柔性顯示基底及其制造方法、柔性顯示設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種柔性顯示基底及其制造方法、柔性顯示設(shè)備。該柔性顯示設(shè)備包括：包括在其一個(gè)表面處的多個(gè)突出部分和多個(gè)凹入部分，以及分別在所述多個(gè)突出部分的一些之間朝多個(gè)凹入部分中的相鄰一個(gè)的中心延伸的彎曲表面的顯示基底；被配置為在顯示基底上發(fā)光的像素單元；被聯(lián)接到像素單元并在第一方向上伸長(zhǎng)的第一布線；以及在與第一方向相交的第二方向上伸長(zhǎng)的第二布線。
【專利說明】
柔性顯示基底及其制造方法、柔性顯示設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 所描述的技術(shù)總地來說設(shè)及顯示設(shè)備。更具體地說，所描述的技術(shù)總地來說設(shè)及 能夠因外力彎曲、擴(kuò)展和/或收縮的柔性顯示基底及其制造方法、W及包括柔性顯示基底 的柔性顯示設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 顯示設(shè)備可視地顯示數(shù)據(jù)，通常在屏幕上顯示計(jì)算機(jī)的處理的結(jié)果，W作為計(jì)算 機(jī)輸出設(shè)備直接由眼觀看。顯示設(shè)備可包括陰極射線管（CRT)、液晶顯示器化CD)、有機(jī)發(fā) 光二極管（OLED)顯示器或電泳顯示器巧PD),并且不限于作為計(jì)算機(jī)輸出設(shè)備的功能，而 是已演變?yōu)榭刹煌貞?yīng)用于電視接收機(jī)、便攜式通信設(shè)備、可穿戴電子設(shè)備等領(lǐng)域中的應(yīng) 用場(chǎng)合中。
[0003] 在顯示設(shè)備中，可W容易地被制造成大尺寸、薄和輕質(zhì)的諸如液晶顯示器、有機(jī)發(fā) 光二極管顯示器和電泳顯示器等的平板顯示設(shè)備正在引導(dǎo)顯示產(chǎn)業(yè)。此外，通過應(yīng)用柔性 材料或彈性材料作為基底，已經(jīng)研究出可W因外力而可彎曲、可卷曲、可伸展和/或可壓縮 的柔性顯示設(shè)備。
[0004] 在應(yīng)用到柔性顯示設(shè)備的柔性基底中，在形成像素的發(fā)光元件和驅(qū)動(dòng)發(fā)光元件的 像素電路所形成的部分中應(yīng)當(dāng)抑制或減小伸展性，而在周圍部分應(yīng)當(dāng)使彈性最大化。然而， 難W用現(xiàn)有工藝制造一個(gè)基底而在多個(gè)精細(xì)區(qū)域（例如，小區(qū)域）中具有不同伸展特性，并 且當(dāng)單獨(dú)的結(jié)構(gòu)被附著到基底時(shí)在接口處難W進(jìn)行應(yīng)力控制。
[0005] 在此背景部分公開的上述信息僅用于增強(qiáng)對(duì)所描述技術(shù)的背景的理解，因此它可 能包含不構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)的信息。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本發(fā)明提供了一種柔性顯示基底，通過在基底中形成彎曲的凹入部分和突出部分 使得在伸展基底時(shí)在像素和其周界區(qū)域施加的拉伸應(yīng)力的方向區(qū)分開而具有可靠結(jié)構(gòu)。
[0007] 本發(fā)明還提供了一種包括柔性顯示基底的柔性顯示設(shè)備，通過在基底中形成彎曲 的凹入部分和突出部分使得在伸展基底時(shí)施加的拉伸應(yīng)力的方向在像素和其周界區(qū)域被 區(qū)分開。
[0008] 本發(fā)明還提供了一種制造柔性顯示基底的方法，其在基底中具有彎曲的凹入部分 和突出部分，W在伸展基底時(shí)將在像素和其周界區(qū)域中所施加的拉伸應(yīng)力的方向區(qū)分開。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的柔性顯示設(shè)備包括：顯示基底，該顯示基底包括在其 一個(gè)表面處的多個(gè)突出部分和多個(gè)凹入部分，W及分別在所述多個(gè)突出部分的一些之間朝 凹入部分中的相鄰一個(gè)的中屯、延伸的彎曲表面；被配置為在顯示基底上發(fā)光的像素單元； 被聯(lián)接到像素單元并在第一方向上伸長(zhǎng)的第一布線；W及在與第一方向相交的第二方向上 伸長(zhǎng)的第二布線。
[0010] 彎曲表面中的每一個(gè)的斜度從突出部分朝凹入部分的中屯、可W變化。
[0011] 彎曲表面的中每一個(gè)的斜度的變化從突出部分朝凹入部分的中屯、可W是平緩的。
[0012] 像素單元可W位于顯示基底的突出部分中的至少一些上。
[0013] 柔性顯示設(shè)備可W進(jìn)一步包括在像素單元上的像素保護(hù)層。
[0014] 第一布線可W是連接到像素單元的薄膜晶體管的柵電極的柵極線。
[0015] 第一布線可W沿凹入部分中的一個(gè)和彎曲表面中的一個(gè)伸長(zhǎng)。
[0016] 第一布線可W與彎曲表面中的一個(gè)隔開。
[0017] 彎曲表面中的每一個(gè)的一部分可W具有斜度，該斜度在遠(yuǎn)離相應(yīng)的凹入部分中的 一個(gè)的中屯、的方向上傾斜。
