一種對(duì)位標(biāo)記及其制備方法、基板、顯示面板、顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種對(duì)位標(biāo)記及其制備方法、基板、顯示面板、顯示裝置，對(duì)位標(biāo)記包括防護(hù)墻和用于與掩膜板之間進(jìn)行對(duì)位的對(duì)位標(biāo)記主體，所述對(duì)位標(biāo)記主體位于所述防護(hù)墻圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)。本發(fā)明提供的對(duì)位標(biāo)記中，對(duì)位標(biāo)記主體用于與掩膜板進(jìn)行對(duì)位，并且，對(duì)位標(biāo)記主體位于防護(hù)墻圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)，防護(hù)墻的存在能夠減少對(duì)位標(biāo)記主體周邊的圖案密度與結(jié)構(gòu)層中心位置圖案密度之間的差異，進(jìn)而減少了在蝕刻過程中刻蝕液對(duì)于對(duì)位標(biāo)記主體圖形造成的偏差影響，從而能夠提高掩膜板與結(jié)構(gòu)層之間的對(duì)位精度，提高后續(xù)對(duì)位精度。
【專利說(shuō)明】
一種對(duì)位標(biāo)記及其制備方法、基板、顯示面板、顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種對(duì)位標(biāo)記及其制備方法、基板、顯示面板、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，平板顯示包括液晶顯示(LiquidCrystal Display，LCD)、有機(jī)發(fā)光二極管顯不(Organic Light Emitting D1de，0LED)、等離子顯不(Plasma Display Panel，PDP)和電子墨水顯示等多種。OLED顯示器作為一種電流型發(fā)光器件，以其輕薄、主動(dòng)發(fā)光、快響應(yīng)速度、廣視角、可制作在柔性襯底上、色彩豐富及高亮度、低功耗、耐高低溫等眾多優(yōu)點(diǎn)而被業(yè)界公認(rèn)為是繼LCD顯示器之后的第三代顯示技術(shù)，可以廣泛用于智能手機(jī)、平板電腦、電視等終端廣品。
[0003]在現(xiàn)有的OLED顯示(即有機(jī)電致發(fā)光器件)的背板工藝中，從第二層開始，每層掩膜板(Mask)均需要使用對(duì)位標(biāo)記(Enhanced Global Alignment,EGA Mark)與結(jié)構(gòu)層之間進(jìn)行對(duì)位。但是，目前，由于結(jié)構(gòu)層形成的圖案中，結(jié)構(gòu)層邊緣部位的結(jié)構(gòu)圖形較少，在進(jìn)行蝕刻等工藝中，由于結(jié)構(gòu)層邊緣的圖形圖案的密度小于結(jié)構(gòu)層中心部位的圖形圖案密度，進(jìn)而使得結(jié)構(gòu)層的邊緣區(qū)域的蝕刻液分布與結(jié)構(gòu)層中心區(qū)域刻蝕液分布不均勻，從而影響結(jié)構(gòu)層邊緣部位形成的對(duì)位標(biāo)記的精度，從而導(dǎo)致后繼對(duì)位偏差甚至對(duì)位異常的發(fā)生。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供了一種對(duì)位標(biāo)記及其制備方法、基板、顯示面板、顯示裝置，該對(duì)位標(biāo)記受刻蝕液分布不均的影響較小，能夠提高后繼對(duì)位精度。
[0005]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
[0006]—種對(duì)位標(biāo)記，包括防護(hù)墻和用于與掩膜板之間進(jìn)行對(duì)位的對(duì)位標(biāo)記主體，所述對(duì)位標(biāo)記主體位于所述防護(hù)墻圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)。
[0007]本發(fā)明提供的對(duì)位標(biāo)記中，對(duì)位標(biāo)記主體用于與掩膜板進(jìn)行對(duì)位，并且，對(duì)位標(biāo)記主體位于防護(hù)墻圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)，防護(hù)墻的存在能夠減少對(duì)位標(biāo)記主體周邊的圖案密度與結(jié)構(gòu)層中心位置圖案密度之間的差異，進(jìn)而減少了在蝕刻過程中刻蝕液對(duì)于對(duì)位標(biāo)記主體圖形造成的偏差影響，從而能夠提高掩膜板與結(jié)構(gòu)層之間的對(duì)位精度，提高后續(xù)對(duì)位精度。
[0008]優(yōu)選地，所述防護(hù)墻上設(shè)有標(biāo)識(shí)機(jī)構(gòu)以使所述防護(hù)墻的形狀區(qū)別于所述對(duì)位標(biāo)記主體的形狀。
[0009]優(yōu)選地，所述防護(hù)墻上設(shè)有的標(biāo)識(shí)機(jī)構(gòu)包括多個(gè)連通所述防護(hù)墻的內(nèi)部區(qū)間與外部環(huán)境的通液通道。
