顯示裝置的制造方法
【專利摘要】提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括：柔性基板，包括在一個(gè)方向上彎曲的彎曲區(qū)域；絕緣層，位于柔性基板上，并且包括在彎曲區(qū)域處彼此分隔開的多個(gè)開口圖案；波形線，延伸穿過多個(gè)開口圖案。
【專利說明】
曰f駐罷 業(yè)不表直
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明的實(shí)施例的各方面涉及一種顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]顯示裝置是被構(gòu)造為顯示圖像的裝置，近來，有機(jī)發(fā)光二極管顯示器已經(jīng)受到了關(guān)注。
[0003]因?yàn)橛袡C(jī)發(fā)光二極管顯示器具有自發(fā)射特性并且不需要單獨(dú)的光源(與液晶顯示器不同)，所以有機(jī)發(fā)光二極管顯示器可以具有相對較低的重量和較小的厚度。另外，有機(jī)發(fā)光二極管顯示器具有諸如相對低的功耗、高亮度和高響應(yīng)速度的高質(zhì)量特性。
[0004]—般地，有機(jī)發(fā)光二極管顯示器包括基板、定位于基板上的多個(gè)薄膜晶體管、設(shè)置在構(gòu)造薄膜晶體管的布線之間的多個(gè)絕緣層以及結(jié)合到薄膜晶體管的有機(jī)發(fā)光元件。
[0005]近來，已經(jīng)開發(fā)了柔性有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，其中包括具有聚合物材料的柔性基板并且柔性基板的至少一部分是彎曲的。
[0006]在該背景部分中公開的上述信息僅用于增強(qiáng)對本發(fā)明的背景的理解，因此它可以包含未形成對本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說在本國中已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的實(shí)施例的各方面涉及一種包括柔性基板的顯示裝置。
[0008]本發(fā)明已經(jīng)致力于提供一種顯示裝置，即使柔性基板的至少一部分彎曲，所述顯示裝置也具有抑制與彎曲部分對應(yīng)的布線和絕緣層被應(yīng)力損壞的特性。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例，顯示裝置包括:柔性基板，包括在一個(gè)方向上彎曲的彎曲區(qū)域;絕緣層，位于柔性基板上，并且包括在彎曲區(qū)域處彼此分隔開的多個(gè)開口圖案;波形線，延伸穿過所述多個(gè)開口圖案。
[0010]波形線可以沿著絕緣層的表面和多個(gè)開口圖案中的每個(gè)的底部彎曲并延伸。
[0011]柔性基板還可以包括用來顯示圖像的顯示區(qū)域，顯示裝置還可以包括在柔性基板上與顯示區(qū)域?qū)?yīng)并且構(gòu)造為顯示圖像的顯示單元。
[0012]顯示區(qū)域可以在柔性基板的中心，彎曲區(qū)域可以在柔性基板的外側(cè)。
[0013]顯示區(qū)域可以與彎曲區(qū)域相鄰，顯示裝置還可以包括在顯示區(qū)域處位于顯示單元上的窗口。
[0014]窗口可以覆蓋顯示區(qū)域而不覆蓋彎曲區(qū)域。
[0015]顯示單元可以包括:有機(jī)發(fā)光元件，位于柔性基板上；薄膜晶體管，與有機(jī)發(fā)光元件連接。
[0016]有機(jī)發(fā)光元件可以包括:第一電極，與薄膜晶體管連接;有機(jī)發(fā)射層，位于第一電極上;第二電極，位于有機(jī)發(fā)射層上。
[0017]薄膜晶體管可以包括:有源層，位于柔性基板上;柵電極，位于有源層上;源電極和漏電極，與有源層連接。
[0018]波形線可以與柵電極和源電極中的至少一個(gè)位于同一層上。
[0019]絕緣層還可以包括覆蓋柵電極的第一子絕緣層。
[0020]開口圖案可以位于第一子絕緣層上。
[0021]絕緣層還可以包括覆蓋有源層的第二子絕緣層。
[0022]開口圖案可以位于第一子絕緣層和第二子絕緣層中的至少一個(gè)上。
[0023]絕緣層還可以包括位于柔性基板與有源層之間的第三子絕緣層。
[0024]開口圖案可以位于第一子絕緣層、第二子絕緣層和第三子絕緣層中的至少一個(gè)上。
[0025]在彎曲區(qū)域處壓應(yīng)力可以作用于波形線。
[0026]顯示裝置還可以包括:第一保護(hù)膜，在彎曲區(qū)域處位于波形線之上；第二保護(hù)膜，在彎曲區(qū)域處位于波形線之下。
[0027]柔性基板可以在彎曲區(qū)域處具有沿向下方向的曲率半徑。
[0028]第一保護(hù)膜可以比第二保護(hù)膜厚。
[0029]第二保護(hù)膜的楊氏模量可以比第一保護(hù)膜的楊氏模量大。
[0030]柔性基板可以在彎曲區(qū)域處具有沿向上方向的曲率半徑。
[0031]第二保護(hù)膜可以比第一保護(hù)膜厚。
[0032]第一保護(hù)膜的楊氏模量可以比第二保護(hù)膜的楊氏模量大。
[0033]柔性基板可以在彎曲區(qū)域處具有曲率半徑，在多個(gè)開口圖案之中的相鄰開口圖案之間的距離可以與曲率半徑的大小成比例。
[0034]絕緣層可以包括無機(jī)材料。
[0035]絕緣層可以包括有機(jī)材料。
[0036]根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例，即使柔性基板的至少一部分彎曲，也可以能夠抑制與彎曲部分對應(yīng)的布線和絕緣層被應(yīng)力損壞。
【附圖說明】
[0037]圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0038]圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0039]圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0040]圖4是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0041]圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0042]圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0043]圖7是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0044]以下將參照其中示出了本發(fā)明的示例實(shí)施例的附圖來更充分地描述本發(fā)明的示例實(shí)施例的各方面。如本領(lǐng)域技術(shù)人員將意識到的是，描述的實(shí)施例可以以各種不同方式進(jìn)行修改，所有這些修改全部不脫離本發(fā)明的精神或范圍。
[0045]因此，附圖和描述實(shí)際上將被認(rèn)為是說明性的而不是限制性的。貫穿說明書同樣的附圖標(biāo)記表示同樣的元件。
[0046]另外，在示例實(shí)施例中，因?yàn)橥瑯拥母綀D標(biāo)記表示具有相同構(gòu)造的同樣的元件，所以代表性地描述了第一示例實(shí)施例，在其它示例實(shí)施例中，將僅描述不同于第一示例實(shí)施例的構(gòu)造。
[0047]另外，出于理解和易于描述，任意地示出了在附圖中示出的每種構(gòu)造的尺寸和厚度，但本發(fā)明不限于此。
[0048]在附圖中，為了清楚，夸大了層、膜、面板、區(qū)域等的厚度。在附圖中，出于理解和易于描述，夸大了一些層和區(qū)域的厚度。將理解的是，當(dāng)諸如層、膜、區(qū)域或基板的元件被稱作“在”另一元件“上”時(shí)，該元件可以直接在其它元件上或者也可以存在中間元件。
