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      電子元器件多層復(fù)合金屬電極及其制備工藝的制作方法

      文檔序號:9598945閱讀:478來源:國知局
      電子元器件多層復(fù)合金屬電極及其制備工藝的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及電子組件領(lǐng)域,尤其是一種電子元器件多層復(fù)合金屬電極及其制備工 -H- 〇
      【背景技術(shù)】
      [0002] 壓敏電阻是由在電子級ZnO粉末基料中摻入少量的電子級Bi203、C〇 203、Μη02、 513203、110 2、(>203、附203等多種添加劑,經(jīng)混合、成型、燒結(jié)等工藝過程制成的精細(xì)電子陶瓷; 它具有電阻值對外加電壓敏感變化的特性,主要用于感知、限制電路中可能出現(xiàn)的各種瞬 態(tài)過電壓、吸收浪涌能量。
      [0003] 為了降低壓敏電阻的制造成本,提升壓敏電阻制造工藝水準(zhǔn),目前在電極制造工 藝方面一直投入較多的人、財、物進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新,取得了一系列創(chuàng)新成果,相關(guān)的過往成果 列舉如下:
      [0004] 1.申請?zhí)枮?01110140236. 1,發(fā)明名稱為"銅電極氧化鋅壓敏電阻器及其制備方 法",公開了無氧氣氛下,采用隧道鏈?zhǔn)綘t,燒滲賤金屬電極的工藝;
      [0005] 2.申請?zhí)枮?015101584847,發(fā)明名稱為"電子元器件多層合金電極及其制備方 法",公開了采用雙層復(fù)合電極制作電子元器件電極的一種制備方法,其中第一層采用賤金 屬粉末制漿,印刷工藝涂覆,第二層采用熱噴涂工藝直接噴涂Cu合金材料。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006] 本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是:提出一種電子元器件多層復(fù)合金屬電極及其制備工 藝,替代傳統(tǒng)銀漿印刷工藝,解決電子元器件電極成本問題。
      [0007] 本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為:一種電子元器件多層復(fù)合金屬電極,包括第一復(fù)合 金屬電極層和第二復(fù)合金屬電極層,所述的第一復(fù)合金屬電極層覆蓋在陶瓷基體表面;第 一復(fù)合金屬電極層采用鋁漿通過絲網(wǎng)印刷制作;所述的第二復(fù)合金屬電極層覆蓋于第一復(fù) 合金屬電極層上;所述的第二復(fù)合金屬電極層采用純銅通過熱噴涂工藝覆蓋于第一復(fù)合金 屬電極層上或第二復(fù)合金屬電極層采用磁控濺射工藝制作Cu或Ag為表層的多層復(fù)合電極 覆蓋于第一復(fù)合金屬電極層上。
      [0008] 進(jìn)一步的說,本發(fā)明所述的第二復(fù)合金屬電極層采用磁控濺射工藝制作的多層復(fù) 合電極包括表層的可焊層和底層的連接層;所述的可焊層為Cu或Ag層;所述的連接層為 Ni、Cr、Cu、Zn、V中至少兩種金屬構(gòu)成的復(fù)合層。
      [0009] 再進(jìn)一步的說,本發(fā)明所述的第二復(fù)合金屬電極層采用純銅制作時也可使用表面 鍍有保護(hù)層(如Sn)的純銅來制作。
      [0010] 同時,本發(fā)明還提供了一種制備工藝,包括制備第一復(fù)合金屬電極層和制備第二 復(fù)合金屬電極層;所述的第二復(fù)合金屬電極層覆蓋于第一復(fù)合金屬電極層上;
      [0011] 所述的第一復(fù)合金屬電極層的制備方法包括以下步驟:
      [0012] 1)對陶瓷基體表面進(jìn)行清潔處理;
      [0013] 2)采用鋁漿通過絲網(wǎng)印刷方式覆蓋于陶瓷基體表面;
      [0014] 3)放入燒結(jié)爐內(nèi)進(jìn)行燒滲,依據(jù)玻璃粉軟化點狀況,完成第一復(fù)合金屬電極層的 制備;
      [0015] 所述的第二復(fù)合金屬電極層的制備方法包括以下步驟:
      [0016] A)、采用熱噴涂工藝:將已燒附好的第一復(fù)合金屬層電極層嵌入熱噴涂治具中; 采用Cu金屬絲作為熱噴涂絲,設(shè)定采用電弧或火焰熱噴涂的噴涂參數(shù)在第一復(fù)合金屬層 電極層上噴涂厚度為20 μ m以上的第二層復(fù)合金屬電極層;
      [0017] 或,
      [0018] B)、采用磁控濺射工藝:
      [0019] i)使用Ni、Cr、Cu、Zn、V金屬中的至少兩種金屬構(gòu)成的合金制作的祀材,在第一復(fù) 合金屬層電極層上采用磁控濺射工藝制備連接層;
      [0020] ii)在連接層表面采用Cu和磁控濺射工藝制備可焊層;第二復(fù)合金屬電極層的膜 厚為0. 3~4μπι。
      [0021] 所述的步驟Α)中,Cu金屬絲可以使用純Cu金屬絲也可以使用表面鍍錫的Cu金 屬絲。
      [0022] 電極形狀根據(jù)陶瓷組件形狀,不局限于電極的任何形狀;電子組件形狀可方形,圓 形,橢圓型等;電子元器件為壓敏,氣敏,PTC熱敏,NTC熱敏,壓電陶瓷,陶瓷電容等電子組 件。
      [0023] 本發(fā)明的有益效果是:與傳統(tǒng)Ag電極工藝相比,主要是可以通過增加電極膜層厚 度,來改變電極導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能,從而可以提升電子元器件耐大浪涌電流或多次大浪涌電流 沖擊的能力;通過以Cu或Ag復(fù)合電極層來作為可焊層來增強(qiáng)電子元件對焊錫的抗熔蝕特 性,從而可使用價格便宜的低Ag或無 Ag焊錫;在保證產(chǎn)品電性能前提下,通過使用復(fù)合金 屬電極替代Ag電極工藝從而降低電極制作成本。
      【附圖說明】
      [0024] 下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。
      [0025] 圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0026] 圖2是本發(fā)明的工藝總流程圖;
      [0027] 圖中:1、陶瓷基體;21、第一復(fù)合金屬電極層;22、第二復(fù)合金屬電極;3、引腳;4、 絕緣層。
      【具體實施方式】
      [0028] 現(xiàn)在結(jié)合附圖和優(yōu)選實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡化的 示意圖,僅以示意方式說明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu),因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。
      [0029] 如圖1所示的一種電子元器件,以壓敏電阻為例,工藝流程如圖2所示,含有配料, 噴霧造粒,干壓成型,燒成陶瓷,陶瓷表面絲網(wǎng)印刷,第二層復(fù)合金屬電極制作,焊接,絕緣 材料包封、固化。
      [0030] 以下實施例采用直徑14mm,厚度I. 8mm,型號為14471的壓敏電阻為例。
      [0031] 實施例:
      [0032] 第一層復(fù)合金屬電極層制作步驟:
      [0033] 1)對陶瓷基體表面進(jìn)行清潔處理;
      [0034] 2)使用鋁漿通過絲網(wǎng)印刷方式將上述導(dǎo)電膠覆蓋于陶瓷基體1上;
      [0035] 3)將已印刷完成電極之芯片放入燒結(jié)爐內(nèi)進(jìn)行燒滲,依據(jù)玻璃粉軟化點狀況,一 般燒滲溫度在500~750°C之間選擇,從而完成第一復(fù)合金屬電極層21制備。
      [0036] 第二層合金電極層制作步驟:
      [0037] 1.熱噴涂工藝
      [0038] 將已燒附好第一復(fù)合金屬層電極的基片嵌入熱噴涂治具中;
      [0039] 采用Cu金屬絲或鍍錫Cu金屬絲作為熱噴涂絲,設(shè)定電弧熱噴涂的噴涂參數(shù),依據(jù) 產(chǎn)品規(guī)格要求噴涂厚度為20 μπι以上的第二層復(fù)合金屬電極層。
      [0040] 2.磁控濺射工藝
      [0041] 采用已燒附好第一金屬層材料的基片,使用Ni、Cr、Cu、Ζη、V金屬中的至少兩種 金屬構(gòu)成的合金制作的靶材,在第一復(fù)合金屬層電極層上采用磁控濺射工藝制備連接層; 在連接層表面采用Cu或Ag通過磁控濺射工藝制備可焊層;依規(guī)格要求制作膜厚為0. 3~ 4 μπι之間的第二復(fù)合金屬電極層22。
      [0042] 將第二復(fù)合金屬電極與引腳3焊接,焊接品經(jīng)環(huán)氧樹脂/有機(jī)硅樹脂或酚醛等絕 緣層4材料進(jìn)行包封,測試電氣特性。
      [0043] 如下表,從電極材料特性方面,比較傳統(tǒng)Ag電極與此新型復(fù)合電極在電極導(dǎo)熱、 導(dǎo)電效果方面的差異;
      [0045] 如下表,比較傳統(tǒng)印銀電極工藝與此案實施例工藝制作之產(chǎn)品各項主要性能差異 如下表:
      [0046]
