本技術(shù)涉及滑差機(jī)構(gòu)，尤其是一種芯軸布磁結(jié)構(gòu)及滑差機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、在以往的磁控滑差機(jī)構(gòu)中，通常采用的是單滑差機(jī)構(gòu)結(jié)合獨(dú)立的磁環(huán)結(jié)構(gòu)，在一些小體積要求的滑差機(jī)構(gòu)中，因?yàn)轶w積限制，在狹窄空間內(nèi)按照傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)進(jìn)行布磁則無(wú)法達(dá)到收卷力需求，因此，本申請(qǐng)要解決的技術(shù)問(wèn)題在于通過(guò)何種結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)小體積、大收卷力的效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于上述狀況，有必要提供一種解決上述至少一種問(wèn)題的芯軸布磁結(jié)構(gòu)及滑差機(jī)構(gòu)。

2、一種芯軸布磁結(jié)構(gòu)，包括芯軸，在所述芯軸上設(shè)置若干磁體環(huán)，若干所述磁體環(huán)之間等距；

3、所述磁體環(huán)固定在所述芯軸上，且二者的旋轉(zhuǎn)軸重合；

4、所述磁體環(huán)包括磁體支架和磁體，所述磁體有若干個(gè)；

5、所述磁體支架固定在所述芯軸上，所述磁體固定在所述磁體支架上。

6、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案：所述磁體在所述磁體支架上呈環(huán)形陣列分布，陣列中心軸為磁體支架的中心軸；

7、所述磁體的磁極分布方向依據(jù)海爾貝克原理設(shè)置。

8、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案：所述芯軸上包括若干個(gè)環(huán)狀槽；

9、若干所述環(huán)狀槽之間的距離相等；

10、所述磁體環(huán)設(shè)置在所述環(huán)狀槽之中。

11、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案：所述磁體環(huán)的外圓周面突出于所述芯軸的外圓周面；

12、或，齊平于所述芯軸的外圓周面。

13、本實(shí)用新型還提供了一種滑差機(jī)構(gòu)，包括上述任一所述的芯軸布磁結(jié)構(gòu)；

14、還包括若干個(gè)外旋轉(zhuǎn)環(huán)，每?jī)蓚€(gè)相鄰的所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)的設(shè)置方向相反，呈軸向鏡射對(duì)稱；

15、每?jī)蓚€(gè)外旋轉(zhuǎn)環(huán)和一個(gè)所述磁體環(huán)為一組，所述磁體環(huán)位于這兩個(gè)所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)之間；

16、所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)包括導(dǎo)體環(huán)，在同一組中，兩個(gè)所述導(dǎo)體環(huán)與同一個(gè)所述磁體環(huán)呈徑向相對(duì)設(shè)置；

17、所述導(dǎo)體環(huán)與所述磁體環(huán)發(fā)生相對(duì)旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述導(dǎo)體環(huán)內(nèi)部產(chǎn)生傅科電流。

18、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)還包括外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體，所述導(dǎo)體環(huán)設(shè)置在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體朝向述磁體環(huán)一端的內(nèi)緣，使所述導(dǎo)體環(huán)套于所述磁體環(huán)的外側(cè)，二者之間存在氣隙；

19、所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)旋轉(zhuǎn)時(shí)，與所述磁體環(huán)之間無(wú)接觸。

20、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)還包括脹鍵和反推環(huán)，二者設(shè)置在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)的一端；

21、所述反推環(huán)設(shè)置于外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體內(nèi)部，且所述反推環(huán)與所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體之間設(shè)置有彈簧，所述反推環(huán)在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體內(nèi)沿芯軸的軸向活動(dòng)；

22、所述脹鍵設(shè)置于所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體內(nèi)，且所述脹鍵可以伸出所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體；

23、所述脹鍵的底部與所述反推環(huán)接觸，所述反推環(huán)與所述脹鍵相互接觸部位均呈斜面，所述彈簧在不施加外力的時(shí)候，推動(dòng)所述反推環(huán)，使所述脹鍵頂出。

24、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案：所述芯軸上還設(shè)置活塞組件，所述活塞組件設(shè)置于兩個(gè)所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)之間；