[0049]另外，除非明確地描述為相反，否則詞語“包括”和諸如“包含”或“具有”的變形將被理解為暗示包含所述元件，但不排除任意其它元件。另外，貫穿說明書，詞語“在……上”是指定位在物體部分上或者在物體部分下方，但是本質(zhì)上不是指根據(jù)重力方向定位在物體部分的上側(cè)上。
[0050]以下，將參照圖1描述根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置。
[0051]以下，包括有機(jī)發(fā)光元件的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器被描述為顯示裝置的示例，但是如果根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)示例實(shí)施例的顯示裝置包括顯示圖像的顯示單元，則所述顯示裝置可以是諸如液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示器(PD)、場發(fā)射顯示器(FED)、電泳顯示器(EPD)和電潤濕顯示器(EWD)的各種顯示裝置。
[0052]圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置的中間部分和外面部分的剖視圖。
[0053]如圖1中所示，根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置包括柔性基板100、顯示單元200、彎曲單元300、密封單元400、第一保護(hù)膜500、第二保護(hù)膜600和窗口 700。
[0054]柔性基板100是柔性的，但不限于此，而可以是可伸展的、可折疊的、可彎曲的或可卷曲的。柔性基板100是柔性的、可伸展的、可折疊的、可彎曲的或可卷曲的，結(jié)果，整個(gè)顯示裝置可以是柔性的、可伸展的、可折疊的、可彎曲的或可卷曲的。
[0055]柔性基板100可以沿一個(gè)方向彎曲。這里，一個(gè)方向可以是柔性基板100的表面上的任意方向，而不局限于預(yù)定的方向。例如，柔性基板100可以在平面中具有矩形形狀，在此情況下，矩形柔性基板100彎曲所沿的一個(gè)方向可以是與柔性基板100的長邊或短邊平行的方向。即，柔性基板100在平面中可以沿短邊方向或長邊方向彎曲。
[0056]柔性基板100可以包括諸如聚酰亞胺的聚合物材料、金屬材料和無機(jī)材料中的一種或更多種，但不限于此，如果柔性基板100可以被彎曲，那么柔性基板100可以包括任何材料。柔性基板100可以具有膜形式。
[0057]柔性基板100包括顯示圖像的顯示區(qū)域DA和沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA。顯示區(qū)域DA可以定位在柔性基板100的中心，彎曲區(qū)域BA可以定位在柔性基板100外側(cè)(例如，在柔性基板100的外圍或外圍區(qū)域)或者在柔性基板100的印記(footprint)外側(cè)。柔性基板100的彎曲區(qū)域BA與顯示區(qū)域DA相鄰。柔性基板100的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分具有沿向下方向的曲率半徑，但不限于此，柔性基板100的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分可以具有沿向上方向的曲率半徑。
[0058]同時(shí)，在本發(fā)明的示例實(shí)施例中，彎曲區(qū)域BA定位在柔性基板100外側(cè)(例如，在柔性基板100的印記外側(cè))，但不限于此，在本發(fā)明的另一個(gè)示例實(shí)施例中，彎曲區(qū)域BA可以定位在柔性基板100的中心或者被定位成與顯示區(qū)域DA疊置。
[0059]顯示單元200定位在柔性基板100上以與柔性基板100的顯示區(qū)域DA對應(yīng)，并且可以通過使用多個(gè)像素來顯示圖像。這里，像素可以是指用來顯示圖像的最小單元。
[0060]顯示單元200包括發(fā)射光的有機(jī)發(fā)光二極管0LED、絕緣層CIL以及與有機(jī)發(fā)光二極管OLED結(jié)合的薄膜晶體管TFT。同時(shí)，在本發(fā)明的示例實(shí)施例中，出于描述的方便，顯示單元200包括有機(jī)發(fā)光二極管OLED和薄膜晶體管TFT，但是本發(fā)明不限于此，顯示單元200還可以包括一條或更多條掃描線、一條或更多條數(shù)據(jù)線、多個(gè)薄膜晶體管和一個(gè)或更多個(gè)電容器，這些構(gòu)造可以具有各種已知的結(jié)構(gòu)。
[0061 ]薄膜晶體管TFT包括有源層AL、柵電極GE、源電極SE和漏電極DE。
[0062]有源層AL定位在柔性基板100上并且可以由多晶硅或氧化物半導(dǎo)體制成。氧化物半導(dǎo)體可以包括基于鈦(Ti)、鉿(Hf)、鋯(Zr)、鋁(Al)、鉭(Ta)、鍺(Ge)、鋅(Zn)、鎵(Ga)、錫(Sn)或銦(In)的氧化物以及作為它們的復(fù)合氧化物的氧化鋅(ZnO)、氧化銦鎵鋅(InGaZn04)、氧化銦鋅(Zn-1n-O)、氧化鋅錫(Zn-Sn-O)、氧化銦鎵(In-Ga-O)、氧化銦錫(In-Sn-O)、氧化銦錯(cuò)(In-Zr-O)、氧化銦錯(cuò)鋅(In-Zr-Zn-O)、氧化銦錯(cuò)錫(In-Zr-Sn-O)、氧化銦鋯鎵(In-Zr-Ga-O)、氧化銦鋁(In-Al-O)、氧化銦鋅鋁(In-Zn-Al-O)、氧化銦錫鋁(In-Sn-Al-O)、氧化銦鋁鎵(In-Al-Ga-O)、氧化銦鉭(In-Ta-O)、氧化銦鉭鋅(In-Ta-Zn-O)、氧化銦鉭錫(In-Ta-Sn-O)、氧化銦鉭鎵(In-Ta-Ga-O)、氧化銦鍺(In-Ge-O)、氧化銦鍺鋅(In-Ge-Zn-O)、氧化銅錯(cuò)錫(In-Ge-Sn-O)、氧化銅錯(cuò)嫁(In-Ge-Ga-O)、氧化欽銅梓(T1-1n-Zn-O)和氧化鉿銦鋅(Hf-1n-Zn-O)中的任意一種。
[0063]有源層AL包括其中不摻雜雜質(zhì)的溝道區(qū)以及當(dāng)雜質(zhì)摻雜到溝道區(qū)的兩側(cè)時(shí)形成的源區(qū)和漏區(qū)。這里，雜質(zhì)根據(jù)薄膜晶體管的種類而改變，并且可以是N型雜質(zhì)或P型雜質(zhì)。在有源層AL由氧化物半導(dǎo)體形成的情況下，為了保護(hù)易受到諸如暴露于高溫的外部環(huán)境影響的氧化物半導(dǎo)體，可以增加單獨(dú)的鈍化層。
[0064]柵電極GE定位在有源層AL上，源電極SE和漏電極DE定位在柵電極GE的上側(cè)上，并且分別通過接觸孔與有源層AL的源區(qū)和漏區(qū)連接。
[0065]為了防止或減少作為薄膜晶體管TFT的構(gòu)造的有源層AL、柵電極GE、源電極SE和漏電極DE之間的短路的情況，絕緣層CIL定位在薄膜晶體管TFT的構(gòu)造之間。
[0066]絕緣層CIL包括第一子絕緣層ILl、第二子絕緣層IL2和第三子絕緣層IL3。
[0067]第一子絕緣層ILl覆蓋柵電極GE并且可以用于防止或減少在柵電極GE與源電極SE之間短路的情況。第一子絕緣層ILl可以由至少一個(gè)層形成。
[0068]第二子絕緣層IL2覆蓋有源層AL并且定位在有源層AL與柵電極GE之間。第二子絕緣層IL2可以用于防止或減少在有源層AL與柵電極GE之間短路的情況。第二子絕緣層IL2可以由一個(gè)層或更多層形成。
[0069]第三子絕緣層IL3定位在柔性基板100與有源層AL之間，并且可以用于平坦化柔性基板100的表面，同時(shí)防止或減少濕氣從柔性基板100滲透的情況。
[0070 ]如此，絕緣層Cl L包括諸如氮化娃或氧化娃的無機(jī)材料，例如，絕緣層CIL可以包括SiNx、Al203、Si02和T12中的一種或更多種。
[0071]有機(jī)發(fā)光二極管OLED包括與薄膜晶體管TFT的漏電極DE連接的第一電極E1、定位在第一電極EI上的有機(jī)發(fā)射層OL和定位在有機(jī)發(fā)射層OL上的第二電極E2。
