隨控制。
[0178]另外，在上述實(shí)施方式中，將第二載臺(tái)構(gòu)件42設(shè)于晶圓載臺(tái)WST的+X側(cè)面，但是并不限于此，設(shè)于晶圓載臺(tái)WST的哪個(gè)側(cè)面都可以，也可以在例如晶圓載臺(tái)WST的中央部形成空間并設(shè)于該空間內(nèi)。另外，第二載臺(tái)構(gòu)件42不必須是一個(gè)，也可以設(shè)置多個(gè)(例如兩個(gè))。
[0179]另外，在上述實(shí)施方式中，針對(duì)曝光裝置是不利用液體(水)而對(duì)晶圓W進(jìn)行曝光的干式的曝光裝置的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但是并不限于此，當(dāng)然也可以將上述實(shí)施方式應(yīng)用于經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)和液體來(lái)對(duì)晶圓進(jìn)行曝光的浸液型的曝光裝置。
[0180]此外，在上述實(shí)施方式中，針對(duì)曝光裝置是掃描步進(jìn)機(jī)的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但是并不限于此，也可以將上述實(shí)施方式應(yīng)用于步進(jìn)機(jī)等靜止型曝光裝置。另外，上述實(shí)施方式還能夠應(yīng)用于將照射區(qū)域與照射區(qū)域合成的步進(jìn)-拼接方式的縮小投影曝光裝置。
[0181]另外，上述實(shí)施方式的投影曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)不僅可以是縮小系統(tǒng)，而且還可以是等倍以及放大系統(tǒng)中的任一種，投影光學(xué)系統(tǒng)不僅可以是折射系統(tǒng)，而且還可以是反射系統(tǒng)以及反射折射系統(tǒng)中的任一種，該投影像可以是倒立像以及正立像中的任一種。
[0182]另外，照明光IL不限于ArF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)，也可以是KrF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)248nm)等紫外光或者F2激光(波長(zhǎng)157nm)等真空紫外光。也可以例如美國(guó)專利第7023610號(hào)說(shuō)明書(shū)中披露的那樣，使用如下的高諧波，該高諧波作為真空紫外光，利用摻雜有鉺(或者鉺和鐿雙方)的光纖放大器將由DFB半導(dǎo)體激光器或者光纖激光器振蕩出的紅外區(qū)域或者可視區(qū)域的單一波長(zhǎng)激光放大，并使用非線性光學(xué)晶體波長(zhǎng)變換成紫外光。
[0183]另外，在上述實(shí)施方式中，作為曝光裝置的照明光IL不限于波長(zhǎng)10nm以上的光，當(dāng)然也可以使用波長(zhǎng)不滿10nm的光。例如，也能夠?qū)⑸鲜鰧?shí)施方式應(yīng)用于使用軟X線區(qū)域(例如5?15nm的波長(zhǎng)區(qū)域)的EUV(Extreme Ultrav1let:極紫外線)光的EUV曝光裝置。另夕卜，上述實(shí)施方式也能夠應(yīng)用于使用電子束或者離子束等帶電粒子束的曝光裝置。
[0184]另外，在上述實(shí)施方式中，使用在光透射性的基板上形成有規(guī)定的遮光圖案(或者相位圖案、減光圖案)的光透射型光罩(標(biāo)線片)，但是也可以使用電子光罩代替該標(biāo)線片，該電子光罩例如美國(guó)專利第6778257號(hào)說(shuō)明書(shū)中披露的那樣，是基于應(yīng)曝光的圖案的電子數(shù)據(jù)，形成透射圖案或者反射圖案或者發(fā)光圖案的電子光罩(也稱為可變形光罩、主動(dòng)式光罩、或者圖像生成器，包括例如作為不發(fā)光型圖像顯示元件(空間光調(diào)制器)的一種的DMD(Digital Micro-mirror Device:數(shù)字微鏡器件)等)。
[0185]另外，也能夠?qū)⑸鲜鰧?shí)施方式應(yīng)用于例如國(guó)際公開(kāi)第2001/035168號(hào)所披露的那種曝光裝置(光刻系統(tǒng))，該曝光裝置(光刻系統(tǒng))通過(guò)在晶圓W上形成干涉條紋，來(lái)在晶圓W上形成線-間隔圖案。
[0186]還能夠?qū)⑸鲜鰧?shí)施方式應(yīng)用于例如美國(guó)專利第6611316號(hào)說(shuō)明書(shū)中披露的那種曝光裝置，該曝光裝置利用投影光學(xué)系統(tǒng)在晶圓上合成兩個(gè)標(biāo)線片圖案，通過(guò)一次掃描曝光，來(lái)幾乎同時(shí)對(duì)晶圓上的一個(gè)照射區(qū)域進(jìn)行雙重曝光。