[0010]優(yōu)選地，每一個(gè)所述防護(hù)墻設(shè)有四個(gè)所述通液通道，所述防護(hù)墻通過四個(gè)所述通液通道分割形成具有條形結(jié)構(gòu)的第一阻擋部、第二阻擋部、第三阻擋部以及第四阻擋部，所述第一阻擋部和第三阻擋部相對(duì)，且第二阻擋部與第四阻擋部相對(duì)。
[0011]優(yōu)選地，每一個(gè)所述防護(hù)墻中，所述第一阻擋部、第二阻擋部、第三阻擋部以及第四阻擋部朝向所述內(nèi)部區(qū)間的表面為平面。
[0012]優(yōu)選地，所述第一阻擋部朝向內(nèi)部區(qū)間的表面與所述第二阻擋部朝向所述內(nèi)部區(qū)間的表面垂直、且與第三阻擋部朝向內(nèi)部區(qū)間的表面平行，所述第二阻擋部朝向內(nèi)部區(qū)間的表面與第四阻擋部朝向內(nèi)部區(qū)間的表面平行。
[0013]優(yōu)選地，每一個(gè)所述防護(hù)墻中，所述第一阻擋部、第二阻擋部、第三阻擋部以及第四阻擋部朝向所述內(nèi)部區(qū)間的表面為曲面。
[0014]本發(fā)明還提供了一種基板，該基板包括上述技術(shù)方案中提供的任意一種對(duì)位標(biāo)記。
[0015]進(jìn)一步地，本發(fā)明還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括如上所述的基板。
[0016]進(jìn)一步地，本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括如上所述的顯示面板。
[0017]更進(jìn)一步地，本發(fā)明還提供了一種如上所述的對(duì)位標(biāo)記的制備方法，該方法包括:
[0018]在第一結(jié)構(gòu)層上形成第二結(jié)構(gòu)層；
[0019]對(duì)所述第二結(jié)構(gòu)層進(jìn)行構(gòu)圖，以得到對(duì)位標(biāo)記的圖案，其中，所述對(duì)位標(biāo)記位于所述第一結(jié)構(gòu)層的邊緣部位，且所述對(duì)位標(biāo)記包括對(duì)位標(biāo)記主體和防護(hù)墻，所述對(duì)位標(biāo)記主體位于所述防護(hù)墻圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)。
【附圖說(shuō)明】
[0020]附圖是用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說(shuō)明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。在附圖中:
[0021 ]圖1為本發(fā)明基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖2為本發(fā)明基板的防護(hù)墻的一種結(jié)構(gòu)俯視圖；
[0023]圖3為本發(fā)明基板的防護(hù)墻的另一種結(jié)構(gòu)俯視圖；
[0024]圖4位本發(fā)明基板的防護(hù)墻為弧形的一種結(jié)構(gòu)俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0025]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0026]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種對(duì)位標(biāo)記，如圖1所示，包括對(duì)位標(biāo)記主體I和防護(hù)墻2，該對(duì)位標(biāo)記主體I位于防護(hù)墻2圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)。
[0027]本發(fā)明提供的對(duì)位標(biāo)記中，對(duì)位標(biāo)記主體2用于與掩膜板進(jìn)行對(duì)位，并且，如圖1和圖4所示，對(duì)位標(biāo)記主體2位于防護(hù)墻3圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)，防護(hù)墻3的存在能夠減少對(duì)位標(biāo)記主體2周邊的圖案密度與結(jié)構(gòu)層I中心位置圖案密度之間的差異，需要說(shuō)明的是用于掩模板對(duì)位的對(duì)位標(biāo)記通常在其周圍不會(huì)有其他圖形的干擾，本實(shí)施例以陣列基板或者彩膜基板為例，如位標(biāo)記主體2周邊的圖案密度較結(jié)構(gòu)層I中心位置圖案密度來(lái)講要小，所以單獨(dú)的標(biāo)記主體2在形成時(shí)會(huì)由于刻蝕不均而造成圖案精度不高;本實(shí)施例的對(duì)位標(biāo)記則能減少在蝕刻過程中刻蝕液對(duì)于對(duì)位標(biāo)記主體2圖形造成的偏差影響，從而能夠提高掩膜板與結(jié)構(gòu)層I之間的對(duì)位精度，提高后續(xù)對(duì)位精度。
