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      一種離子束水平聚焦裝置的冷卻機(jī)構(gòu)的制作方法

      文檔序號(hào):8262040閱讀:163來源:國知局
      一種離子束水平聚焦裝置的冷卻機(jī)構(gòu)的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件制造控制系統(tǒng),尤其涉及一種離子束水平聚焦裝置的冷卻機(jī)構(gòu),離子注入機(jī)的水冷系統(tǒng)是去離子水系統(tǒng),其中每個(gè)冷卻環(huán)節(jié)要嚴(yán)格的防銹防止污染去離子水。
      【背景技術(shù)】
      [0002]現(xiàn)有半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù)中,隨著半導(dǎo)體集成電路技術(shù)的發(fā)展,集成度越來越高,電路規(guī)模越來越大,電路中單元器件尺寸越來越小,對(duì)各半導(dǎo)體工藝設(shè)備提出了更高的要求。隨著芯片生產(chǎn)工藝發(fā)展對(duì)低能大束流的離子注入設(shè)備需求旺盛,45nm低能大束流離子注入機(jī)在IC工藝中應(yīng)用非常廣泛,已成為離子注入關(guān)鍵工藝設(shè)備。
      [0003]水平聚焦裝置和垂直聚焦透鏡分別調(diào)節(jié)分析后束流的水平和垂直聚焦?fàn)顟B(tài),提高分析后束流的傳輸效率,并更好地適應(yīng)后續(xù)光路的傳輸,是低能大束流離子注入機(jī)必不可少的關(guān)鍵裝置,其中磁鐵的冷卻是水平聚焦裝置必不可少的環(huán)節(jié),在離子注入機(jī)的高壓環(huán)境中,冷卻水需要極高的水阻值以防止高壓擊穿,一般采用去離子水系統(tǒng),因此冷卻水系統(tǒng)的每一個(gè)環(huán)節(jié)都要有極好的防銹能力防止帶入離子影響水阻值。鐵芯用DT4材質(zhì)極易生銹,本機(jī)構(gòu)就是在這樣的背景下產(chǎn)生的。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明公開了一種離子束水平聚焦裝置的冷卻機(jī)構(gòu),該機(jī)構(gòu)可有良好的水冷卻效果,同時(shí)可以保證不污染去離子水系統(tǒng)。本發(fā)明通過以下方案實(shí)現(xiàn):
      [0005]該裝置包括透鏡磁芯(I),銅管(2),直通接頭(3)。
      [0006]該裝置主要優(yōu)點(diǎn)是采用銅管水冷管道,冷卻效果好同時(shí)不影響去離子水系統(tǒng)。
      【附圖說明】
      [0007]圖1是本發(fā)明的總體結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0008]圖2是本發(fā)明的實(shí)施圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0009]下面結(jié)合附圖的具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步介紹,應(yīng)該理解,這些描述都是說明性的,本發(fā)明不限于此。本發(fā)明的范圍僅由所附權(quán)利要求的范圍所限定。
      [0010]摘要附圖為本裝置的總體結(jié)構(gòu)示意圖,磁芯(I)內(nèi)開兩個(gè)長(zhǎng)孔,一段開深20mm豁口,詳見圖(I);磁芯內(nèi)孔需要嚴(yán)格控制尺寸保證與銅管有0.05_到0.1mm的間隙,這樣方面安裝,同時(shí)冷卻效果也較好。具體實(shí)施時(shí),可將磁芯磁芯(I)切成兩塊半芯軸,兩半芯軸通過銷定位,通過螺釘固定在一起,磁芯(I)與銅管(2)之間涂覆高質(zhì)量的導(dǎo)熱脂,詳見圖2,這樣可方面銅管的安裝及導(dǎo)熱脂的涂覆。
      [0011]本發(fā)明專利的特定實(shí)施例已對(duì)本發(fā)明專利的內(nèi)容做了詳盡說明。對(duì)本領(lǐng)域一般技術(shù)人員而言,在不背離本發(fā)明專利精神的前提下對(duì)它所做的任何顯而易見的改動(dòng),都構(gòu)成對(duì)本發(fā)明專利的侵犯,將承擔(dān)相應(yīng)的法律責(zé)任。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種離子束水平聚焦裝置的冷卻機(jī)構(gòu),離子束水平聚焦裝置主要用于低能大束流離子注入環(huán)節(jié)中的離子水平聚焦,其在使用時(shí)產(chǎn)生的熱量需要該機(jī)構(gòu)來冷卻。該裝置包括透鏡磁芯(1),銅管(2),直通接頭(3)。
      2.權(quán)利要求1的離子束水平聚焦的裝置,其中磁芯(I)開孔尺寸公差需嚴(yán)格確定以保證與銅管有一定的間隙,磁芯(I)與銅管(2)之間涂覆高質(zhì)量的導(dǎo)熱脂。
      3.權(quán)利要求1的離子束水平聚焦的裝置,其中磁芯(I)的一側(cè)有20_深的豁口以便安裝銅管。
      【專利摘要】一種離子束水平聚焦裝置的冷卻機(jī)構(gòu),離子束水平聚焦裝置主要用于低能大束流離子注入環(huán)節(jié)中的離子水平聚焦,其在使用時(shí)產(chǎn)生的熱量需要該機(jī)構(gòu)來冷卻。該裝置包括透鏡磁芯(1),銅管(2),直通接頭(3);其特征在于,其中用銅管(2)作水冷管路具有良好的導(dǎo)熱性能,銅管具有較好的防銹能力,確保該機(jī)構(gòu)不污染去離子水系統(tǒng)。本機(jī)構(gòu)整體結(jié)構(gòu)上緊湊,便于加工實(shí)現(xiàn);用銅管走冷卻水相對(duì)其他方案冷卻效果較好,同時(shí)不污染去離子水系統(tǒng)。
      【IPC分類】H01J37-02, H01J37-317
      【公開號(hào)】CN104576269
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201310507586
      【發(fā)明人】張進(jìn)學(xué)
      【申請(qǐng)人】北京中科信電子裝備有限公司
      【公開日】2015年4月29日
      【申請(qǐng)日】2013年10月24日
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