本技術屬于hjt(異質結)硅片配套輔助，具體涉及一種改善hjt返工片微晶殘留的裝置。

背景技術：

1、cvd(化學氣相沉積)返工片在槽體清洗后表面會漂浮一層微晶，在將清洗完成后的硅片從槽內提起時，漂浮的微晶會再次附著在硅片上，對硅片進行再次污染，影響后續(xù)硅片加工良率?，F(xiàn)目前清洗后漂浮物會一直聚集在液面，無法消散及排出，亟待對清洗方式進行優(yōu)化處理。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于：提供了一種改善hjt返工片微晶殘留的裝置，解決了清洗槽液面漂浮微晶再次造成污染的問題。

2、本實用新型的目的通過下述技術方案來實現(xiàn)：

3、一種改善hjt返工片微晶殘留的裝置，包括上開口的清洗槽，清洗槽的上部設有溢流口，溢流口與溢流管路連通，溢流管路上設有管閥和濾芯組件，溢流管路與循環(huán)泵連通，循環(huán)泵與回流管路連通，清洗槽的下部設有回流口，回流管路與回流口連通。

4、進一步的，所述的清洗槽為長方體結構。

5、進一步的，所述的溢流口包括第一溢流口和第二溢流口，第一溢流口和第二溢流口位于清洗槽的同一側。

6、進一步的，所述的第一溢流口和第二溢流口分別位于清洗槽同一側的兩端。

7、進一步的，所述的管閥為氣動閥。

8、進一步的，所述的循環(huán)泵為隔膜泵。

9、進一步的，所述的回流口包括第一回流口和第二回流口，第一回流口和第二回流口位于清洗槽的同一側。

10、進一步的，所述的第一回流口和第二回流口均位于清洗槽同一側的中部。

11、進一步的，所述的清洗槽內設有花籃支架和均流板，花籃支架相對布置，相對的花籃支架之間布置均流板。

12、進一步的，所述的花籃支架包括沿寬度方向布置的支架桿，支架桿的中部設有弧形內翼，支架桿的兩側設有弧形側翼，支架桿上設有位于內翼與側翼之間的弧形凸起。

13、進一步的，所述的清洗槽、濾芯組件和循環(huán)泵均設在基板上。

14、本實用新型的有益效果：

15、1.簡易的設計原理，不需對原有的清洗槽以及清洗方式進行過多改動，只需在槽外增加管、閥及泵等組件。

16、2.將液面及漂浮微晶排出進行過濾，解決因槽體無循環(huán)導致的微晶漂浮物殘留，保證后續(xù)硅片加工良率。

17、3.傳統(tǒng)清洗槽槽內微晶漂浮聚集，提籃后存在附著至硅片的現(xiàn)象，本裝置減少因為重復清洗浪費的時間和藥液，降低產(chǎn)品報廢風險。

18、前述本實用新型主方案及其各進一步選擇方案可以自由組合以形成多個方案，均為本實用新型可采用并要求保護的方案；并且本實用新型，(各非沖突選擇)選擇之間以及和其他選擇之間也可以自由組合。本領域技術人員在了解本方案后根據(jù)現(xiàn)有技術和公知常識可明了有多種組合，均為本實用新型所要保護的技術方案，在此不做窮舉。

技術特征：

1.一種改善hjt返工片微晶殘留的裝置，包括上開口的清洗槽(1)，其特征在于：所述的清洗槽(1)的上部設有溢流口(2)，溢流口(2)與溢流管路(3)連通，溢流管路(3)上設有管閥(4)和濾芯組件(5)，溢流管路(3)與循環(huán)泵(6)連通，循環(huán)泵(6)與回流管路(7)連通，清洗槽(1)的下部設有回流口(8)，回流管路(7)與回流口(8)連通。

2.根據(jù)權利要求1所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的清洗槽(1)為長方體結構。

3.根據(jù)權利要求1所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的溢流口(2)包括第一溢流口(21)和第二溢流口(22)，第一溢流口(21)和第二溢流口(22)位于清洗槽(1)的同一側。

4.根據(jù)權利要求3所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的第一溢流口(21)和第二溢流口(22)分別位于清洗槽(1)同一側的兩端。

5.根據(jù)權利要求1所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的管閥(4)為氣動閥。

6.根據(jù)權利要求1或5所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的循環(huán)泵(6)為隔膜泵。

7.根據(jù)權利要求1或3或4所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的回流口(8)包括第一回流口(81)和第二回流口(82)，第一回流口(81)和第二回流口(82)位于清洗槽(1)的同一側。

8.根據(jù)權利要求7所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的第一回流口(81)和第二回流口(82)均位于清洗槽(1)同一側的中部。

9.根據(jù)權利要求1所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的清洗槽(1)內設有花籃支架(9)和均流板(10)，花籃支架(9)相對布置，相對的花籃支架(9)之間布置均流板(10)。

10.根據(jù)權利要求9所述的改善hjt返工片微晶殘留的裝置，其特征在于：所述的花籃支架(9)包括沿寬度方向布置的支架桿(91)，支架桿(91)的中部設有弧形內翼(92)，支架桿(91)的兩側設有弧形側翼(93)，支架桿(91)上設有位于內翼與側翼之間的弧形凸起(94)。

技術總結
本技術公開了一種改善HJT返工片微晶殘留的裝置，包括上開口的清洗槽，清洗槽的上部設有溢流口，溢流口與溢流管路連通，溢流管路上設有管閥和濾芯組件，溢流管路與循環(huán)泵連通，循環(huán)泵與回流管路連通，清洗槽的下部設有回流口，回流管路與回流口連通。本技術的有益效果：簡易的設計原理，不需對原有的清洗槽以及清洗方式進行過多改動，只需在槽外增加管、閥及泵等組件；將液面及漂浮微晶排出進行過濾，解決因槽體無循環(huán)導致的微晶漂浮物殘留，保證后續(xù)硅片加工良率；傳統(tǒng)清洗槽槽內微晶漂浮聚集，提籃后存在附著至硅片的現(xiàn)象，本裝置減少因為重復清洗浪費的時間和藥液，降低產(chǎn)品報廢風險。

技術研發(fā)人員：王豪,鄭剛,趙佳民,李紅有,王鴻渝,楊文棟,唐旋
受保護的技術使用者：眉山璉升光伏科技有限公司
技術研發(fā)日：20240428
技術公布日：2024/12/19