[0028]優(yōu)選地，如圖1所示，防護(hù)墻2上設(shè)有標(biāo)識(shí)機(jī)構(gòu)4以使防護(hù)墻2的形狀區(qū)別于對(duì)位標(biāo)記主體I的形狀。對(duì)應(yīng)不同的對(duì)位標(biāo)記主體2，防護(hù)墻3具有的標(biāo)識(shí)機(jī)構(gòu)4的形狀和位置都相應(yīng)不同，具體地應(yīng)該保證標(biāo)識(shí)機(jī)構(gòu)4的設(shè)置能夠在對(duì)位裝置在獲取結(jié)構(gòu)層I上形成的對(duì)位標(biāo)識(shí)主體2的位置時(shí)能夠很好地區(qū)分對(duì)位標(biāo)記主體I和防護(hù)墻2，進(jìn)而不會(huì)造成混淆。
[0029]—種【具體實(shí)施方式】中，如圖1、圖2以及圖3所示，上述防護(hù)墻3上設(shè)有的標(biāo)識(shí)機(jī)構(gòu)4可以包括多個(gè)連通防護(hù)墻3的內(nèi)部區(qū)間與外部環(huán)境的通液通道。這種結(jié)構(gòu)比較簡(jiǎn)單，便于形成；同時(shí)，通液通道能夠使刻蝕液緩慢地進(jìn)出防護(hù)墻3圍成的內(nèi)部區(qū)間，便于實(shí)現(xiàn)對(duì)防護(hù)墻3圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)的刻蝕液的更新，進(jìn)一步減小刻蝕液對(duì)位標(biāo)記主體2的刻蝕與對(duì)結(jié)構(gòu)層I中心部位圖案刻蝕的偏差。
[0030]具體地，如圖1-圖3所示，上述防護(hù)墻3設(shè)有四個(gè)上述通液通道，防護(hù)墻3通過四個(gè)通液通道分割形成具有條形結(jié)構(gòu)的第一阻擋部301、第二阻擋部302、第三阻擋部303以及第四阻擋部304，其中，第一阻擋部301和第三阻擋部303相對(duì)，且第二阻擋部302與第四阻擋部304相對(duì)。此處對(duì)于通液通道的數(shù)量?jī)?yōu)選為4個(gè)不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限定，可以為2個(gè)、3個(gè)甚至5個(gè)以上，4個(gè)通液通道給為契合實(shí)施例中的對(duì)位標(biāo)記主體2的形狀。
[0031]本發(fā)明各個(gè)條形阻擋部件的具體形狀不進(jìn)行限定，可以為各種各樣的條形結(jié)構(gòu)，以下簡(jiǎn)單描述幾個(gè)優(yōu)選的條形阻擋部件:
[0032]方式一，如圖1所示，在防護(hù)墻3中，第一阻擋部301、第二阻擋部302、第三阻擋部303以及第四阻擋部304朝向內(nèi)部區(qū)間的表面為平面;第一阻擋部301、第二阻擋部302、第三阻擋部303以及第四阻擋部304背離內(nèi)部區(qū)間的表面也為平面。
[0033]進(jìn)一步地，上述第一阻擋部301朝向內(nèi)部區(qū)間的表面與第二阻擋部302朝向內(nèi)部區(qū)間的表面垂直、且與第三阻擋部303朝向內(nèi)部區(qū)間的表面平行；第二阻擋部302朝向內(nèi)部區(qū)間的表面與第四阻擋部304朝向內(nèi)部區(qū)間的表面平行。
[0034]方式二，如圖2和圖3所示，在防護(hù)墻中，第一阻擋部301、第二阻擋部302、第三阻擋部303以及第四阻擋部304朝向內(nèi)部區(qū)間的表面為曲面。
[0035]當(dāng)然，如圖2所示，在上述方式二的基礎(chǔ)上，第一阻擋部301、第二阻擋部302、第三阻擋部303以及第四阻擋部304背離內(nèi)部區(qū)間的表面可以為平面。其中，第一阻擋部301朝向內(nèi)部區(qū)間的表面與第二阻擋部302朝向內(nèi)部區(qū)間的表面垂直、且與第三阻擋部303朝向內(nèi)部區(qū)間的表面平行;第二阻擋部302朝向內(nèi)部區(qū)間的表面與第四阻擋部304朝向內(nèi)部區(qū)間的表面平行。
[0036]當(dāng)然，在上述方式二的基礎(chǔ)上，如圖3所示，在防護(hù)墻中，當(dāng)?shù)谝蛔钃醪?01、第二阻擋部302、第三阻擋部303以及第四阻擋部304朝向內(nèi)部區(qū)間的表面為曲面;第一阻擋部301、第二阻擋部302、第三阻擋部303以及第四阻擋部304背離內(nèi)部區(qū)間的表面也為曲面;而且從上往下俯視整個(gè)基板表面時(shí)該四條阻擋部圍成一個(gè)圓形。
[0037]其中，第一阻擋部301與第三阻擋部303關(guān)于第二阻擋部302和第四阻擋部304的中間點(diǎn)連線對(duì)稱;第二阻擋部302與第四阻擋部304關(guān)于第一阻擋部301和第三阻擋部303的中間點(diǎn)連線對(duì)稱。
[0038]另外，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種基板，該基板包括上述實(shí)施方式提供的任意一種對(duì)位標(biāo)記。
[0039]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括如上所述的基板。
[0040]進(jìn)一步地，本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括如上所述的顯示面板。
