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      一種雙壓點(diǎn)太赫茲芯片、組件及制備方法與流程

      文檔序號(hào):40398785發(fā)布日期:2024-12-20 12:22閱讀:7來源:國(guó)知局
      一種雙壓點(diǎn)太赫茲芯片、組件及制備方法與流程

      本發(fā)明涉及太赫茲芯片設(shè)計(jì),尤其涉及一種雙壓點(diǎn)太赫茲芯片、組件及制備方法。


      背景技術(shù):

      1、隨著太赫茲技術(shù)在無線通訊、雷達(dá)成像等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,太赫茲單片集成電路芯片獲得了快速的發(fā)展。太赫茲芯片屬于平面集成電路,芯片接口一般采用共面波導(dǎo)(gsg)形式的壓點(diǎn),g代表地壓點(diǎn),s代表信號(hào)壓點(diǎn)。該壓點(diǎn)用于在片測(cè)試及金絲鍵合裝配。

      2、在太赫茲頻段(100ghz以上),用于電性能測(cè)試的高頻微波探針結(jié)構(gòu)非常精密,一般探針寬度不超過20um,相鄰針間距為50um,這樣的設(shè)計(jì)可以保證測(cè)試探針扎到芯片焊盤路徑上的信號(hào)傳輸損耗盡可能低,反射盡可能小,從而能夠精確測(cè)試太赫茲芯片電路的電性能。為了與測(cè)試探針匹配,常規(guī)太赫茲芯片中間的信號(hào)焊盤寬度為35um,信號(hào)焊盤與地焊盤的間隙為20um,兩側(cè)的地焊盤寬度為80um,太赫茲芯片地焊盤通過接地孔與芯片背面大地相連。太赫茲芯片的探針在片測(cè)試示意圖如圖1。

      3、常規(guī)太赫茲芯片的信號(hào)焊盤雖然能夠滿足精確測(cè)試的需求,但是受限于較小的焊盤尺寸,在芯片需要與其他微帶傳輸線互聯(lián)時(shí),只能通過鍵合1根直徑為25um的鍵合金絲實(shí)現(xiàn)。太赫茲芯片的單絲鍵合示意圖如圖2。這種單絲鍵合的方式,在太赫茲頻段更容易引入較大的寄生電感。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本發(fā)明實(shí)施例提供了一種雙壓點(diǎn)太赫茲芯片、組件及制備方法,以解決太赫茲芯片減小寄生電感的問題。

      2、第一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,包括:

      3、基板、信號(hào)焊盤和對(duì)稱設(shè)于所述信號(hào)焊盤兩側(cè)的兩個(gè)地焊盤;所述信號(hào)焊盤和兩個(gè)所述地焊盤均設(shè)于所述基板正面的邊緣;

      4、所述信號(hào)焊盤包括垂直于所述基板正面的邊緣橫向線性依次連接的第一信號(hào)焊盤和第二信號(hào)焊盤,所述第一信號(hào)焊盤靠近雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的邊緣,所述第二信號(hào)焊盤靠近所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的內(nèi)部;所述第二信號(hào)焊盤的寬度小于所述第一信號(hào)焊盤的寬度;

      5、兩個(gè)所述地焊盤為異形焊盤,兩個(gè)所述地焊盤均包括互相連接的第一部和第二部,所述第一部靠近所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的邊緣,所述第二部的一端與所述第一部連接,所述第二部的另一端逐漸向所述第二信號(hào)焊盤靠近;兩個(gè)所述地焊盤的第二部與所述第二信號(hào)焊盤橫向中軸線之間的最小距離小于探針間距,兩個(gè)所述地焊盤的第二部與所述第二信號(hào)焊盤橫向中軸線之間的最大距離大于探針間距;

      6、所述第一信號(hào)焊盤用于與多鍵合絲鍵合,所述第二信號(hào)焊盤和兩個(gè)所述地焊盤的第二部用于與所述探針配合;所述第一信號(hào)焊盤的寬度大于多鍵合絲直徑的和。

      7、第二方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種雙壓點(diǎn)太赫茲組件,包括:

      8、微帶傳輸線,以及上述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片;

      9、其中,所述微帶傳輸線通過多鍵合絲與所述第一信號(hào)焊盤鍵合。

      10、第三方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種雙壓點(diǎn)太赫茲組件的制備方法,應(yīng)用于制備上述的雙壓點(diǎn)太赫茲組件,包括:

      11、制備得到所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片;

      12、將探針扎在所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的兩個(gè)地焊盤的第二部和第二信號(hào)焊盤上,測(cè)試所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片;