[0187]此外，在上述實(shí)施方式中應(yīng)形成圖案的物體(被能量束照射的作為曝光對(duì)象的物體)并不限于晶圓，也可以是玻璃板、陶瓷基板、薄膜構(gòu)件或者空白光罩板等其他的物體。
[0188]作為曝光裝置的用途并不限定于半導(dǎo)體制造用的曝光裝置，也能夠廣泛地應(yīng)用于例如將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印至方形的玻璃板的液晶用的曝光裝置或者用于制造有機(jī)EL、薄膜磁頭、攝像元件(CCD等)、微型機(jī)器以及DNA芯片等的曝光裝置。另外，上述實(shí)施方式不僅能夠應(yīng)用于為了制造半導(dǎo)體元件等微型器件的曝光裝置，而且也能夠應(yīng)用于為了制造光曝光裝置、EUV曝光裝置、X線曝光裝置以及電子束曝光裝置等所使用的標(biāo)線片或者光罩，而將電路圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板或者硅晶圓等上的曝光裝置。
[0189]此外，援引在目前為止的說(shuō)明中引用的與曝光裝置等有關(guān)的全部公報(bào)、國(guó)際公開(kāi)、美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)說(shuō)明書(shū)以及美國(guó)專利說(shuō)明書(shū)的披露來(lái)作為本說(shuō)明書(shū)的記載的一部分。
[0190]半導(dǎo)體元件等電子器件是通過(guò)以下這些步驟制造的:器件的功能、性能設(shè)計(jì)的步驟、基于該設(shè)計(jì)步驟的制作標(biāo)線片的步驟、利用硅材料制作晶圓的步驟、通過(guò)上述實(shí)施方式的曝光裝置(圖案形成裝置)以及該曝光方法來(lái)將光罩(標(biāo)線片)的圖案轉(zhuǎn)印至晶圓的光刻步驟、使曝光后的晶圓顯影的顯影步驟、通過(guò)刻蝕去掉除了保留抗蝕劑的部分以外的部分的露出構(gòu)件的刻蝕步驟、去掉刻蝕結(jié)束后不再需要的抗蝕劑的去除抗蝕劑步驟、器件組裝步驟(包括切割工序、結(jié)合工序、封裝工序)、以及檢查步驟等。在這種情況下，在光刻步驟中，由于使用上述實(shí)施方式的曝光裝置來(lái)實(shí)施上述的曝光方法，在晶圓上形成器件圖案，所以能夠以較高的生產(chǎn)性制造高集成度的器件。
[0191]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0192]如以上說(shuō)明的那樣，本發(fā)明的移動(dòng)體裝置適用于抑制保持物體的保持構(gòu)件的變形并使物體高精度地移動(dòng)。另外，本發(fā)明的曝光裝置適用于曝光物體。另外，本發(fā)明的器件制造方法適用于制造微型器件。
[0193]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0194]10曝光裝置，12底盤，17線圈，18永磁鐵，19第二載臺(tái)測(cè)量系統(tǒng)，20主控制裝置，22滑塊，23!?233桿構(gòu)件，24!?243桿構(gòu)件，25支承構(gòu)件，25c緣部，26框架，27桿狀部，28X框架構(gòu)件，29連結(jié)構(gòu)件，31管，42第二載臺(tái)構(gòu)件，51A晶圓載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(平面電機(jī))，58制冷劑供給裝置，59第一控制系統(tǒng)，61第二基座，70位置測(cè)量系統(tǒng)，73編碼器系統(tǒng)，73Χι X讀頭(X編碼器)，73Y Y讀頭(Y編碼器)，74Xi X標(biāo)尺，74Y Y標(biāo)尺，78干涉儀系統(tǒng)，85載臺(tái)裝置，100第一雙自由度控制系統(tǒng)，102第一平面電機(jī)FF控制部，103平面電機(jī)FB控制部，140上下可動(dòng)銷，142驅(qū)動(dòng)裝置，150晶圓中央支承構(gòu)件，200第二雙自由度控制系統(tǒng)，202 VCMFF控制部，203VCMFB控制部，500第二平面電機(jī)FF控制部，IL照明光，1P照明系統(tǒng)，PL投影光學(xué)系統(tǒng)，Mb音圈電機(jī)，TC管載體，W晶圓，WST晶圓載臺(tái)，WTB晶圓臺(tái)。
[0195]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0196]專利文獻(xiàn)
[0197]專利文獻(xiàn)1:國(guó)際公開(kāi)第2011/040642號(hào)