[0041]基于相同的發(fā)明構(gòu)思，更進(jìn)一步地，本發(fā)明還提供了一種如上所述的對(duì)位標(biāo)記的制備方法，該方法包括:
[0042]在第一結(jié)構(gòu)層上形成第二結(jié)構(gòu)層；
[0043]對(duì)第二結(jié)構(gòu)層進(jìn)行構(gòu)圖以得到對(duì)位標(biāo)記的圖案，其中，對(duì)位標(biāo)記位于第一結(jié)構(gòu)層的邊緣部位，且對(duì)位標(biāo)記包括對(duì)位標(biāo)記主體和防護(hù)墻，對(duì)位標(biāo)記主體位于防護(hù)墻圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)。
[0044]優(yōu)選地，上述形成對(duì)位標(biāo)記的圖案時(shí)，對(duì)位標(biāo)記中的對(duì)位標(biāo)記主體和防護(hù)墻通過一次濕法刻蝕構(gòu)圖工藝形成。
[0045]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，包括防護(hù)墻和用于與掩膜板之間進(jìn)行對(duì)位的對(duì)位標(biāo)記主體，所述對(duì)位標(biāo)記主體位于所述防護(hù)墻圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，所述防護(hù)墻上設(shè)有標(biāo)識(shí)機(jī)構(gòu)以使所述防護(hù)墻的形狀區(qū)別于所述對(duì)位標(biāo)記主體的形狀。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，所述防護(hù)墻上設(shè)有的標(biāo)識(shí)機(jī)構(gòu)包括多個(gè)連通所述防護(hù)墻的內(nèi)部區(qū)間與外部環(huán)境的通液通道。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，所述防護(hù)墻設(shè)有四個(gè)所述通液通道，所述防護(hù)墻通過四個(gè)所述通液通道分割形成具有條形結(jié)構(gòu)的第一阻擋部、第二阻擋部、第三阻擋部以及第四阻擋部，所述第一阻擋部和第三阻擋部相對(duì)，且第二阻擋部與第四阻擋部相對(duì)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，所述防護(hù)墻中，所述第一阻擋部、第二阻擋部、第三阻擋部以及第四阻擋部朝向所述內(nèi)部區(qū)間的表面為平面。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，所述第一阻擋部朝向內(nèi)部區(qū)間的表面與所述第二阻擋部朝向所述內(nèi)部區(qū)間的表面垂直、且與第三阻擋部朝向內(nèi)部區(qū)間的表面平行，所述第二阻擋部朝向內(nèi)部區(qū)間的表面與第四阻擋部朝向內(nèi)部區(qū)間的表面平行。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的對(duì)位標(biāo)記，其特征在于，所述防護(hù)墻中，所述第一阻擋部、第二阻擋部、第三阻擋部以及第四阻擋部朝向所述內(nèi)部區(qū)間的表面為曲面。8.一種基板，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的對(duì)位標(biāo)記。9.一種顯示面板，其特征在于，包括如權(quán)利要求8所述的基板。10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求9所述的顯示面板。11.一種如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的對(duì)位標(biāo)記的制備方法，其特征在于，包括: 在第一結(jié)構(gòu)層上形成第二結(jié)構(gòu)層； 對(duì)所述第二結(jié)構(gòu)層進(jìn)行構(gòu)圖，以得到對(duì)位標(biāo)記的圖案，其中，所述對(duì)位標(biāo)記位于所述第一結(jié)構(gòu)層的邊緣部位，且所述對(duì)位標(biāo)記包括對(duì)位標(biāo)記主體和防護(hù)墻，所述對(duì)位標(biāo)記主體位于所述防護(hù)墻圍成的內(nèi)部區(qū)間內(nèi)。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制備方法，其特征在于，對(duì)所述第二結(jié)構(gòu)層進(jìn)行構(gòu)圖時(shí)，所述對(duì)位標(biāo)記中的對(duì)位標(biāo)記主體和防護(hù)墻通過一次濕法刻蝕構(gòu)圖工藝形成。
【文檔編號(hào)】H01L51/56GK105870103SQ201610379091
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年5月31日
【發(fā)明人】田宏偉, 牛亞男, 劉亮亮, 張朝波, 綽洛鵬
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司