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      一種離子束流采集裝置的制造方法

      文檔序號(hào):10536738閱讀:194來源:國知局
      一種離子束流采集裝置的制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種離子束流采集裝置,包括):接束杯(1)、前擋光板(2)、氣冷裝置(3)、側(cè)擋光板(4)、永久磁鐵(5)和束流縫隙(6)。其中離子束流通過束流縫隙(6)在永久磁鐵(5)的聚焦作用下進(jìn)入接束杯(1)中進(jìn)行測(cè)量。前擋光板(2)和側(cè)擋光板(4)擋住束流縫隙(6)之外的離子束,防止離子束直接轟擊接束杯(1),氣冷裝(3)置對(duì)接束杯(1)進(jìn)行冷卻。
      【專利說明】
      一種離子束流采集裝置
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體領(lǐng)域工藝設(shè)備的測(cè)量裝置,尤其涉及一種精確測(cè)量的方式,該裝置是離子注入機(jī)中注入、工藝測(cè)試不可缺少的裝置,該裝置是低能大束流離子注入裝備中的關(guān)鍵裝置之一。
      【背景技術(shù)】
      [0002]隨著半導(dǎo)體工藝的發(fā)展,束流的穩(wěn)定性及測(cè)量的精準(zhǔn)度對(duì)于離子注入系統(tǒng)愈發(fā)重要,對(duì)注入產(chǎn)品的質(zhì)量、效率和離子注入機(jī)的產(chǎn)業(yè)化有著很大的影響。束流采集裝置在離子注入過程中起到至關(guān)重要的作用,束流采集裝置是在注入工藝實(shí)現(xiàn)之前的前道測(cè)量系統(tǒng),不論在任何時(shí)候只要硅片注入首先必須先進(jìn)行束流的采集、測(cè)量。在經(jīng)過精確的離子劑量校準(zhǔn)之后才可以進(jìn)行后期的工藝注入。束流采集裝置在離子注入機(jī)中的重要性顯而易見。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本發(fā)明公開了一種離子束流采集裝置,主要用于離子注入機(jī)系統(tǒng),離子束流采集裝置所采集束流的精準(zhǔn)度對(duì)離子注入工藝的穩(wěn)定性,和注入系統(tǒng)的工作效率起到至關(guān)重要的作用。
      [0004]本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
      [0005]離子束流采集裝置,包括:接束杯(I)、前擋光板(2)、氣冷裝置(3)、側(cè)擋光板(4)、永久磁鐵(5)和束流縫隙(6)。其特征在于:離子束流通過束流縫隙(6)在永久磁鐵(5)的聚焦作用下進(jìn)入接束杯(I)中進(jìn)行測(cè)量。前擋光板(2)和側(cè)擋光板(4)擋住束流縫隙(6)之外的離子束,防止離子束直接轟擊接束杯(1),氣冷裝(3)置對(duì)接束杯(I)進(jìn)行冷卻。
      【具體實(shí)施方式】
      [0006]1、包括:接束杯(I)、前擋光板(2)、氣冷裝置(3)、側(cè)擋光板(4)、永久磁鐵(5)和束流縫隙(6)。
      [0007]2、離子束流采集過程為:離子束流通過束流縫隙(6)首先要經(jīng)過永久磁鐵聚焦后進(jìn)入接束杯(I),使得經(jīng)過聚焦后的離子束流測(cè)量更加精準(zhǔn)、穩(wěn)定,保障后期劑量控制的穩(wěn)定性。
      [0008]3、永久磁鐵(5),聚焦作用,使得經(jīng)過聚焦后的離子束流測(cè)量更加精準(zhǔn)、穩(wěn)定,保障后期劑量控制的穩(wěn)定性。
      [0009]4、前擋光板(2)和側(cè)擋光板(4),擋住束流縫隙(6)之外的離子束,防止離子束直接轟擊接束杯(I)。
      [0010]5、氣冷裝(3),控制接束杯⑴的溫度。
      [0011]本發(fā)明專利的特定實(shí)施例已對(duì)本發(fā)明專利的內(nèi)容做了詳盡說明。對(duì)本領(lǐng)域一般技術(shù)人員而言,在不背離本發(fā)明專利精神的前提下對(duì)它所做的任何顯而易見的改動(dòng),都構(gòu)成對(duì)本發(fā)明專利的侵犯,將承擔(dān)相應(yīng)的法律責(zé)任。
      【附圖說明】
      [0012]圖1離子束流采集裝置機(jī)械結(jié)構(gòu)總裝圖
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.離子束流采集裝置,包括:接束杯(I)、前擋光板(2)、氣冷裝置(3)、側(cè)擋光板(4)、永久磁鐵(5)和束流縫隙(6)。其特征在于:離子束流通過束流縫隙(6)在永久磁鐵(5)的聚焦作用下進(jìn)入接束杯(I)中進(jìn)行測(cè)量。前擋光板(2)和側(cè)擋光板(4)擋住束流縫隙(6)之外的離子束,防止離子束直接轟擊接束杯(1),氣冷裝(3)置對(duì)接束杯(I)進(jìn)行冷卻。2.如權(quán)利要求1所示的一種離子束流采集裝置,永久磁鐵(5)其特征在于:離子束流通過束流縫隙(6)首先要經(jīng)過永久磁鐵聚焦后進(jìn)入接束杯(I),使得經(jīng)過聚焦后的離子束流測(cè)量更加精準(zhǔn)、穩(wěn)定,保障后期劑量控制的穩(wěn)定性。3.如權(quán)利要求1所示的一種離子束流采集裝置,前擋光板⑵和側(cè)擋光板⑷其特征在于:擋住束流縫隙(6)之外的離子束,防止離子束直接轟擊接束杯(I)。4.如權(quán)利要求1所示的一種離子束流采集裝置,氣冷裝(3)其特征在于:控制接束杯(I)的溫度。
      【文檔編號(hào)】H01J37/02GK105895480SQ201410581873
      【公開日】2016年8月24日
      【申請(qǐng)日】2014年10月27日
      【發(fā)明人】李幸夫
      【申請(qǐng)人】北京中科信電子裝備有限公司
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