[0072]第一電極El可以是作為空穴注入電極的陽極，并且可以是光反射電極、光透反射電極和光透射電極中的一個(gè)電極。根據(jù)本發(fā)明的一些不例實(shí)施例，第一電極EI可以是作為電子注入電極的陰極。
[0073]有機(jī)發(fā)射層OL定位在第一電極El上。有機(jī)發(fā)射層OL可以由低分子有機(jī)材料或諸如聚3，4-乙撐二氧噻吩(PED0T)的高分子有機(jī)材料制成。有機(jī)發(fā)射層OL可以包括發(fā)射紅光的紅色有機(jī)發(fā)射層、發(fā)射綠光的綠色有機(jī)發(fā)射層和發(fā)射藍(lán)光的藍(lán)色有機(jī)發(fā)射層。紅色有機(jī)發(fā)射層、綠色有機(jī)發(fā)射層和藍(lán)色有機(jī)發(fā)射層分別形成在紅色像素、綠色像素和藍(lán)色像素中，從而實(shí)現(xiàn)彩色圖像。在有機(jī)發(fā)射層OL中，紅色有機(jī)發(fā)射層、綠色有機(jī)發(fā)射層和藍(lán)色有機(jī)發(fā)射層全部一起層壓在紅色像素、綠色像素和藍(lán)色像素上，并且對于每個(gè)像素形成紅色濾色器、綠色濾色器和藍(lán)色濾色器，從而實(shí)現(xiàn)彩色圖像。
[0074]作為另一個(gè)示例，作為有機(jī)發(fā)射層0L，發(fā)射白光的白色有機(jī)發(fā)射層形成在所有的紅色像素、綠色像素和藍(lán)色像素中，并且對于每個(gè)像素形成紅色濾色器、綠色濾色器和藍(lán)色濾色器，從而實(shí)現(xiàn)彩色圖像。在通過使用作為有機(jī)發(fā)射層OL的白色有機(jī)發(fā)射層和濾色器來實(shí)現(xiàn)彩色圖像的情況下，可以不使用沉積掩模用來在各個(gè)像素(即，紅色像素、綠色像素和藍(lán)色像素)上沉積紅色有機(jī)發(fā)射層、綠色有機(jī)發(fā)射層和藍(lán)色有機(jī)發(fā)射層。
[0075]在另一個(gè)不例中描述的作為有機(jī)發(fā)射層OL的白色有機(jī)發(fā)射層可以由一個(gè)有機(jī)發(fā)射層形成，并且也包括通過層壓多個(gè)有機(jī)發(fā)射層而形成為發(fā)射白光的構(gòu)造。例如，有機(jī)發(fā)射層OL可以包括:可以通過結(jié)合至少一個(gè)黃色有機(jī)發(fā)射層和至少一個(gè)藍(lán)色發(fā)光層而發(fā)射白光的構(gòu)造、可以通過結(jié)合至少一個(gè)青色有機(jī)發(fā)射層和至少一個(gè)紅色發(fā)光層而發(fā)射白光的構(gòu)造、可以通過結(jié)合至少一個(gè)品紅色有機(jī)發(fā)射層和至少一個(gè)綠色發(fā)光層而發(fā)射白光的構(gòu)造等。
[0076]第二電極E2定位在有機(jī)發(fā)射層OL上，并且可以是作為電子注入電極的陰極。第二電極E2可以是光反射電極、光透反射電極和光透射電極中的一個(gè)電極。第二電極E2定位在柔性基板100的整個(gè)顯示區(qū)域DA上方以覆蓋有機(jī)發(fā)射層0L。根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例，第二電極E2可以是作為空穴注入電極的陽極。
[0077]彎曲單元300與顯示單元200—體地形成并且定位在柔性基板100上以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)。彎曲單元300定位在柔性基板100上以與沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)以沿一個(gè)方向彎曲。彎曲單元300包括從顯示單元200延伸的絕緣層CIL和從顯示單元200延伸的波形線WL。
[0078]彎曲單元300的絕緣層ClL包括多個(gè)開口圖案OP。多個(gè)開口圖案OP在一個(gè)方向上彼此分隔開。
[0079]開口圖案OP形成在絕緣層CIL上，具體地，形成在第一子絕緣層IL1、第二子絕緣層IL2和第三子絕緣層IL3上。
[0080]根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例，開口圖案OP形成在第一子絕緣層IL1、第二子絕緣層IL2和第三子絕緣層IL3上，但不限于此。在本發(fā)明的另一個(gè)示例實(shí)施例中，開口圖案OP可以形成在第一子絕緣層IL1、第二子絕緣層IL2和第三子絕緣層IL3中的一層或更多層上。[0081 ]在多個(gè)開口圖案OP之中的相鄰的開口圖案OP之間的距離LE可以與柔性基板100的對應(yīng)于彎曲區(qū)域BA的一部分的曲率半徑的大小成比例。例如，當(dāng)柔性基板100的對應(yīng)于彎曲區(qū)域BA的一部分的曲率半徑的大小增大時(shí)，在相鄰的開口圖案OP之間的距離LE增大。當(dāng)柔性基板100的對應(yīng)于彎曲區(qū)域BA的一部分的曲率半徑的大小減小時(shí)，在相鄰的開口圖案OP之間的距離LE可以減小。
[0082]波形線WL從顯示單元200延伸，并且可以與顯示單元200的薄膜晶體管TFT的有源層AL、柵電極GE、源電極SE和漏電極DE中的一個(gè)或更多個(gè)電連接。波形線WL是從顯示單元200延伸的線，并且可以用于向顯示單元200傳輸信號。
[0083]波形線WL與源電極SE和漏電極DE定位在同一層上且包括與源電極SE和漏電極DE相同的材料，并且可以與源電極SE和漏電極DE并發(fā)(例如，同時(shí))形成。
[0084]根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例，波形線WL與源電極SE和漏電極DE定位在同一層上，但不限于此。在本發(fā)明的另一個(gè)示例實(shí)施例中，波形線WL可以與有源層AL、柵電極GE、源電極SE和漏電極DE中的一個(gè)或更多個(gè)定位在同一層上。
[0085]波形線WL定位在絕緣層CIL上以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，并且沿一個(gè)方向(是柔性基板100的彎曲方向)延伸以穿過多個(gè)開口圖案0P。波形線WL是彎曲的并且沿著絕緣層CIL的表面和多個(gè)開口圖案OP中的每個(gè)的底部延伸。詳細(xì)地，波形線WL具有沿著通過多個(gè)開口圖案OP形成并且彼此隔開的島狀絕緣層CIL圖案的豎直鋸齒形狀。在本發(fā)明的示例實(shí)施例中，波形線WL具有豎直鋸齒形狀，但不限于此。在本發(fā)明的另一示例實(shí)施例中，波形線WL可以具有水平鋸齒形狀。在此情況下，波形線WL可以在柔性基板100的表面上以沿一個(gè)方向彎曲一次或更多次的形式延伸。
[0086]如此，在根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置中，絕緣層CIL包括在一個(gè)方向上彼此分隔開的多個(gè)開口圖案OP以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，被定位成與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的絕緣層CIL在柔性基板100上具有島狀。定位在沿一個(gè)方向彎曲的柔性基板100上的絕緣層CIL具有島狀以在柔性基板100沿一個(gè)方向彎曲時(shí)使作用于絕緣層CIL的應(yīng)力最小化。
[0087]S卩，即使絕緣層CIL具有無機(jī)材料的固有脆性，絕緣層CIL包括在一個(gè)方向(是柔性基板100的彎曲方向)上彼此分隔開的多個(gè)開口圖案0P，從而使由柔性基板100在一個(gè)方向上彎曲時(shí)產(chǎn)生的應(yīng)力對絕緣層CIL自身的損壞或者由絕緣層CIL中產(chǎn)生的應(yīng)力對波形線WL的損壞最小化，所述波形線WL是定位在絕緣層CIL上的構(gòu)成元件。