[0018] 凹入部分的至少一個(gè)的中屯、可W具有平坦表面。
[0019] 多個(gè)突出部分中的一些可W具有與多個(gè)突出部分中的另一些不同的高度。
[0020] 顯示基底的多個(gè)突出部分可W形成在兩個(gè)方向上延伸的凹入部分。
[0021] 顯示基底可W具有多個(gè)區(qū)域，在多個(gè)區(qū)域的一個(gè)區(qū)域中的多個(gè)突出部分中的一些 可W具有與多個(gè)區(qū)域的另一個(gè)區(qū)域中的多個(gè)突出部分中的一些不同的特征。
[0022] 多個(gè)區(qū)域可W沿縱向方向排列。
[0023] 多個(gè)區(qū)域可W包括跨過顯示基底的中屯、延伸的第一區(qū)域和延伸到顯示基底的邊 緣的第二區(qū)域。
[0024] 根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的一種柔性顯示基底包括：在其一個(gè)表面中的多個(gè)突出 部分和多個(gè)凹入部分，W及分別從多個(gè)突出部分的邊界朝多個(gè)凹入部分中的相鄰一個(gè)的中 屯、延伸的彎曲表面。
[0025] 彎曲表面中的每一個(gè)可W具有斜度，該斜度在從突出部分的一個(gè)的邊界朝凹入部 分的相應(yīng)一個(gè)的中屯、的方向上變化。
[0026] 斜度的變化可W是平緩的。
[0027] 在彎曲表面中的每一個(gè)的一部分處的斜度可W在遠(yuǎn)離凹入部分中的相應(yīng)一個(gè)的 中屯、的方向上傾斜。
[0028] 凹入部分中的至少一個(gè)的中屯、可W是平坦的。
[0029] 多個(gè)突出部分中的一些可W具有彼此不同的高度。
[0030] 多個(gè)突出部分可W通過多個(gè)凹入部分在兩個(gè)方向上延伸而形成。
[0031] 柔性顯示基底可W具有多個(gè)區(qū)域，多個(gè)區(qū)域中的至少兩個(gè)區(qū)域可W分別包括具有 不同特征的多個(gè)突出部分中的一些和多個(gè)凹入部分中的一些。
[0032] 多個(gè)區(qū)域可W在縱向方向上延伸，并可W包括跨過柔性顯示基底的中屯、延伸的第 一區(qū)域和延伸到柔性顯示基底的邊緣的第二區(qū)域。
[0033] 多個(gè)區(qū)域可W包括跨過柔性顯示基底的中屯、延伸的第一區(qū)域和延伸到柔性顯示 基底的邊緣的第二區(qū)域。
[0034] 根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，一種制造顯示基底的方法，該顯示基底包括在其一個(gè) 表面中的多個(gè)突出部分和多個(gè)凹入部分，W及分別在多個(gè)突出部分的一些與凹入部分中的 相鄰一些的中屯、之間延伸的彎曲表面，該方法包括：提供沖壓模具，該沖壓模具具有被形 狀聯(lián)接到多個(gè)突出部分和多個(gè)凹入部分的表面；在沖壓模具上涂覆和硬化聚二甲基硅氧烷 (PDM巧，W形成PDMS基底；從沖壓模具分離硬化的PDMS基底。
[0035] 提供沖壓模具可W包括由機(jī)械工藝加工形狀聯(lián)接的表面。
[0036] 該方法可W進(jìn)一步包括，在提供沖壓模具期間在底部基底上涂覆光致抗蝕劑層； 圖案化光致抗蝕劑層，W除去與多個(gè)突出部分對(duì)應(yīng)的部分；回流并硬化圖案化的光致抗蝕 劑層。
[0037] 在根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示基底中，彎曲的凹入部分和突出部 分被形成在基底中，W將在伸展基底時(shí)在像素和其周界區(qū)域中施加的拉伸應(yīng)力的方向區(qū)分 開，從而提供了可靠的結(jié)構(gòu)。
[0038] 此外，在根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示設(shè)備中，包括發(fā)光器件和像 素電路的像素單元中的伸展被抑制，像素的周界區(qū)域處的伸展被增加或最大化，使得可W 得到顯示設(shè)備的伸展效果，諸如發(fā)光器件和像素電路的元件的可靠性可得到維持。
[0039] 在根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的制造柔性顯示基底的方法中，柔性顯示基底 通過使用具有對(duì)應(yīng)于彎曲的凹入部分和突出部分的形狀的沖壓模具制造，從而容易制造具 有所希望形狀的顯示基底。
【附圖說明】
[0040] 圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示設(shè)備的分解透視圖。
[0041] 圖2是圖1所示的顯示基底的一部分的放大透視圖和局部放大主視圖。
[0042] 圖3是示出了形成在根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示基底中的像素 和布線的連接關(guān)系的示意性主視圖。
[0043] 圖4是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的主視圖。
[0044] 圖5是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的主視圖。
