氣相沉積工藝(Physical vapor deposit1n ;PVD)，即用于顯示器市場的大面積基板上的濺鍍沉積。根據(jù)一些實施例，大面積基板或具有多個大面積基板的各自的載體可具有至少0.67平方米的尺寸。典型地，此尺寸可為約0.67平方米(0.73米X 0.92米-第4.5代)至約8平方米的尺寸，更典型地是約2至約9平方米，或者甚至是高達12平方米。典型地，提供用于本文所描述的實施例所述的結構、裝置(例如是陰極組件)以及方法的基板或載板，如本文中所述是大面積基板。舉例來說，大面積的基板或載板可以是第4.5代，對應的基板尺寸為大約0.67平方米(0.73米X 0.92米)；第5代，對應的基板尺寸為大約1.4平方米(1.1米X 1.3米)；第7.5代，對應的基板尺寸為大約4.29平方米(1.95米X 2.2米)；第8.5代，對應的基板尺寸為大約5.7平方米(2.2米X 2.5米)；或者甚至第10代，對應的基板尺寸為大約8.7平方米(2.85米X 3.05米)?？深愃频貙嵤┥踔粮蟮睦绲?1代及第12代及對應的基板面積。
[0054]鑒于上述內容，描述多個實施例，其中在陰極陣列的至少一對鄰近的陰極中，磁鐵組件在極性方面在陰極之間交替，即，外磁鐵和內磁鐵在一個陰極中形成N-S-N極性布置并在鄰近的陰極中形成S-N-S極性布置。如圖6所示，也可在磁鐵組件之間提供可類似的交替，例如針對一個陰極具有多于一個的磁鐵組件的情況。
[0055]進一步地，可提供多個任選的修改，可以除彼此之外或替代彼此的方式提供所述修改。根據(jù)另外的實施例，至少兩個磁鐵組件為鄰近的磁鐵組件。根據(jù)另一實施例，至少兩個磁鐵組件中的每一者的剖面具有兩個外磁極性及一個內磁極性，其中內磁極性不同于外磁極性。根據(jù)另外的實施例，裝置包括至少三個磁鐵組件。較優(yōu)地，裝置包括至少五個磁鐵組件。根據(jù)另外的實施例，磁鐵組件群組中的至少兩個鄰近的磁鐵組件的相鄰的外磁極性具有相同的磁極性。根據(jù)另外的實施例，具有磁極性相同的相鄰的外磁極性的至少兩個鄰近的磁鐵組件與至少一個磁鐵組件交替，所述至少一個磁鐵組件的外磁極性與所述兩個鄰近的磁鐵組件的所述相鄰外磁極性不同。根據(jù)另外的實施例，磁鐵組件的外磁極性在磁鐵組件之間交替。根據(jù)另一實施例，磁鐵組件對應于一或多個陰極。根據(jù)另外的實施例，每個陰極對應于磁鐵組件中的一者。根據(jù)另外的實施例，兩個相鄰陰極之間的距離使得此兩個相鄰陰極彼此互相作用。較優(yōu)地，兩個相鄰的陰極之間的距離小于500mm。更優(yōu)地，兩個相鄰的陰極之間的距離在300mm與400mm之間。甚至更優(yōu)地，兩個相鄰的陰極之間的距離在235mm與250mm之間。根據(jù)另一實施例，陰極是平面式陰極。較優(yōu)地，裝置包括一個單一平面式陰極。根據(jù)沉積系統(tǒng)的另一實施例，裝置包括具有縱軸的可旋轉陰極。這些縱軸平行設置。根據(jù)沉積系統(tǒng)的另外的實施例，此系統(tǒng)用以涂布濺鍍材料層于基板上。
[0056]盡管上述內容是針對本發(fā)明的實施例，但是可設計出本發(fā)明的其它和進一步實施例而不背離本發(fā)明的基本范圍，且本發(fā)明的范圍由以下權利要求書確定。
【主權項】
1.一種用以涂布濺鍍材料層于基板(12)上的裝置(10 ;166 ;224)，所述裝置(10 ;166 ;224)包括: 至少兩個磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)，其中每個磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)具有外磁極性(64、68、76、78、84、86、92、94、100、102、108、110)及內磁極性(66、80、88、96、104、112)； 其中所述至少兩個磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)中的一者的所述外磁極性不同于所述至少兩個磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)中的另一者的相鄰的外磁極性。
2.如權利要求1所述的裝置，其中所述至少兩個磁鐵組件出0、74、82、90、98、106)是鄰近的磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)。