[0088]另外，在根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置中，波形線WL具有豎直鋸齒形狀以與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，即使當(dāng)柔性基板100在一個(gè)方向上彎曲時(shí)產(chǎn)生的應(yīng)力作用于波形線WL，應(yīng)力在彎曲區(qū)域BA中沿著波形線WL自身的長路徑分布以抑制波形線WL因應(yīng)力而損壞。
[0089]另外，在多個(gè)開口圖案OP之中的相鄰開口圖案OP之間的距離LE與柔性基板100的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分的曲率半徑的大小成比例，結(jié)果，當(dāng)柔性基板100的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分的曲率半徑較小時(shí)，波形線WL自身在有限的彎曲區(qū)域BA中的路徑可以通過縮短相鄰開口圖案OP之間的距離LE而變得更長。結(jié)果，即使大的應(yīng)力作用于波形線WL，但是因?yàn)槿嵝曰?00的一個(gè)部分的曲率半徑小，所以應(yīng)力在彎曲區(qū)域BA中沿著波形線WL自身的長路徑分布以抑制波形線WL因應(yīng)力而損壞。這可以作為能夠進(jìn)一步增大整個(gè)顯示裝置的曲率的因素。
[°09°] 密封單元400定位在柔性基板100上并使顯示單元200和彎曲單元300介于密封單元400和柔性基板100之間。遍布柔性基板100的顯示區(qū)域DA和彎曲區(qū)域BA密封單元400定位在柔性基板100上，并且密封單元400與柔性基板100—起密封顯示單元200和彎曲單元300。密封單元400可以由薄膜包封單元形成。密封單元400可以包括有機(jī)層和定位在有機(jī)層上的無機(jī)層。例如，密封單元400可以包括交替地層壓的一個(gè)或更多個(gè)有機(jī)層和一個(gè)或更多個(gè)無機(jī)層，具體地，有機(jī)層或無機(jī)層可以分別是多個(gè)，多個(gè)無機(jī)層和多個(gè)有機(jī)層可以分別交替地層壓。
[0091 ] 密封單元400可以包括使至少一個(gè)有機(jī)層置于至少兩個(gè)無機(jī)層之間的至少一個(gè)夾層結(jié)構(gòu)。定位在密封單元400的頂層上的無機(jī)層與有機(jī)層相比可以層壓有較大的面積以覆蓋作為另一層的有機(jī)層的端部。密封單元400的有機(jī)層由聚合物制成，優(yōu)選地，可以是由聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚碳酸酯、環(huán)氧樹脂、聚乙烯和聚丙烯酸酯中的任意一個(gè)形成的單層或?qū)訅簩?。例如，有機(jī)層可以由聚丙烯酸酯形成，詳細(xì)地，包括:包括二丙烯酸酯類單體和三丙烯酸酯類單體的單體組成物聚合而成的材料。這里，單體組成物還可以包括單丙烯酸酯類單體，并且還可以包括諸如TPO的已知的光引發(fā)劑，但不限于此。密封單元400的無機(jī)層可以是包括金屬氧化物或金屬氮化物的單層或?qū)訅簩?。詳?xì)地，無機(jī)層可以包括SiNx、Al203、Si02和T12中的一種或更多種。
[0092]第一保護(hù)膜500定位在密封單元400上，第二保護(hù)膜600定位在柔性基板100之下。
[0093]第一保護(hù)膜500附著到密封單元400上以與柔性基板100的顯示區(qū)域DA和彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，并且用于保護(hù)密封單元400免受外部干擾。
[0094]第二保護(hù)膜600附著在柔性基板100之下以與柔性基板100的顯示區(qū)域DA和彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，并且用作保護(hù)密封單元400免受外部干擾。
[0095]另外，第一保護(hù)膜500和第二保護(hù)膜600中的每個(gè)可以根據(jù)第一保護(hù)膜500和第二保護(hù)膜600中的每個(gè)的楊氏模量具有各種厚度。
[0096]例如，第一保護(hù)膜500可以具有比第二保護(hù)膜600的厚度大的厚度，使得壓應(yīng)力作用于與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的絕緣層CIL和波形線WL。
[0097]S卩，定位在與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的波形線WL之上的第一保護(hù)膜500的厚度可以比定位在與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的波形線WL之下的第二保護(hù)膜600的厚度大，結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的通過在彎曲區(qū)域BA中產(chǎn)生彎矩形成的中性平面NP形成在波形線WL之上，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL。
[0098]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的第一保護(hù)膜500的厚度比第二保護(hù)膜600的厚度大，結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的形成在沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA中的中性平面NP通過移向第一保護(hù)膜500而形成在波形線WL之上，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL以抑制絕緣層CIL和波形線WL因拉應(yīng)力而損壞。
[0099]窗口 700定位在顯示單元200上以與柔性基板100的顯示區(qū)域DA對應(yīng)。窗口 700可以附著到密封單元400的表面上。窗口 700可以保護(hù)顯示單元200免受外部干擾，識別觸摸的觸摸傳感器可以形成在窗口 700的前表面和后表面中的至少一個(gè)上。另外，抑制外部光反射的相位延遲膜和偏光器可以定位在窗口 700的前表面和后表面中的至少一個(gè)上。窗口 700僅覆蓋柔性基板100的顯示區(qū)域DA和彎曲區(qū)域BA中的顯示區(qū)域DA，結(jié)果，與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的彎曲單元300暴露在外面。
[0100]如此，窗口 700僅覆蓋柔性基板100的顯示區(qū)域DA和彎曲區(qū)域BA中的顯示區(qū)域DA，結(jié)果，柔性基板10的彎曲區(qū)域BA可以相對容易地沿一個(gè)方向彎曲。
[0101]另外，窗口700通過僅覆蓋柔性基板100的顯示區(qū)域DA附著到密封單元400上，結(jié)果，形成在與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的彎曲單元300上的中性平面NP因窗口 700通過移向波形線WL防止拉應(yīng)力作用于波形線WL。即，為了相對容易地彎曲與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的彎曲單元300，窗口 700僅覆蓋柔性基板100的顯示區(qū)域DA。