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種移動(dòng)體裝置，其能夠使由保持構(gòu)件保持的物體移動(dòng)，其特征在于，具有: 基座構(gòu)件； 支承構(gòu)件，其與所述基座構(gòu)件連接，并支承所述保持構(gòu)件；以及 減振部，其配置在所述基座構(gòu)件與所述保持構(gòu)件之間，抑制所述支承構(gòu)件的振動(dòng)。2.如權(quán)利要求1所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述支承構(gòu)件經(jīng)由與所述基座構(gòu)件連接的多個(gè)桿構(gòu)件動(dòng)態(tài)地支承。3.如權(quán)利要求1或者2所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述保持構(gòu)件固定于所述支承構(gòu)件， 所述減振部設(shè)于所述支承構(gòu)件與所述基座構(gòu)件之間。4.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 具有移動(dòng)體，該移動(dòng)體包含所述基座構(gòu)件、所述支承構(gòu)件、所述保持構(gòu)件以及所述減振部，并能夠在6個(gè)自由度方向上移動(dòng)，該6個(gè)自由度方向包括在包含彼此正交的第一軸以及第二軸的規(guī)定平面內(nèi)的3個(gè)自由度方向。5.如權(quán)利要求4所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述基座構(gòu)件具有框架構(gòu)件，該框架構(gòu)件連接于與連接有所述桿構(gòu)件的位置不同的位置， 所述減振部設(shè)于所述框架構(gòu)件與所述支承構(gòu)件之間。6.如權(quán)利要求5所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述支承構(gòu)件具有隔著規(guī)定的間隙與所述框架構(gòu)件的至少一部分相對(duì)的相對(duì)部， 所述減振部形成于所述相對(duì)部與所述框架構(gòu)件之間。7.如權(quán)利要求5或6所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述框架構(gòu)件與所述支承構(gòu)件彼此不接觸，所述框架構(gòu)件和所述支承構(gòu)件中的一個(gè)構(gòu)件的一部分容置于另一個(gè)構(gòu)件中。8.如權(quán)利要求5?7中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述框架構(gòu)件具有十字形的第一部分和一對(duì)第二部分，所述第一部分包含與沿著所述第一軸的第一方向以及沿著所述第二軸的第二方向均交叉的4個(gè)桿狀部，所述一對(duì)第二部分分別將該第一部分的4個(gè)端部中的兩個(gè)端部彼此以及剩余的兩個(gè)端部彼此連結(jié)， 在所述第一部分的所述4個(gè)端部與所述基座構(gòu)件連接。9.如權(quán)利要求5?8中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述減振部利用通過(guò)存在于所述框架構(gòu)件與所述支承構(gòu)件之間的流體的流動(dòng)以及壓縮中的至少一種方式所產(chǎn)生的力，使所述支承構(gòu)件的振動(dòng)衰減。10.如權(quán)利要求9所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述減振部具有壓膜阻尼器。11.如權(quán)利要求10所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述壓膜阻尼器至少在與所述第一軸平行的第一方向上彼此分離地配置有多個(gè)。12.如權(quán)利要求4?11中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述桿構(gòu)件為6根，在所述規(guī)定平面內(nèi)，在與所述第二軸平行的第二方向上的一側(cè)以及另一側(cè)分別各配置有3根，各側(cè)的3根桿構(gòu)件中有2根桿構(gòu)件與所述第二方向平行地配置，剩余的1根桿構(gòu)件與所述2根桿構(gòu)件中的1個(gè)交叉地配置。13.如權(quán)利要求12所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述6根桿構(gòu)件以至少2根桿構(gòu)件交叉的狀態(tài)配置。14.如權(quán)利要求8所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于，還具有: 物體支承構(gòu)件，其設(shè)于所述第一部分的上表面，并支承所述物體；以及物體支承構(gòu)件驅(qū)動(dòng)裝置，其在第一位置與第二位置之間，在與所述規(guī)定平面正交的方向上驅(qū)動(dòng)所述物體支承構(gòu)件，該第一位置是所述物體與所述保持構(gòu)件的載置所述物體的面抵接的位置，該第二位置是所述物體與所述保持構(gòu)件的載置所述物體的面分離的位置。