3.如權利要求1至2中任一項項所述的裝置，其中所述至少兩個磁鐵組件(60、74、82、90,98,106)中的每一者的剖面具有兩個外磁極性(64、68、76、78、84、86、92、94、100、102、108、110)和一個內磁極性(66、80、88、96、104、112)，其中所述內磁極性不同于所述外磁極性。
4.如權利要求1至3中任一項所述的裝置，其中所述裝置(10；166 ；224)包括至少三個、較優(yōu)地至少五個磁鐵組件出0、74、82、90、98、106)。
5.如權利要求4所述的裝置，其中磁鐵組件的群組中的至少兩個鄰近的磁鐵組件的相鄰的外磁極性具有相同的磁極性。
6.如權利要求5項所述的裝置，其中具有磁極性相同的相鄰的外磁極性的至少兩個鄰近的磁鐵組件與至少一個磁鐵組件交替，所述至少一個磁鐵組件的外磁極性與所述至少兩個鄰近的磁鐵組件的所述相鄰的外磁極性不同。
7.如權利要求1至4中任一項所述的裝置，其中所述磁鐵組件(60、74、82、90、98、106；216,218,220)的所述外磁極性在磁鐵組件(60、74、82、90、98、106 ;216、218、220)之間交替。
8.如權利要求1至7項中任一項所述的裝置，其中所述磁鐵組件(60、74、82、90、98、106 ;216、218、220)對應于一或多個陰極(16、18、20、22、24、26 ；222)。
9.如權利要求8所述的裝置，其中所述陰極(16、18、20、22、24、26)為可旋轉陰極。
10.如權利要求8至9中任一項所述的裝置，其中每個陰極(16、18、20、22、24、26；222)對應于所述磁鐵組件(60、74、82、90、98、106 ;216、218、220)的一者。
11.如權利要求8至10中任一項所述的裝置，其中兩個相鄰陰極(16、18、20、22、24、26)之間的距離(246)是使得所述兩個相鄰陰極(16、18、20、22、24、26)彼此互相作用的距離，較優(yōu)地兩個相鄰陰極之間的所述距離小于500mm，更優(yōu)地介于300mm與400mm之間，甚至更優(yōu)地介于235mm與250mm之間。
12.如權利要求8所述的裝置，其中所述陰極為平面式陰極(222)，較優(yōu)地所述裝置(224)包括一個單一平面式陰極。
13.一種沉積系統(tǒng)(14)，所述沉積系統(tǒng)包括:如權利要求1至12中任一項所述的裝置(10 ；166 ；224);以及用以容置所述裝置(10 ；166 ；224)的處理室(42)。
14.如權利要求13所述的沉積系統(tǒng)，其中所述裝置為如權利要求8至11中任一項所述的裝置(10 ；166 ;224)，且其中所述陰極(16、18、20、22、24、26)具有彼此平行設置的縱軸(114、116、118、120、122、124)。
15.如權利要求13至14中任一項所述的沉積系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)是用以涂布濺鍍材料層于基板(12)上的系統(tǒng)(14) ο
【專利摘要】本發(fā)明描述了一種用以涂布濺鍍材料層于基板(12)上的裝置(10；166；224)。所述裝置(10；166；224)包括至少兩個磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)，其中每個磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)具有外磁極性及內磁極性。所述至少兩個磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)中的一者的外磁極性不同于所述至少兩個磁鐵組件(60、74、82、90、98、106)中的另一者的相鄰的外磁極性。并且，本發(fā)明描述了一種沉積系統(tǒng)(14)，所述沉積系統(tǒng)包括所述裝置(10；166；224)。
【IPC分類】C23C14-35, H01J37-34
【公開號】CN104704603
【申請?zhí)枴緾N201280075041
【發(fā)明人】A·克勒佩爾, M·哈尼卡, E·謝爾, K·施沃恩特茲, F·皮耶拉利西, J·劉
【申請人】應用材料公司
【公開日】2015年6月10日
【申請日】2012年7月2日
【公告號】EP2867916A1, WO2014005617A1