[0102]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，絕緣層CIL包括在一個(gè)方向上彼此分隔開以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的多個(gè)開口圖案OP，結(jié)果，定位成與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的絕緣層CIL在柔性基板100上具有島狀。定位在沿一個(gè)方向彎曲的柔性基板100上的絕緣層CIL具有島狀以使當(dāng)柔性基板100在一個(gè)方向上彎曲時(shí)作用于絕緣層CIL的應(yīng)力最小化。
[0103]S卩，即使絕緣層CIL具有無機(jī)材料的固有脆性，絕緣層CIL包括在一個(gè)方向(是柔性基板100的彎曲方向)上彼此分隔開的多個(gè)開口圖案0P，從而最小化或減小當(dāng)柔性基板100在一個(gè)方向上彎曲時(shí)產(chǎn)生的應(yīng)力對絕緣層CIL自身造成的損壞或者絕緣層CIL中產(chǎn)生的應(yīng)力對波形線WL的損壞，所述波形線WL是定位在絕緣層CIL上的構(gòu)成元件。
[0104]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，波形線WL具有豎直鋸齒形狀以與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，即使當(dāng)柔性基板100在一個(gè)方向上彎曲時(shí)產(chǎn)生的應(yīng)力作用于波形線WL，應(yīng)力在彎曲區(qū)域BA中沿著波形線WL自身的長路徑分布以抑制波形線WL被應(yīng)力損壞。
[0105]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，在多個(gè)開口圖案OP之中的相鄰開口圖案OP之間的距離LE與柔性基板100的對應(yīng)于彎曲區(qū)域BA的一個(gè)部分的曲率半徑的大小成比例，結(jié)果，當(dāng)柔性基板100的對應(yīng)于彎曲區(qū)域BA的一個(gè)部分的曲率半徑較小時(shí)，波形線WL自身在有限的彎曲區(qū)域BA中的路徑通過縮短相鄰開口圖案OP之間的距離LE可以變得更長。結(jié)果，即使大量的應(yīng)力可能作用于波形線WL，但是因?yàn)槿嵝曰?00的一個(gè)部分的曲率半徑小，所以應(yīng)力在彎曲區(qū)域BA中沿著波形線WL自身的長路徑分布以抑制(例如，最小化或減少)波形線WL被應(yīng)力損壞。這可以作為能夠進(jìn)一步增大整個(gè)顯示裝置的曲率的因素。
[0106]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的第一保護(hù)膜500的厚度比第二保護(hù)膜600的厚度大，結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的形成在沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA中的中性平面NP通過移向第一保護(hù)膜500而形成在波形線WL之上，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL以抑制(例如，最小化或減少)絕緣層CIL和波形線WL被拉應(yīng)力損壞。
[0107]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，窗口700僅覆蓋柔性基板100的顯示區(qū)域DA和彎曲區(qū)域BA中的顯示區(qū)域DA，結(jié)果，柔性基板100的彎曲區(qū)域BA在一個(gè)方向上易于彎曲。另外，窗口700通過僅覆蓋柔性基板100的顯示區(qū)域DA附著到密封單元400上，結(jié)果，形成在柔性基板100的彎曲區(qū)域BA中的中性平面NP因窗口 700通過移向波形線WL來防止或減少拉應(yīng)力作用于波形線WL。
[0108]以下，將參照圖2描述根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置。以下，將描述與根據(jù)上面描述的本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置不同的部分，但是會省略一些重復(fù)的描述。
[0109]圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0110]如圖2中所示，根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的彎曲單元300包括從顯示單元200延伸的絕緣層CIL和從顯示單元200延伸的波形線WL。
[0111]絕緣層CIL的第一子絕緣層ILl、第二子絕緣層IL2和第三子絕緣層IL3中的至少一個(gè)可以包括聚酰亞胺、亞苯基和硅氧烷等中的一種或更多種。即，絕緣層CIL包括有機(jī)材料(包括聚酰亞胺、亞苯基和硅氧烷等中的一種或更多種)。
[0112]彎曲單元300的絕緣層ClL包括多個(gè)開口圖案OP。多個(gè)開口圖案OP在一個(gè)方向上彼此分隔開。
[0113]開口圖案OP形成在絕緣層CIL上，具體地，形成在第一子絕緣層ILl和第二子絕緣層IL2上。
[0114]波形線WL與源電極SE和漏電極DE定位在同一層上并包括與源電極SE和漏電極DE的材料相同的材料，并且可以與源電極SE和漏電極DE并發(fā)(例如，同時(shí))形成。
[0115]波形線WL定位在絕緣層CIL上以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，并且在作為柔性基板100的彎曲方向的一個(gè)方向上延伸以穿過多個(gè)開口圖案OP。波形線WL沿著絕緣層Cl L的表面和多個(gè)開口圖案OP中的每個(gè)的底部彎曲并延伸。詳細(xì)地，波形線WL沿著由多個(gè)開口圖案OP形成并且彼此分隔開的島狀絕緣層CIL圖案具有豎直鋸齒形狀。
[0116]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，絕緣層CIL包括在一個(gè)方向上彼此分隔開的多個(gè)開口圖案OP以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，定位成與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的絕緣層CIL在柔性基板100上具有島狀。定位在沿一個(gè)方向彎曲的柔性基板100上的絕緣層CIL具有島狀以使當(dāng)柔性基板100沿一個(gè)方向彎曲時(shí)作用于絕緣層CIL的應(yīng)力最小化。
[0117]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，波形線WL具有豎直鋸齒形狀以與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，即使當(dāng)柔性基板100沿一個(gè)方向彎曲時(shí)產(chǎn)生的應(yīng)力作用于波形線WL，應(yīng)力在彎曲區(qū)域BA中沿著波形線WL自身的長路徑分布以抑制波形線WL被應(yīng)力損壞。
[0118]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，絕緣層CIL包括具有與無機(jī)材料的楊氏模量相比大的楊氏模量的有機(jī)材料，結(jié)果，當(dāng)柔性基板100在一個(gè)方向上彎曲時(shí)，絕緣層CIL易于因應(yīng)力而變形以使對絕緣層CIL自身的損壞或者絕緣層CIL中產(chǎn)生的應(yīng)力對波形線WL的損壞最小化。
[0119]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，絕緣層CIL包括具有大的楊氏模量的有機(jī)材料，結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的形成在沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA中的中性平面NP通過移向第一保護(hù)膜500形成在波形線WL之上，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力施加到絕緣層CIL和波形線WL以抑制絕緣層CIL和波形線WL被拉應(yīng)力損壞。