15.如權(quán)利要求4?14中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 還具有驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體的平面電機(jī)； 所述平面電機(jī)具有: 磁鐵單元，其包含設(shè)于所述基座構(gòu)件的下表面的多個(gè)永磁鐵；以及 線圈單元，其包含能夠相對(duì)于所述磁鐵單元移動(dòng)且沿著所述規(guī)定平面配置的多個(gè)線圈。16.如權(quán)利要求4?15中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 還具有與形成于所述基座構(gòu)件的內(nèi)部的流路連接的制冷劑供給裝置。17.如權(quán)利要求4?16中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 連接有用于從外部向所述移動(dòng)體供給所需能量的管構(gòu)件的中間部的一部分， 還具有移動(dòng)構(gòu)件，該移動(dòng)構(gòu)件能夠在所述基座構(gòu)件上相對(duì)于該基座構(gòu)件至少在所述6個(gè)自由度方向中的包括在所述規(guī)定平面內(nèi)彼此正交的兩個(gè)方向在內(nèi)的規(guī)定的移動(dòng)方向上進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。18.如權(quán)利要求17所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 還具有: 驅(qū)動(dòng)裝置，其相對(duì)于所述移動(dòng)體向所述移動(dòng)方向驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)構(gòu)件； 第一測(cè)量系統(tǒng)，其測(cè)量所述移動(dòng)構(gòu)件相對(duì)于所述移動(dòng)體的在所述移動(dòng)方向上的位置；以及 控制系統(tǒng)，其基于所述第一測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量結(jié)果，控制所述第二驅(qū)動(dòng)裝置。19.如權(quán)利要求18所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 還具有測(cè)量所述移動(dòng)體在所述6個(gè)自由度方向上的位置的第二測(cè)量系統(tǒng)， 所述控制系統(tǒng)基于所述第一測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量結(jié)果以及所述第二測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量結(jié)果，以將所述移動(dòng)構(gòu)件相對(duì)于所述移動(dòng)體的位置維持在規(guī)定位置的方式控制所述驅(qū)動(dòng)裝置。20.如權(quán)利要求19所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述控制系統(tǒng)在經(jīng)由所述平面電機(jī)向所述移動(dòng)方向驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)體時(shí)，以使所述移動(dòng)構(gòu)件相對(duì)于所述移動(dòng)體的位置維持在規(guī)定位置的方式控制所述驅(qū)動(dòng)裝置，并且經(jīng)由所述平面電機(jī)產(chǎn)生將因施加于所述移動(dòng)體的所述驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)力的反作用力而引起的力中的至少一部分減輕的力。21.如權(quán)利要求20所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述控制系統(tǒng)經(jīng)由所述平面電機(jī)產(chǎn)生將因施加至所述移動(dòng)體的所述驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)力的反作用力而引起的力抵消的力。22.