[0045] 圖6是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的主視圖。
[0046] 圖7是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的透視圖。
[0047] 圖8是示出了形成在圖7所示的柔性顯示基底上的像素和布線的連接關(guān)系的示意 性主視圖。
[004引圖9是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的俯視平面圖。
[0049] 圖10是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的俯視平面圖。
[0050] 圖11是示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的制造柔性顯示基底的方法的流 程圖。
[0051] 圖12是示出了根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的制造柔性顯示基底的方法的流 程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0052] 在下文中將參考其中示出了本發(fā)明的示例性實(shí)施例的附圖更充分地描述本發(fā)明 的方面。如本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到的那樣，所描述的實(shí)施例可W W各種不同的方式修改， 所有運(yùn)些都不脫離本發(fā)明的精神或范圍。圖和描述將被視為在本質(zhì)上是說明性的，而不是 限制性的。在整個(gè)說明書中，相同的附圖標(biāo)記指代相同的元件。此外，為了更好地理解和易 于描述，圖中所示的層和元件的尺寸和厚度可W任意地示出，本發(fā)明不限于此。
[0053] 此外，當(dāng)?shù)谝徊糠直幻枋鰹楸徊贾迷诘诙糠?上"時(shí)，運(yùn)表示第一部分被布置在 第二部分的上側(cè)或下側(cè)，而不限制為基于重力方向的其上側(cè)。將理解的是，當(dāng)元件或?qū)颖环Q 為在另一元件或?qū)?上"、"被連接到"或"被聯(lián)接到"另一元件或?qū)訒r(shí)，它可W直接在另一元 件或?qū)由希恢苯舆B接或直接聯(lián)接到另一元件或?qū)?，或者也可W存在一個(gè)或多個(gè)中間元件 或中間層。當(dāng)元件被稱為"直接"在另一元件或?qū)?上"、"被直接連接到"或"被直接聯(lián)接到" 另一元件或?qū)訒r(shí)，不存在中間元件或中間層。例如，當(dāng)?shù)谝辉幻枋鰹?被聯(lián)接"或"被連 接"到第二元件時(shí)，第一元件可W被直接聯(lián)接或直接連接到第二元件，或者第一元件可W經(jīng) 由一個(gè)或多個(gè)中間元件被間接聯(lián)接或間接連接到第二元件。如本文所用，術(shù)語(yǔ)"和/或"包 括相關(guān)聯(lián)的所列項(xiàng)目的一個(gè)或多個(gè)的任意和所有組合。此外，當(dāng)描述本發(fā)明的實(shí)施例時(shí)，使 用"可指的是"本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例"。當(dāng)放在一列元件之前時(shí)，諸如"至少一個(gè)" 的表述修飾的是整列元件，而不是修飾該列中的單獨(dú)元件。另外，術(shù)語(yǔ)"示例性"意指示例 或例示。
[0054] 將理解的是，雖然術(shù)語(yǔ)第一、第二、第=等可在本文中用來描述各種元件、部件、區(qū) 域、層和/或部分，但是運(yùn)些元件、部件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)該受運(yùn)些術(shù)語(yǔ)的限制。運(yùn) 些術(shù)語(yǔ)僅用來將一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或部分與另一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或部分區(qū)分 開。因此，下面討論的第一元件、部件、區(qū)域、層或部分可W被稱為第二元件、部件、區(qū)域、層 或部分，而不脫離示例實(shí)施例的教導(dǎo)。在圖中，為了例示清楚，各種元件、層等的尺寸可能被 夸大。
[005引出于易于描述的目的，在本文中可使用諸如"之下"、"下方"、"下"、"上方"、"上"等 的空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)來描述如圖中所示的一個(gè)元件或特征相對(duì)于另一個(gè)元件或特征的關(guān)系。將 理解的是，除了圖中描述的方位之外，空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)意在包含設(shè)備在使用或操作中的不同 方位。例如，如果圖中設(shè)備被翻轉(zhuǎn)，被描述為在其它元件或特征"下方"或"之下"的元件將 于是被定向?yàn)樵谄渌蛱卣鞯?上方"或"上"。因此，術(shù)語(yǔ)"下方"可W包括上方和下 方兩種方位。設(shè)備可被另外定向（旋轉(zhuǎn)90度或者在其它方位），本文使用的空間相對(duì)描述 符可W進(jìn)行相應(yīng)的解釋。
