
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京賽萊克斯國際科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/10