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      程控交換機用戶線厚膜保護(hù)器的制作方法

      文檔序號:6818389閱讀:188來源:國知局
      專利名稱:程控交換機用戶線厚膜保護(hù)器的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型屬于電器元件技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種程控交換機用戶線保護(hù)裝置。
      隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,程控交換機的應(yīng)用越來越廣泛,為避免設(shè)備損壞,對程控交換機用戶線的保護(hù)問題也就越來越突出,它要求保護(hù)電路既可耐二級雷擊(即1000V高壓),又要耐市電搭接(即220V交流電)。目前,國內(nèi)外普遍都采用具有激光調(diào)阻的厚膜電路做為程控交換機用戶線的保護(hù)裝置,由于傳統(tǒng)厚膜電路是采用激光修調(diào)的方式來提高厚膜電阻精度的,厚膜電阻上的電流分布不均勻,致使經(jīng)激光調(diào)阻后的電阻存有一定缺陷,在稍高的電壓下容易出現(xiàn)打火現(xiàn)象,影響裝置的工作性能和壽命。
      本實用新型的目的在于對現(xiàn)有技術(shù)加以改進(jìn),從而提供一種結(jié)構(gòu)合理、性能可靠、可對交換機起到良好保護(hù)作用的程控交換機用戶線厚膜保護(hù)器。
      本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的所提供的厚膜保護(hù)器具有一塊陶瓷基片,在陶瓷基片上按雙面并聯(lián)方式印刷有厚膜電阻,在陶瓷基片的一個面上還設(shè)有一只與厚膜電阻串聯(lián)的熱敏電阻,保護(hù)器的合成電阻值為厚膜電阻值與熱敏電阻值之和。
      本實用新型設(shè)計者在設(shè)計厚膜電阻時,打破了傳統(tǒng)的通過激光修調(diào)的方法來提高厚膜電阻精度的設(shè)計思想,采用大面積、雙面并聯(lián)和不調(diào)阻的技術(shù)方案,同時通過精心選擇電阻漿料、嚴(yán)格控制印刷、燒結(jié)工藝和嚴(yán)格與PTC分檔匹配來達(dá)到電阻高精度的要求,這樣就保證了厚膜電阻的完整性,使厚膜電阻上的電流均勻分布,從而增加了厚膜電阻的功率耐量和耐高壓性能。
      以下將結(jié)合附圖對本實用新型內(nèi)容做進(jìn)一步說明。


      圖1是本實用新型一個具體實施例結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
      圖2是圖1結(jié)構(gòu)的正面視圖。
      圖3是本實用新型的電原理圖。
      如圖所示,本實用新型所述的程控交換機用戶線厚膜保護(hù)器內(nèi)包含有一個由厚膜電阻3與熱敏電阻2串聯(lián)組成的保護(hù)電路,厚膜電阻3按雙面并聯(lián)方式印刷在陶瓷基片1的兩面,熱敏電阻2設(shè)在陶瓷基片1的一個單面上并使之與厚膜電阻3串聯(lián)匹配,即使該保護(hù)器的結(jié)構(gòu)原理滿足圖3所示形式,其合成電阻值R為厚膜電阻值R1與熱敏電阻值R2之和。附圖中標(biāo)號4為電阻引腳,實際制作結(jié)構(gòu)中,該保護(hù)器上厚膜電阻引腳間距l(xiāng)1與熱敏電阻引腳間距l(xiāng)2之比為7~8∶4.5~5.5。
      本實用新型所述產(chǎn)品經(jīng)國家有關(guān)部門試驗檢測,各項試驗指標(biāo)全部合格,完全滿足并超過了郵電部K20標(biāo)準(zhǔn),在交換機中起到良好的保護(hù)作用。
      權(quán)利要求1.一種程控交換機用戶線厚膜保護(hù)器,其特征在于具有一塊陶瓷基片(1),在陶瓷基片(1)上按雙面并聯(lián)方式印刷有厚膜電阻(3),在陶瓷基片(1)的一個面上還設(shè)有一只與厚膜電阻(3)串聯(lián)的熱敏電阻(2),保護(hù)器的合成電阻值(R)為厚膜電阻值(R1)與熱敏電阻值(R2)之和。
      2.如權(quán)利要求1所述的程控交換機用戶厚膜保護(hù)器,其特征在于該保護(hù)器上厚膜電阻引腳間距(l1)與熱敏電阻引腳間距(l2)之比為7~8∶4.5~5.5。
      專利摘要一種程控交換機用戶線厚膜保護(hù)器,具有一塊陶瓷基片,在陶瓷基片上按雙面并聯(lián)方式印刷有厚膜電阻,在陶瓷基片的一個面上還設(shè)有與厚膜電阻串聯(lián)的熱敏電阻,保護(hù)器的合成電阻值為厚膜電阻值與熱敏電阻值之和。本實用新型采用大面積、雙面并聯(lián)和不調(diào)阻的技術(shù)方案,保證了厚膜電阻的完整性,使厚膜電阻上的電流均勻分布,增加了厚膜電阻的功率耐量和耐高壓性能,可對程控交換機起到良好的保護(hù)作用。
      文檔編號H01H85/048GK2307364SQ9723986
      公開日1999年2月10日 申請日期1997年9月15日 優(yōu)先權(quán)日1997年9月15日
      發(fā)明者田盤龍, 王社教, 柳會茹, 艾紅梅, 陳偉, 馬小光, 郭菊芳, 王雅玲, 李衛(wèi)東, 賀永紅 申請人:國營第八九五廠
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