[0056] 本文使用的術(shù)語(yǔ)僅用于描述特定的示例實(shí)施例的目的，并不旨在限制示例實(shí)施 例。如本文所用，單數(shù)形式的"一個(gè)"旨在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文另有明確說明。將 進(jìn)一步理解的是，當(dāng)在本說明書中使用時(shí)，術(shù)語(yǔ)"包括"和/或"包含"表明存在所陳述的特 征、整體、步驟、操作、元件和/或部件，但不排除存在或添加一個(gè)或多個(gè)其它特征、整體、步 驟、操作、元件、部件和/或它們的組。
[0057] 在整個(gè)此說明書中，除非明確描述為相反，詞語(yǔ)"包括"和"包含"W及變體將被理 解為暗示包括所陳述的元件，但不排除任何其他元件。如本文所用，單數(shù)形式的"一個(gè)"旨 在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文另有明確說明。
[005引接下來，將參考附圖描述根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的柔性顯示基底和包括柔性 顯示基底的柔性顯示設(shè)備。
[0059] 圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示設(shè)備的分解透視圖。
[0060] 參考圖1，根據(jù)本示例性實(shí)施例的柔性顯示設(shè)備10包括由窗基底800覆蓋的顯示 面板100和觸摸屏面板750。柔性顯示設(shè)備10可W被劃分成用于顯示圖像的顯示區(qū)和包括 驅(qū)動(dòng)電路部分和/或框架的非顯示區(qū)。觸摸屏面板750在顯示面板100上（例如，被附接 到其上），窗基底800在觸摸屏面板750上（例如，被附接到其上），從而覆蓋顯示面板100 和觸摸屏面板750。
[0061] 顯示面板100包括排列成矩陣用于顯示圖像的多個(gè)像素，并且在本示例性實(shí)施例 中可W由有機(jī)發(fā)光面板制成。顯示面板100包括具有柔性特性的柔性基底，使得它可W被 彎曲和/或是可彎曲的、可折疊的、可卷曲的和/或可拉伸的。
[0062] 下保護(hù)膜可W被提供在顯示面板100的下方W保護(hù)顯示面板100。下保護(hù)膜可W 由例如PI (聚酷亞胺）或PET (聚對(duì)苯二甲酸乙二醋）的柔性塑料膜制成。
[0063] 光學(xué)膜可W在顯示面板100上（例如，被附著到其上），作為另一示例，光學(xué)膜可W 位于觸摸屏面板750上。光學(xué)膜可W包括偏振膜和/或相差膜。偏振膜可W偏振入射到顯 示面板的一側(cè)的光和從顯示面板反射的入射光的一部分，相差膜被設(shè)置為相比偏振膜更靠 近顯示面板（例如，被設(shè)置在顯示面板和偏振膜之間），W控制入射光和反射光的相位。
[0064] 觸摸屏面板750在顯示面板100上。當(dāng)光學(xué)膜在顯示面板100上時(shí)，觸摸屏面板 750位于光學(xué)膜上，TSP粘合層610被插入在顯示面板100與觸摸屏面板750之間，使得觸 摸屏面板750可W被附著到顯示面板100。TSP粘合層610可W由光學(xué)透明的粘合劑（OCA) 制成，可W是膠帶（例如，可具有膠帶的形狀），或者可W是被涂覆然后被硬化的粘合材料。
[0065] 觸摸屏面板750可W感測(cè)來自外部的觸摸輸入的位置，并且因?yàn)榇盎?00在觸 摸屏面板750上（例如，被聯(lián)接到其上），觸摸屏面板750從而感測(cè)在窗基底800上的觸摸 的位置。在本示例性實(shí)施例中，觸摸屏面板750可W由被驅(qū)動(dòng)為電容型（例如，觸摸屏面板 750可W是電容型觸摸屏面板）的面板制成；然而，本發(fā)明不限于此，觸摸屏面板750可W 由被驅(qū)動(dòng)為電阻膜型（例如，觸摸屏面板750可W是電阻式觸摸屏面板）、超聲波型或紅外 型等的面板制成。
[0066] 窗基底800被形成為具有比顯示面板100和觸摸屏面板750更大的面積，從而覆 蓋顯示面板100和觸摸屏面板750。窗粘合層620被插入在觸摸屏面板750和窗基底800 之間，從而將窗基底800附著到觸摸屏面板750。窗粘合層620可W由光學(xué)透明的粘合劑 (OCA)制成，可W是膠帶，或者可W是被涂覆然后被硬化的粘合材料。
[0067] 圖2是圖1所示的顯示基底的一部分的放大透視圖和局部放大主視圖。
[0068] 參考圖2,多個(gè)突出部分120和多個(gè)凹入部分130被形成在顯示基底110的一個(gè)表 面處。突出部分120和凹入部分130被連接到彎曲表面125 (例如，彎曲表面125在相鄰的 突出部分120和凹入部分130之間延伸），彎曲表面125從相鄰的突出部分120的邊界平滑 通向凹入部分130的中屯、（例如，向凹入部分130的中屯、延伸）。
[0069] 彎曲表面125被形成為在從突出部分120向凹入部分130的中屯、的方向上具有斜 度，該斜度被形成為從突出部分120的邊界向凹入部分130的中屯、變化，并且該變化是平緩 的。