      13、在測(cè)試后,所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的第一信號(hào)焊盤上鍵合多鍵合絲,連接外部微帶傳輸線,制備得到雙壓點(diǎn)太赫茲組件。

      14、本發(fā)明實(shí)施例提供一種雙壓點(diǎn)太赫茲芯片、組件及制備方法,通過將第一信號(hào)焊盤靠近雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的邊緣,便于與微帶傳輸線鍵合,通過設(shè)置兩個(gè)地焊盤的第二部與第二信號(hào)焊盤橫向中軸線之間的最小距離小于探針間距,兩個(gè)所述地焊盤的第二部與所述第二信號(hào)焊盤橫向中軸線之間的最大距離大于探針間距,便于探針對(duì)雙壓點(diǎn)太赫茲芯片測(cè)試,兼顧了雙壓點(diǎn)太赫茲芯片在片測(cè)試和多絲鍵合裝配的需求。該雙壓點(diǎn)太赫茲芯片結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,當(dāng)雙壓點(diǎn)太赫茲芯片需要在片測(cè)試時(shí),可以使用探針直接扎兩個(gè)地焊盤和第二信號(hào)焊盤小壓點(diǎn)進(jìn)行測(cè)試;當(dāng)雙壓點(diǎn)太赫茲芯片需要鍵合時(shí),第一信號(hào)焊盤大壓點(diǎn)可以保證鍵合多根鍵合絲,對(duì)比等長(zhǎng)的單絲鍵合方式,相當(dāng)于多個(gè)電感并聯(lián),從而降低寄生電感,改善傳輸匹配。



      技術(shù)特征:

      1.一種雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,其特征在于,包括:基板、信號(hào)焊盤和對(duì)稱設(shè)于所述信號(hào)焊盤兩側(cè)的兩個(gè)地焊盤;所述信號(hào)焊盤和兩個(gè)所述地焊盤均設(shè)于所述基板正面的邊緣;

      2.如權(quán)利要求1所述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,其特征在于,所述鍵合絲的數(shù)量為2,所述鍵合絲為鍵合金絲。

      3.如權(quán)利要求2所述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,其特征在于,所述鍵合金絲的形狀為拱形。

      4.如權(quán)利要求1所述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,其特征在于,兩個(gè)所述地焊盤的第一部分別設(shè)有接地孔,所述第一部分別通過所述接地孔接地。

      5.如權(quán)利要求1所述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,其特征在于,所述第二信號(hào)焊盤的形狀為矩形。

      6.如權(quán)利要求1所述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,其特征在于,所述第一信號(hào)焊盤靠近所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的邊緣的一側(cè)分別與兩個(gè)所述地焊盤的第一部靠近所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的邊緣的一側(cè)平齊。

      7.如權(quán)利要求1所述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,其特征在于,所述第二信號(hào)焊盤靠近所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的內(nèi)部的一側(cè)分別與兩個(gè)所述地焊盤的第二部靠近所述雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的內(nèi)部的一側(cè)平齊。

      8.如權(quán)利要求1所述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片,其特征在于,所述第一信號(hào)焊盤為正方形。

      9.一種雙壓點(diǎn)太赫茲組件,包括微帶傳輸線,以及如權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的雙壓點(diǎn)太赫茲芯片;

      10.一種雙壓點(diǎn)太赫茲組件的制備方法,其特征在于,應(yīng)用于制備如權(quán)利要求9所述的雙壓點(diǎn)太赫茲組件,所述方法包括:


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供一種雙壓點(diǎn)太赫茲芯片、組件及制備方法。該雙壓點(diǎn)太赫茲芯片雙壓點(diǎn)結(jié)構(gòu)包括:基板、信號(hào)焊盤和對(duì)稱設(shè)于信號(hào)焊盤兩側(cè)的兩個(gè)地焊盤;信號(hào)焊盤包括第一信號(hào)焊盤和第二信號(hào)焊盤,第一信號(hào)焊盤靠近雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的邊緣,第二信號(hào)焊盤靠近雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的內(nèi)部;第二信號(hào)焊盤的寬度小于第一信號(hào)焊盤的寬度;兩個(gè)地焊盤為異形焊盤,兩個(gè)地焊盤均包括互相連接的第一部和第二部,第一部靠近雙壓點(diǎn)太赫茲芯片的邊緣,第二部的一端與第一部連接,第二部的另一端逐漸向第二信號(hào)焊盤靠近;兩個(gè)地焊盤的第二部與第二信號(hào)焊盤橫向中軸線之間的最小距離小于探針間距,最大距離大于探針間距。本發(fā)明能夠使太赫茲芯片減小寄生電感。

      技術(shù)研發(fā)人員:韓易,曹健,何美林,盧軍廷
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十三研究所
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/19
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