[0120]以下，將參照圖3描述根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置。以下，將描述與根據(jù)上面描述的本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置不同的部分，但是會省略一些重復(fù)的描述。
[0121]圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0122]如圖3中所示，根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的彎曲單元300包括從顯示單元200延伸的絕緣層CIL和從顯示單元200延伸的波形線WL。
[0123]彎曲單元300的絕緣層ClL包括多個(gè)開口圖案OP。多個(gè)開口圖案OP在一個(gè)方向上彼此分隔開。
[0124]開口圖案OP形成在絕緣層CIL上，具體地，形成在第一子絕緣層ILl上。
[0125]波形線WL與源電極SE和漏電極DE定位在同一層上并包括與源電極SE和漏電極DE的材料相同的材料，并且可以與源電極SE和漏電極DE同時(shí)形成。
[0126]波形線WL定位在絕緣層CIL上以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，并且在一個(gè)方向(是柔性基板100的彎曲方向)上延伸以穿過多個(gè)開口圖案0P。波形線WL沿著絕緣層CIL的表面(例如，沿著絕緣層CIL的輪廓)和多個(gè)開口圖案OP中的每個(gè)的底部彎曲并延伸。詳細(xì)地，波形線WL沿著由多個(gè)開口圖案OP形成并彼此分隔開的島狀絕緣層CIL圖案具有豎直鋸齒形狀。
[0127]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，絕緣層CIL包括在一個(gè)方向上彼此分隔開的多個(gè)開口圖案OP以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，定位成與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的絕緣層CIL在柔性基板100上具有島狀。定位在沿一個(gè)方向彎曲的柔性基板100上的絕緣層CIL具有島狀以使柔性基板100在一個(gè)方向上彎曲時(shí)作用于絕緣層CIL的應(yīng)力最小化。
[0128]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，波形線WL具有豎直鋸齒形狀以與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，即使當(dāng)柔性基板100在一個(gè)方向上彎曲時(shí)產(chǎn)生的應(yīng)力作用于波形線WL，應(yīng)力在彎曲區(qū)域BA中沿著波形線WL自身的長路徑分布以抑制波形線WL被應(yīng)力損壞。
[0129]以下，將參照圖4描述根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置。以下，將描述與根據(jù)上面描述的本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置不同的部分。
[0130]圖4是示出了根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0131]如圖4中所示，根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的彎曲單元300包括從顯示單元200延伸的絕緣層CIL和從顯示單元200延伸的波形線WL。
[0132]彎曲單元300的絕緣層ClL包括多個(gè)開口圖案OP。多個(gè)開口圖案OP在一個(gè)方向上彼此分隔開。
[0133]開口圖案OP形成在絕緣層CIL上，具體地，形成在第二子絕緣層IL2和第三子絕緣層IL3上。
[0134]波形線WL與柵電極GE定位在同一層上，包括與柵電極GE的材料相同的材料，并且可以與柵電極GE并發(fā)(例如，同時(shí))形成。
[0135]波形線WL定位在絕緣層CIL上以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，并且在一個(gè)方向(是柔性基板100的彎曲方向)上延伸以穿過多個(gè)開口圖案0P。波形線WL沿著絕緣層CIL的表面和多個(gè)開口圖案OP中的每個(gè)的底部彎曲并延伸。詳細(xì)地，波形線WL沿著由多個(gè)開口圖案OP形成并且彼此分隔開的島狀絕緣層CIL圖案具有豎直鋸齒形狀。
[0136]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，絕緣層CIL包括在一個(gè)方向上彼此分隔開的多個(gè)開口圖案OP以與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，定位成與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的絕緣層CIL在柔性基板100上具有島狀。定位在沿一個(gè)方向彎曲的柔性基板100上的絕緣層CIL具有島狀以最小化或減小柔性基板100沿一個(gè)方向彎曲時(shí)作用于絕緣層CIL的應(yīng)力。
[0137]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，波形線WL具有豎直鋸齒形狀以與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)，結(jié)果，即使當(dāng)柔性基板100沿一個(gè)方向彎曲時(shí)產(chǎn)生的應(yīng)力施加到波形線WL，應(yīng)力在彎曲區(qū)域BA中沿著波形線WL自身的長路徑分布以抑制波形線WL被應(yīng)力損壞。
[0138]以下，將參照圖5描述根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置。以下，將描述與根據(jù)上面描述的本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置不同的部分，但是會省略一些重復(fù)的描述。
[0139]圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0140]如圖5中所示，根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置包括定位在密封單元400上的第一保護(hù)膜500和定位在柔性基板100之下的第二保護(hù)膜600。
[0141]柔性基板100的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分具有在第二保護(hù)膜600方向(其為向下的方向)上的曲率半徑。
[0142]第二保護(hù)膜600的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分610的楊氏模量比第一保護(hù)膜500的楊氏模量大。同時(shí)，整個(gè)第二保護(hù)膜600的楊氏模量可以比第一保護(hù)膜500的楊氏模量大。