[0070] 當(dāng)通過施加力F在左右方向（圖2中的X軸方向）上伸展顯示基底110時(shí)，被施 加到突出部分120的邊界附近的表面和凹入部分130的中屯、的力可W和力F相同。然而， 因?yàn)閺澢砻?25的斜度在突出部分120和彎曲表面125的邊界附近相對(duì)較大（例如，睹 峭），力F在X軸方向上的分量Fx小于力F在y軸方向上的分量巧。此外，因?yàn)榘既氩糠?130的中屯、附近的斜度相對(duì)較?。ɡ?，平緩），在凹入部分130的中屯、附近，力F在X軸方 向上的分量Fx大于力F在y軸方向上的分量巧。因此，平行于顯示基底110的伸展方向 (圖2中的X軸方向）作用的分量Fx在突出部分120的邊界附近相對(duì)較小，平行于顯示基 底110的伸展方向作用的分量Fx在凹入部分130的中屯、附近相對(duì)較大。因而，顯示基底 110的伸展可W在突出部分120附近被減少或抑制，并且因?yàn)轱@示基底110在凹入部分130 中相對(duì)薄，顯示基底110的伸展在凹入部分130處可W被增加或提高。
[0071] 圖3是示出了形成在根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示基底中的像素 和布線的連接關(guān)系的示意性主視圖。
[0072] 參考圖3,顯示基底110包括形成在一個(gè)表面中的突出部分120和凹入部分130， 并包括從突出部分120的邊界平滑通向相鄰的凹入部分130的中屯、的彎曲表面125。像素 單元150被形成在至少一些突出部分120處，像素保護(hù)層155被形成為覆蓋突出部分120 上的每一個(gè)像素單元150。覆蓋突出部分120同時(shí)填充凹入部分130的平坦化層160被形 成在其上形成有像素單元150的突出部分120 W及凹入部分130上，W提供平坦的或基本 上平坦的表面，覆蓋層165被進(jìn)一步形成在平坦化層160上。
[0073] 第一布線410穿過像素單元150,在第一方向（圖3中的X軸方向）上被伸長(zhǎng)（例 如，延伸），并且被形成在凹入部分130中。第一布線410可W是被連接到形成在像素單元 150中的薄膜晶體管的柵電極的柵極線，并將相鄰的像素單元150彼此連接。如圖3所示， 第一布線410可W被形成為與彎曲表面125隔開（例如，與其分離）；然而，作為另一示例， 第一布線410可W被形成為沿彎曲表面125和凹入部分130被伸長(zhǎng)。像素單元150可W包 括包含紅（時(shí)、綠（G)和/或藍(lán)度）子像素的發(fā)光器件，發(fā)光器件可W取決于（例如，根據(jù)） 薄膜晶體管的驅(qū)動(dòng)選擇性地發(fā)光。
[0074] 顯示基底110可W由聚二甲基硅氧烷（PDM巧形成，W便是柔性的。覆蓋突出部 分120上的像素單元150的像素保護(hù)層155可W由諸如聚酷亞胺（PI)的塑料材料形成， 并且可W具有保護(hù)像素單元150和將像素單元150固定到突出部分120的上表面的功能， W當(dāng)顯示基底110被伸展或伸長(zhǎng)時(shí)不會(huì)伸展（例如，可W不被充分伸展）。平坦化層160 可W覆蓋突出部分120同時(shí)填充凹入部分130,并且可W是其中固化劑的比例比在顯示 基底110中更低的具有低模量（例如，低彈性模量）的銷催化的娃酬材料，諸如PDMS或 E:坊姐紋?。Ecoflex?是德國(guó)路德維希港的己斯夫公司聯(lián)合股份公司的注冊(cè)商標(biāo)，并描述 了可生物降解的未加工塑料。例如，當(dāng)諸如PDMS的原材料和顯示基底110的硬化劑的比例 為10:1時(shí)，平坦化層160可W具有20:1的比例。覆蓋層165可W被形成為覆蓋平坦化層 160,并且可W是能夠自由地成形為任何適合形狀的熱塑性材料。第一布線410由可伸展材 料形成，使得它可在其伸長(zhǎng)方向上伸展，并可WW隨機(jī)圖案（例如，W彎曲圖案）折疊和展 開。
[0075] 圖4是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的主視圖。
[0076] 參考圖4,根據(jù)本示例性實(shí)施例的顯示基底210的彎曲表面225具有其中在突出部 分220的邊界處的斜度在遠(yuǎn)離凹入部分230的中屯、的方向上傾斜的一部分。例如，當(dāng)假設(shè) 直線在突出部分220的邊界處接觸彎曲表面225時(shí)，該直線和突出部分220的上表面形成 小于90度的角度。此外，凹入部分230和彎曲表面225具有相同的曲率半徑r，在突出部分 220的邊界和凹入部分230的中屯、之間W曲率中屯、為參照測(cè)量的中屯、角0超過90度。
[0077] 當(dāng)如上所述拉伸力F作用在顯示基底210的左右方向上時(shí)，作用在突出部分220 的邊界附近的表面上的力的方向可W和顯示基底210的伸展方向相反，使得在突出部分 220中的伸展可W被進(jìn)一步有效地減少或抑制。
[007引圖5是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的主視圖。
[0079] 參考圖5,形成在根據(jù)本示例性實(shí)施例的顯示基底250中的凹入部分270在包括 凹入部分270的中屯、的部分（例如，跨過凹入部分270的中屯、延伸的部分）處具有平坦化 表面271 (例如平坦的或平的表面）。平坦化表面271在凹入部分270的最下部（例如，底 部），并被形成為平行于顯示基底250的其中沒有形成突出部分260的另一表面。通過控制 (例如，改變）平坦化表面271的寬度d，可W容易地控制其上形成有像素單元的相鄰?fù)怀?部分260之間的距離。