如權(quán)利要求21所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述控制系統(tǒng)具有: 第一雙自由度控制部，其由基于所述移動(dòng)體的目標(biāo)軌道來(lái)控制所述移動(dòng)體的位置的第一前饋控制部以及第一反饋控制部構(gòu)成； 第二雙自由度控制部，其由第二前饋控制部以及第二反饋控制部構(gòu)成，所述第二前饋控制部基于所述目標(biāo)軌道來(lái)控制被來(lái)自所述管構(gòu)件的外部干擾作用的所述移動(dòng)構(gòu)件相對(duì)于所述移動(dòng)體的位置，所述第二反饋控制部基于目標(biāo)值來(lái)控制所述移動(dòng)構(gòu)件相對(duì)于所述移動(dòng)體的位置；以及 第三前饋控制部，其基于操作量的相加值，根據(jù)與該相加值對(duì)應(yīng)的驅(qū)動(dòng)信號(hào)，對(duì)用于將因所述驅(qū)動(dòng)裝置所產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的反作用力而引起的、施加至所述移動(dòng)體的力抵消的操作量進(jìn)行運(yùn)算，并賦予至所述移動(dòng)構(gòu)件，所述操作量的相加值是指，針對(duì)作為所述第二雙自由度控制部的控制對(duì)象的所述移動(dòng)構(gòu)件的、來(lái)自所述第二前饋控制部的操作量和來(lái)自第二反饋控制部的操作量的相加值。23.如權(quán)利要求18?22中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述基座構(gòu)件具有移動(dòng)面， 所述移動(dòng)構(gòu)件在所述移動(dòng)面上由所述驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)。24.如權(quán)利要求23所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述移動(dòng)構(gòu)件借助磁預(yù)壓型或者真空預(yù)壓型的氣體靜壓軸承被懸浮支承于所述移動(dòng)面的上方。25.如權(quán)利要求18?24中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述第一測(cè)量系統(tǒng)具有編碼器系統(tǒng)。26.如權(quán)利要求18?25中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 利用所述驅(qū)動(dòng)裝置對(duì)所述移動(dòng)構(gòu)件的驅(qū)動(dòng)中心與所述移動(dòng)體的驅(qū)動(dòng)中心在至少一個(gè)方向上一致。27.如權(quán)利要求17?26中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置，其特征在于， 所述管構(gòu)件的另一端部與載體構(gòu)件連接，該載體構(gòu)件在所述規(guī)定平面內(nèi)的第一方向上追隨所述移動(dòng)體地移動(dòng)。28.一種曝光裝置，其用能量束對(duì)物體進(jìn)行曝光，其特征在于， 具有: 權(quán)利要求1?27中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體裝置；以及 向所述物體照射所述能量束來(lái)在所述物體上生成圖案的圖案生成裝置。29.一種器件制造方法，其特征在于， 包括: 使用權(quán)利要求28所述的曝光裝置對(duì)物體進(jìn)行曝光；以及 使曝光后的所述物體顯影。
【專利摘要】經(jīng)由配置于滑塊(22)上的6根桿構(gòu)件(231～233和241～243)而實(shí)質(zhì)上動(dòng)態(tài)地支承搭載有晶圓臺(tái)(WTB)的支承構(gòu)件(25)。另外，配置連結(jié)構(gòu)件(29)，該連結(jié)構(gòu)件(29)與設(shè)于支承構(gòu)件(25)的Y軸方向兩端的薄板狀(平板狀)的緣部(25c)以隔著規(guī)定的間隙而不接觸的方式相對(duì)。通過(guò)這樣，利用與緣部(25c)相對(duì)的連結(jié)構(gòu)件(29)(擠壓阻尼器)來(lái)消除搭載有晶圓臺(tái)(WTB)的支承構(gòu)件(25)的振動(dòng)。另外，由于支承構(gòu)件(25)經(jīng)由多個(gè)桿構(gòu)件被動(dòng)態(tài)地支承，所以能夠減輕伴隨著滑塊(22)變形而發(fā)生的晶圓臺(tái)(WTB)的變形。
【IPC分類】H01L21/68, G03F7/20, H01L21/027
【公開(kāi)號(hào)】CN105493237
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480047670
【發(fā)明人】柴崎祐一
【申請(qǐng)人】株式會(huì)社尼康
【公開(kāi)日】2016年4月13日
【申請(qǐng)日】2014年6月26日
【公告號(hào)】EP3038137A1, US20160170312, WO2014208634A1