25、所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)上設(shè)置所述脹鍵和所述反推環(huán)的一端朝向所述活塞組件。

26、作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案：所述活塞組件包括活塞架和若干活塞；

27、所述活塞架呈環(huán)狀設(shè)置于所述芯軸上，所述活塞設(shè)置在所述活塞架上的孔內(nèi)；

28、所述活塞的運(yùn)動(dòng)方向朝向所述活塞組件兩側(cè)的所述反推環(huán)。

29、上述芯軸布磁結(jié)構(gòu)采用了將磁體環(huán)設(shè)置在芯軸上的做法，解決了傳統(tǒng)滑差機(jī)構(gòu)在體積限制的前提下，達(dá)不到較大收卷力的問(wèn)題；上述的滑差機(jī)構(gòu)由于采用了該芯軸布磁機(jī)構(gòu)，同時(shí)具備了小體積和大收卷力的優(yōu)勢(shì)。

技術(shù)特征：

1.一種芯軸布磁結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括芯軸(100)，在所述芯軸(100)上設(shè)置若干磁體環(huán)(110)，若干所述磁體環(huán)(110)之間等距；

2.如權(quán)利要求1所述的芯軸布磁結(jié)構(gòu)，其特征在于：

3.如權(quán)利要求2所述的芯軸布磁結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述芯軸(100)上包括若干個(gè)環(huán)狀槽(120)；

4.如權(quán)利要求3所述的芯軸布磁結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述磁體環(huán)(110)的外圓周面突出于所述芯軸(100)的外圓周面；

5.一種滑差機(jī)構(gòu)，其特征在于：包括權(quán)利要求1-3中任一所述的芯軸布磁結(jié)構(gòu)；

6.如權(quán)利要求5所述的滑差機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)(200)還包括外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體(220)，所述導(dǎo)體環(huán)(210)設(shè)置在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體(220)朝向述磁體環(huán)(110)一端的內(nèi)緣，使所述導(dǎo)體環(huán)(210)套于所述磁體環(huán)(110)的外側(cè)，二者之間存在氣隙；

7.如權(quán)利要求5所述的滑差機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)(200)還包括脹鍵(230)和反推環(huán)(240)，二者設(shè)置在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)(200)的一端；

8.如權(quán)利要求7所述的滑差機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述芯軸(100)上還設(shè)置活塞組件(300)，所述活塞組件(300)設(shè)置于兩個(gè)所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)(200)之間；

9.如權(quán)利要求8所述的滑差機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述活塞組件(300)包括活塞架(310)和若干活塞(320)；

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種芯軸布磁結(jié)構(gòu)，包括芯軸，在所述芯軸上設(shè)置若干磁體環(huán)，若干所述磁體環(huán)之間等距；所述磁體環(huán)固定在所述芯軸上，且二者的旋轉(zhuǎn)軸重合；所述磁體環(huán)包括磁體支架和磁體，所述磁體有若干個(gè)；所述磁體支架固定在所述芯軸上，所述磁體固定在所述磁體支架上。本技術(shù)還提供了一種滑差機(jī)構(gòu)，包括前述的芯軸布磁結(jié)構(gòu)；還包括若干個(gè)外旋轉(zhuǎn)環(huán)，每?jī)蓚€(gè)相鄰的所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)的設(shè)置方向相反，呈軸向鏡射對(duì)稱；每?jī)蓚€(gè)外旋轉(zhuǎn)環(huán)和一個(gè)所述磁體環(huán)為一組，所述磁體環(huán)位于這兩個(gè)所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)之間；所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)包括導(dǎo)體環(huán)，在同一組中，兩個(gè)所述導(dǎo)體環(huán)與同一個(gè)所述磁體環(huán)呈徑向相對(duì)設(shè)置；所述導(dǎo)體環(huán)與所述磁體環(huán)發(fā)生相對(duì)旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述導(dǎo)體環(huán)內(nèi)部產(chǎn)生傅科電流。

技術(shù)研發(fā)人員：周君,霍宏偉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市佳得設(shè)備科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240321
技術(shù)公布日：2024/11/14