[0080] 圖6是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的主視圖。
[0081] 參考圖6,根據(jù)本示例性實(shí)施例的顯示基底280可包括具有不同高度的突出部分 290a和29化（例如，在顯示基底280的底表面上方具有不同高度）。例如，彼此相鄰的突出 部分290a和29化可W被形成為彼此不同，突出部分290a具有比突出部分29化更大的高 度。突出部分290a和29化可W被交替地設(shè)置（例如，交替地布置）。
[0082] 圖7是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的透視圖，圖8是示出了 形成在圖7所示的柔性顯示基底上的像素和布線的連接關(guān)系的示意性主視圖。
[0083] 參考圖7,根據(jù)本示例性實(shí)施例的顯示基底310的突出部分320由形成在四個(gè)方向 上（例如，沿四個(gè)方向延伸）的凹入部分330包圍（例如，突出部分320的周界被凹入部分 330包圍）。例如，每個(gè)突出部分320獨(dú)立地形成，并且W矩陣被布置在兩個(gè)方向上，凹入部 分330被分別形成在突出部分320中的相鄰?fù)怀霾糠种g。
[0084] 參考圖8,像素單元150可W被分別設(shè)置在每個(gè)突出部分320上，像素單元150可 被連接到在第一方向（圖8中的X軸方向）上伸長(zhǎng)的第一布線410和在第二方向（圖8中 的Z軸方向）上伸長(zhǎng)的第二布線420。在一個(gè)實(shí)施例中，第一布線410可W是被連接到形成 在像素單元中的薄膜晶體管的柵電極的柵極線，第二布線420可W是被連接到薄膜晶體管 的源電極的數(shù)據(jù)線。
[0085] 圖9是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的俯視平面圖。
[0086] 根據(jù)本示例性實(shí)施例的顯示基底510被劃分成多個(gè)區(qū)域，多個(gè)區(qū)域中的至少兩個(gè) 區(qū)域可W被形成為具有不同的突出部分和凹入部分。例如，如圖9所示，顯示基底510在 縱向方向上被劃分成多個(gè)區(qū)域510a和510b，并可W包括包含顯示基底510的中屯、（例如， 跨過該中屯、延伸）的第一區(qū)域510a和包含顯示基底510的邊緣（例如，延伸到該邊緣上） 的第二區(qū)域51化。具有不同特征的突出部分和凹入部分可W被形成在劃分開的第一區(qū)域 510a和第二區(qū)域51化中（例如，分別形成在第一區(qū)域510a和第二區(qū)域51化中的突出部分 和凹入部分可W具有不同的特征）。
[0087] 例如，形成在第一區(qū)域510a中的突出部分的高度可W小于形成在第二區(qū)域51化 中的突出部分的高度，平坦化部分可W被形成在形成于第一區(qū)域510a中的凹入部分中。如 上所述，通過依據(jù)區(qū)域?qū)⑼怀霾糠趾桶既氩糠值奶卣鲄^(qū)分開，每個(gè)區(qū)域可W具有不同的彈 性模量（例如，可W被伸展到不同的程度）。
[008引圖10是根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的柔性顯示基底的俯視平面圖。
[0089] 參考圖10,根據(jù)本示例性實(shí)施例的顯示基底520由包括顯示基底520的中屯、的封 閉曲線劃分開。顯示基底520可W包括包含顯示基底520的中屯、的第一區(qū)域520a和圍繞 (例如，包圍）第一區(qū)域520a并包含顯示基底520的邊緣的第二區(qū)域52化。分別形成在劃 分開的第一區(qū)域520a和第二區(qū)域52化中的突出部分和凹入部分可W具有彼此不同的特 征。
[0090] 例如，形成在第一區(qū)域520a中的突出部分的高度可W小于形成在第二區(qū)域52化 中的突出部分的高度，平坦化部分可W被形成在形成于第一區(qū)域520a中的凹入部分中。如 上所述，通過依據(jù)區(qū)域?qū)⑼怀霾糠趾桶既氩糠值奶卣鲄^(qū)分開，每個(gè)區(qū)域可W具有不同的彈 性模量（例如，可W被伸展到不同的程度）。
[0091] 圖11是示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的制造柔性顯示基底的方法的流 程圖。
[0092] 首先，提供具有用于突出部分和凹入部分的形狀聯(lián)接表面的沖壓模具M(jìn)(例如，沖 壓模）。因?yàn)楦鶕?jù)本示例性實(shí)施例的顯示基底包括形成在其一個(gè)表面中的多個(gè)突出部分和 多個(gè)凹入部分，W及從突出部分朝凹入部分的中屯、平滑延伸的彎曲表面，沖壓模具M(jìn)的形 狀聯(lián)接表面可W具有下述結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)包括具有與形狀聯(lián)接表面相對(duì)的形狀的突起和凹陷 部（例如，沖壓模具M(jìn)的表面可W和將要形成在其上的顯示基底的所需表面相反）。
[0093] 沖壓模具M(jìn)可通過諸如研磨的機(jī)械工藝來制造。例如，包括突出部分和凹入部分 的形狀聯(lián)接表面可W通過機(jī)械工藝進(jìn)行處理。