[0143]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，第二保護(hù)膜600的一個(gè)部分610的楊氏模量比第一保護(hù)膜500的楊氏模量大，其中，第二保護(hù)膜600的一個(gè)部分610定位在柔性基板100的在第二保護(hù)膜600方向上具有曲率半徑的彎曲區(qū)域BA中。結(jié)果，當(dāng)在彎曲區(qū)域BA中產(chǎn)生彎矩時(shí)，因?yàn)榈诙Ｗo(hù)膜600的一個(gè)部分610易于因應(yīng)力而變形，所以顯示裝置的中性平面NP移到波形線WL的上面，因此，不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL。
[0144]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，第二保護(hù)膜600的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分610具有比第一保護(hù)膜500的楊氏模量大的楊氏模量，結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的形成在沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA中的中性平面NP通過移向第一保護(hù)膜500形成在波形線WL之上，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL以抑制絕緣層CIL和波形線WL被拉應(yīng)力損壞。
[0145]以下，將參照圖6描述根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置。以下，將描述與根據(jù)上面描述的本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置不同的部分，但是會省略一些重復(fù)的描述。
[0146]圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0147]如圖6中所示，根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置包括定位在密封單元400上的第一保護(hù)膜500和定位在柔性基板100之下的第二保護(hù)膜600。
[0148]柔性基板100的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分具有在第一保護(hù)膜500方向(其為向上的方向)上的曲率半徑。
[0149]例如，第二保護(hù)膜600的厚度比第一保護(hù)膜500的厚度大，使得壓應(yīng)力作用于與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的絕緣層Cl L和波形線WL。
[0150]S卩，與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的定位在波形線WL之下的第二保護(hù)膜600的厚度比與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的定位在波形線WL之上的第一保護(hù)膜500的厚度大，結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的通過在彎曲區(qū)域BA中產(chǎn)生彎矩形成的中性平面NP形成在波形線WL與在波形線WL的下面的第二保護(hù)膜600之間，因此不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL。
[0151]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，與在第一保護(hù)膜500方向上具有曲率半徑的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的第二保護(hù)膜600的厚度比第一保護(hù)膜500的厚度大。結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的形成在沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA中的中性平面NP通過移向第二保護(hù)膜600形成在波形線WL之下，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL以抑制絕緣層CIL和波形線WL被拉應(yīng)力損壞。
[0152]以下，將參照圖7描述根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置。以下，將描述與根據(jù)上面描述的本發(fā)明的示例實(shí)施例的顯示裝置不同的部分，但是會省略一些重復(fù)的描述。
[0153]圖7是示出了根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。
[0154]如圖7中所示，根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置包括定位在密封單元400上的第一保護(hù)膜500和定位在柔性基板100之下的第二保護(hù)膜600。
[0155]柔性基板100的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的一個(gè)部分具有在第一保護(hù)膜500方向(其是向上方向)上的曲率半徑。
[0156]第二保護(hù)膜600的厚度比第一保護(hù)膜500的厚度大，使得壓應(yīng)力作用于與柔性基板100的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的絕緣層CIL和波形線WL。
[0157]S卩，與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的定位在波形線WL之下的第二保護(hù)膜600的厚度比與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的定位在波形線WL之上的第一保護(hù)膜500的厚度大。結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的通過在彎曲區(qū)域BA中產(chǎn)生彎矩而形成的中性平面NP形成在波形線WL之下，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL。
[0158]第一保護(hù)膜500的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的其它部分510的楊氏模量比第二保護(hù)膜600的楊氏模量大。同時(shí)，整個(gè)第一保護(hù)膜500的楊氏模量可以比第二保護(hù)膜600的楊氏模量大。
[0159]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，與在第一保護(hù)膜500方向上具有曲率半徑的彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的第二保護(hù)膜600的厚度比第一保護(hù)膜500的厚度大。結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的形成在沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA中的中性平面NP通過移向第二保護(hù)膜600形成在波形線WL之下，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL以抑制絕緣層CIL和波形線WL被拉應(yīng)力損壞。