      [0047] 從實施例對比表中可以得出結(jié)論,與傳統(tǒng)印刷銀電極結(jié)構(gòu)相比,此新工藝采用廉 價的Cu、Al為主的復(fù)合金屬電極制作的產(chǎn)品,主要電性能可維持不變,且具有更優(yōu)的大電 流沖擊能力,組合波能力可以達(dá)到傳統(tǒng)Ag電極的2倍以上。
      [0048] 以上說明書中描述的只是本發(fā)明的【具體實施方式】,各種舉例說明不對本發(fā)明的實 質(zhì)內(nèi)容構(gòu)成限制,所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在閱讀了說明書后可以對以前所述的具體 實施方式做修改或變形,而不背離本發(fā)明的實質(zhì)和范圍。
      【主權(quán)項】
      1. 一種電子元器件多層復(fù)合金屬電極,包括第一復(fù)合金屬電極層和第二復(fù)合金屬電極 層,其特征在于:所述的第一復(fù)合金屬電極層覆蓋在陶瓷基體表面;第一復(fù)合金屬電極層 采用鋁漿通過絲網(wǎng)印刷制作;所述的第二復(fù)合金屬電極層覆蓋于第一復(fù)合金屬電極層上; 所述的第二復(fù)合金屬電極層采用純銅通過熱噴涂工藝覆蓋于第一復(fù)合金屬電極層上或第 二復(fù)合金屬電極層采用磁控濺射工藝制作Cu或Ag為表層的多層復(fù)合電極覆蓋于第一復(fù)合 金屬電極層上。2. 如權(quán)利要求1所述的電子元器件多層復(fù)合金屬電極,其特征在于:所述的第二復(fù)合 金屬電極層采用磁控濺射工藝制作的多層復(fù)合電極包括表層的可焊層和底層的連接層;所 述的可焊層為Cu或Ag層;所述的連接層為Ni、Cr、Cu、Zn、V中至少兩種金屬構(gòu)成的復(fù)合 層。3. 如權(quán)利要求1所述的電子元器件多層復(fù)合金屬電極,其特征在于:所述的第二復(fù)合 金屬電極層通過熱噴涂工藝覆蓋于第一復(fù)合金屬電極層上時采用Cu金屬絲或表面鍍有保 護(hù)層的Cu金屬絲。4. 一種如權(quán)利要求1所述的電子元器件多層復(fù)合金屬電極制備工藝,其特征在于:包 括制備第一復(fù)合金屬電極層和制備第二復(fù)合金屬電極層;所述的第二復(fù)合金屬電極層覆蓋 于第一復(fù)合金屬電極層上; 所述的第一復(fù)合金屬電極層的制備方法包括以下步驟: 1) 對陶瓷基體表面進(jìn)行清潔處理; 2) 采用鋁漿通過絲網(wǎng)印刷方式覆蓋于陶瓷基體表面; 3) 放入燒結(jié)爐內(nèi)進(jìn)行燒滲,依據(jù)玻璃粉軟化點狀況,完成第一復(fù)合金屬電極層的制 備; 所述的第二復(fù)合金屬電極層的制備方法包括以下步驟: A) 、采用熱噴涂工藝:將已燒附好的第一復(fù)合金屬層電極層嵌入熱噴涂治具中;采用 Cu金屬絲作為熱噴涂絲,設(shè)定采用電弧或火焰熱噴涂的噴涂參數(shù)在第一復(fù)合金屬層電極層 上噴涂厚度為20μm以上的第二層復(fù)合金屬電極層; 或, B) 、采用磁控濺射工藝: i) 使用Ni、Cr、Cu、Zn、V金屬中的至少兩種金屬構(gòu)成的合金制作的祀材,在第一復(fù)合金 屬層電極層上采用磁控濺射工藝制備連接層; ii) 在連接層表面采用Cu或Ag制作靶材,通過磁控濺射工藝制備可焊層;第二復(fù)合金 屬電極層的膜厚為〇. 3~4μπι。5. -種如權(quán)利要求4所述的制備工藝,其特征在于:所述的步驟Α)中,Cu金屬絲為純 Cu金屬絲或表面鍍有保護(hù)層的Cu金屬絲。
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種電子元器件多層復(fù)合金屬電極及其制備工藝,包括第一復(fù)合金屬電極層與第二復(fù)合金屬電極層,第一復(fù)合金屬電極層采用鋁漿絲網(wǎng)印刷工藝制作,作為陶瓷與電極結(jié)合層和導(dǎo)電導(dǎo)熱層;第二復(fù)合金屬電極層采用Cu金屬絲通過熱噴涂工藝制作或采用Cu或Ag為表層的多層復(fù)合電極通過磁控濺射工藝制作。本發(fā)明在保證產(chǎn)品電性能前提下,通過使用復(fù)合金屬電極替代Ag電極工藝,提升了電子元器件耐大浪涌電流或多次大浪涌電流沖擊的能力,通過以Cu或Ag復(fù)合電極層作為可焊層來增強(qiáng)電子元件對焊錫的抗熔蝕特性,從而可使用價格便宜的低Ag或無Ag焊錫,降低了電極制作成本。
      【IPC分類】H01C1/14, H01C17/28, H01C7/10, H01C1/142
      【公開號】CN105355348
      【申請?zhí)枴緾N201510852675
      【發(fā)明人】黃任亨, 李曉樂, 張世開
      【申請人】興勤(常州)電子有限公司
      【公開日】2016年2月24日
      【申請日】2015年11月30日
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