[0094] 接著，PDMS (聚二甲基硅氧烷）被涂覆在沖壓模具M(jìn)上并在其上硬化，W形成PDMS 基底。
[0095] 接著，將硬化的PDMS基底從沖壓模具M(jìn)分離。
[0096] 因此，分罔的PDMS基底可W是用于包含在顯不設(shè)備中的顯不基底30。所制造的顯 示基底30被形成為在其一個(gè)表面上具有多個(gè)突出部分和凹入部分，并且包括從突出部分 平滑通向凹入部分的中屯、的彎曲表面。
[0097] 圖12是示出了根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例的制造柔性顯示基底的方法的流 程圖。
[0098] 首先，提供具有用于突出部分和凹入部分的形狀聯(lián)接表面的沖壓模具M(jìn)。在此實(shí)施 例中，沖壓模具M(jìn)可W通過W下工藝來制備。
[0099] 例如，光致抗蝕劑層PR被涂覆在底部基底B上。光致抗蝕劑層PR可W被形成為 在底部基底B的整個(gè)表面上具有均勻的厚度。
[0100] 接下來，光致抗蝕劑層PR被圖案化，W除去與突出部分對(duì)應(yīng)的部分。除去的部分 對(duì)應(yīng)于后面將要制造的顯示基底30的突出部分。
[OW] 接下來，圖案化的光致抗蝕劑層PR被回流和硬化。例如，圖案化的光致抗蝕劑層 PR的剩余部分通過回流工藝被變形為凸?fàn)詈蛨A形形狀，當(dāng)進(jìn)行硬化工藝時(shí)，形成與在本文 中已經(jīng)描述的顯示基底30的突出部分和凹入部分相對(duì)的突起和凹陷。
[0102] PDMS通過使用如上所述制造的沖壓模具被涂覆在沖壓模具上并在其上硬化，W形 成PDMS基底，硬化的PDMS基底從沖壓模具分離，W制造顯示基底30。
[0103] 盡管已經(jīng)結(jié)合目前被認(rèn)為實(shí)用的示例性實(shí)施例描述了此公開，但是應(yīng)該理解的 是，本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施例，而是意在覆蓋包括在所附權(quán)利要求及其等同方案的精 神和范圍內(nèi)的各種修改和等同布置。
[0104] 對(duì)一些附圖標(biāo)記的描述
[0105] 10 :柔性顯示設(shè)備 100 :顯示面板
[010引 110、210、250、280 :顯示基底 120、220、260 :突出部分
[0107] 125、225:彎曲表面 130、230、270 :凹入部分
[0108] 150 :像素單元 155 :保護(hù)像素層
[0109] 160 :平坦化層 165 :覆蓋層
[0110] 271 :平坦化表面
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種柔性顯示設(shè)備，包括： 顯示基底，該顯示基底包括在其一個(gè)表面處的多個(gè)突出部分和多個(gè)凹入部分，以及 分別在所述多個(gè)突出部分的一些之間朝所述凹入部分中的相鄰一個(gè)的中心延伸的彎曲表 面； 被配置為在所述顯示基底上發(fā)光的像素單元； 被聯(lián)接到所述像素單元并在第一方向上伸長(zhǎng)的第一布線；和 在與所述第一方向相交的第二方向上伸長(zhǎng)的第二布線。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述彎曲表面中的每一個(gè)的斜度從所述 突出部分朝所述凹入部分的中心變化。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述彎曲表面中的每一個(gè)的所述斜度的 變化從所述突出部分朝所述凹入部分的所述中心是平緩的。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述像素單元位于所述顯示基底的所述 突出部分中的至少一些上。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的柔性顯示設(shè)備，進(jìn)一步包括： 在所述像素單元上的像素保護(hù)層。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述第一布線是連接到所述像素單元的 薄膜晶體管的柵電極的柵極線。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述第一布線沿所述凹入部分中的一個(gè) 和所述彎曲表面中的一個(gè)伸長(zhǎng)。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述第一布線與所述彎曲表面中的一個(gè) 隔開。9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述彎曲表面中的每一個(gè)的一部分具有 斜度，該斜度在遠(yuǎn)離相應(yīng)的凹入部分中的一個(gè)的中心的方向上傾斜。10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述凹入部分中的至少一個(gè)的中心具 有平坦表面。11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述多個(gè)突出部分中的一些具有與所 述多個(gè)突出部分中的另一些不同的高度。