[0160]另外，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，第一保護(hù)膜500的其它部分510的楊氏模量比第二保護(hù)膜600的楊氏模量大，其中，第一保護(hù)膜500的其它部分510定位在柔性基板100的在第一保護(hù)膜500方向上具有曲率半徑的彎曲區(qū)域BA中。結(jié)果，當(dāng)在彎曲區(qū)域BA中產(chǎn)生彎矩時(shí)，因?yàn)榈谝槐Ｗo(hù)膜500的其它部分510易于因應(yīng)力變形，所以顯示裝置的中性平面NP移到波形線WL的下面，因此不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL 0
[0161]如此，在根據(jù)本發(fā)明的一些示例實(shí)施例的顯示裝置中，第一保護(hù)膜500的與彎曲區(qū)域BA對應(yīng)的其它部分510的楊氏模量比第二保護(hù)膜600的楊氏模量大。結(jié)果，因?yàn)轱@示裝置的形成在沿一個(gè)方向彎曲的彎曲區(qū)域BA中的中性平面NP通過移向第二保護(hù)膜600形成在波形線WL之下，所以不是拉應(yīng)力而是壓應(yīng)力作用于絕緣層CIL和波形線WL以抑制絕緣層CIL和波形線WL被拉應(yīng)力損壞。
[0162]雖然已經(jīng)結(jié)合目前被認(rèn)為是實(shí)用的示例實(shí)施例描述了本發(fā)明，但是將理解的是，本發(fā)明不局限于所公開的實(shí)施例，而是相反，意圖覆蓋包括在權(quán)利要求及其等同物的精神和范圍內(nèi)的各種修改和等同布置。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括: 柔性基板，包括在一個(gè)方向上彎曲的彎曲區(qū)域； 絕緣層，位于所述柔性基板上，并且包括在所述彎曲區(qū)域處彼此分隔開的多個(gè)開口圖案；以及 波形線，延伸穿過所述多個(gè)開口圖案。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于: 所述波形線沿著所述絕緣層的表面和所述多個(gè)開口圖案中的每個(gè)的底部彎曲并延伸。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述柔性基板還包括用來顯示圖像的顯示區(qū)域，并且 所述顯示裝置還包括在所述柔性基板上與所述顯示區(qū)域?qū)?yīng)并且構(gòu)造為顯示所述圖像的顯示單元。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示區(qū)域處于所述柔性基板的中心，所述彎曲區(qū)域處于所述柔性基板的外側(cè)。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示區(qū)域與所述彎曲區(qū)域相鄰，并且 所述顯示裝置還包括在所述顯示區(qū)域處位于所述顯示單元上的窗口。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置，其特征在于: 所述窗口覆蓋所述顯示區(qū)域而不覆蓋所述彎曲區(qū)域。7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示單元包括: 有機(jī)發(fā)光元件，位于所述柔性基板上；以及 薄膜晶體管，與所述有機(jī)發(fā)光元件連接。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示裝置，其特征在于，所述有機(jī)發(fā)光元件包括: 第一電極，與所述薄膜晶體管連接； 有機(jī)發(fā)射層，位于所述第一電極上；以及 第二電極，位于所述有機(jī)發(fā)射層上。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示裝置，其特征在于，所述薄膜晶體管包括: 有源層，位于所述柔性基板上； 柵電極，位于所述有源層上；以及 源電極和漏電極，與所述有源層連接。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，所述波形線與所述柵電極和所述源電極中的至少一個(gè)位于同一層上。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，所述絕緣層還包括覆蓋所述柵電極的第一子絕緣層。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示裝置，其特征在于，所述多個(gè)開口圖案位于所述第一子絕緣層上。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示裝置，其特征在于，所述絕緣層還包括覆蓋所述有源層的第二子絕緣層。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置，其特征在于，所述多個(gè)開口圖案位于所述第一子絕緣層和所述第二子絕緣層中的至少一個(gè)上。15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置，其特征在于，所述絕緣層還包括位于所述柔性基板與所述有源層之間的第三子絕緣層。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的顯示裝置，其特征在于，所述多個(gè)開口圖案位于所述第一子絕緣層、所述第二子絕緣層和所述第三子絕緣層中的至少一個(gè)上。17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，在所述彎曲區(qū)域處壓應(yīng)力作用于所述波形線。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置還包括: 第一保護(hù)膜，在所述彎曲區(qū)域處位于所述波形線之上；以及 第二保護(hù)膜，在所述彎曲區(qū)域處位于所述波形線之下。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的顯示裝置，其特征在于，所述柔性基板在所述彎曲區(qū)域處具有沿向下方向的曲率半徑。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的顯示裝置，其特征在于，所述第一保護(hù)膜比所述第二保護(hù)膜厚。21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的顯示裝置，其特征在于，所述第二保護(hù)膜的楊氏模量比所述第一保護(hù)膜的楊氏模量大。22.根據(jù)權(quán)利要求18所述的顯示裝置，其特征在于，所述柔性基板在所述彎曲區(qū)域處具有沿向上方向的曲率半徑。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的顯示裝置，其特征在于，所述第二保護(hù)膜比所述第一保護(hù)膜厚。24.根據(jù)權(quán)利要求22所述的顯示裝置，其特征在于，所述第一保護(hù)膜的楊氏模量比所述第二保護(hù)膜的楊氏模量大。25.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述柔性基板在所述彎曲區(qū)域處具有曲率半徑，并且 在所述多個(gè)開口圖案之中的相鄰開口圖案之間的距離與所述曲率半徑的大小成比例。26.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述絕緣層包括無機(jī)材料。27.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述絕緣層包括有機(jī)材料。
【文檔編號】H01L51/00GK105826350SQ201511021088
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2015年12月30日
【發(fā)明人】金泰雄, 具賢祐, 金基鉉, 薛英國
【申請人】三星顯示有限公司