12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述顯示基底的所述多個(gè)突出部分形 成在兩個(gè)方向上延伸的所述凹入部分。13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述顯示基底具有多個(gè)區(qū)域，并且 其中在所述多個(gè)區(qū)域的一個(gè)區(qū)域中的多個(gè)突出部分中的一些突出部分具有與所述多 個(gè)區(qū)域的另一個(gè)區(qū)域中的多個(gè)突出部分中的一些突出部分不同的特征。14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述多個(gè)區(qū)域沿縱向方向排列。15. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的柔性顯示設(shè)備，其中所述多個(gè)區(qū)域包括跨過所述顯示基底 的中心延伸的第一區(qū)域和延伸到所述顯示基底的邊緣的第二區(qū)域。16. -種柔性顯示基底，包括： 在所述柔性顯示基底的一個(gè)表面中的多個(gè)突出部分和多個(gè)凹入部分，以及分別從所述 多個(gè)突出部分的邊界朝所述多個(gè)凹入部分中的相鄰一個(gè)的中心延伸的彎曲表面。17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示基底，其中所述彎曲表面中的每一個(gè)具有斜度， 該斜度在從所述突出部分的一個(gè)的邊界朝所述凹入部分的相應(yīng)一個(gè)的所述中心的方向上 變化。18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的柔性顯示基底，其中所述斜度的變化是平緩的。19. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的柔性顯示基底，其中在所述彎曲表面中的每一個(gè)的一部分 處的所述斜度在遠(yuǎn)離所述凹入部分中的所述相應(yīng)一個(gè)的所述中心的方向上傾斜。20. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示基底，其中所述凹入部分中的至少一個(gè)的中心是 平坦的。21. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示基底，其中所述多個(gè)突出部分中的一些具有彼此 不同的高度。22. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示基底，其中所述多個(gè)突出部分通過所述多個(gè)凹入 部分在兩個(gè)方向上延伸而形成。23. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的柔性顯示基底，其中所述柔性顯示基底具有多個(gè)區(qū)域，并 且 其中所述多個(gè)區(qū)域中的至少兩個(gè)區(qū)域分別包括具有不同特征的所述多個(gè)突出部分中 的一些和所述多個(gè)凹入部分中的一些。24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的柔性顯示基底，其中所述多個(gè)區(qū)域在縱向方向上延伸，并 包括跨過所述柔性顯示基底的中心延伸的第一區(qū)域和延伸到所述柔性顯示基底的邊緣的 第二區(qū)域。25. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的柔性顯示基底，其中所述多個(gè)區(qū)域包括跨過所述柔性顯示 基底的中心延伸的第一區(qū)域和延伸到所述柔性顯示基底的邊緣的第二區(qū)域。26. -種制造顯示基底的方法，所述顯示基底包括在其一個(gè)表面中的多個(gè)突出部分和 多個(gè)凹入部分，以及分別在所述多個(gè)突出部分的一些與所述凹入部分中的相鄰一些的中心 之間延伸的彎曲表面，該方法包括： 提供沖壓模具，該沖壓模具具有被形狀聯(lián)接到所述多個(gè)突出部分和所述多個(gè)凹入部分 的表面； 在所述沖壓模具上涂覆和硬化聚二甲基硅氧烷，以形成聚二甲基硅氧烷基底；和 從所述沖壓模具分離硬化的聚二甲基硅氧烷基底。27. 根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法，其中提供所述沖壓模具包括由機(jī)械工藝加工所述形 狀聯(lián)接的表面。28. 根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法，進(jìn)一步包括： 在提供所述沖壓模具期間，在底部基底上涂覆光致抗蝕劑層； 圖案化所述光致抗蝕劑層，以除去與所述多個(gè)突出部分對(duì)應(yīng)的部分；和 回流并硬化圖案化的光致抗蝕劑層。
【文檔編號(hào)】H01L27/32GK105845702SQ201510846482
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2015年11月27日
【發(fā)明人】俞炳漢
【申請(qǐng)人】三星顯示有限公司