一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置及清洗方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，包括：化學(xué)槽、水洗槽、擋板以及基板傳送通道，其中，所述擋板上連接有振動馬達(dá)，所述基板傳送通道下方設(shè)有傳感器，當(dāng)所述傳感器檢測到第一片所述玻璃基板的前端通過所述基板通道到達(dá)預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述基板傳送通道停止傳送所述玻璃基板，且所述振動馬達(dá)啟動工作以使所述擋板振動，將所述擋板上的所述藥液凝結(jié)成的液滴振落，當(dāng)所述振動馬達(dá)停止振動時(shí)，所述基板傳送通道繼續(xù)將第一片所述玻璃基板通過所述化學(xué)槽傳送至所述水洗槽。本發(fā)明可以防止生產(chǎn)過程中擋板上的藥液液滴滴落到玻璃基板上，導(dǎo)致玻璃基板出現(xiàn)不清晰的現(xiàn)象。
【專利說明】
一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置及清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置及清洗方法。
【【背景技術(shù)】】
[0002]液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有機(jī)身薄、省電、無福射等眾多優(yōu)點(diǎn)，得到了廣泛的應(yīng)用，如:液晶電視、移動電話、個人數(shù)字助理(PDA)、數(shù)字相機(jī)、計(jì)算機(jī)屏幕或筆記本電腦屏幕等，在平板顯示領(lǐng)域中占主導(dǎo)地位?，F(xiàn)有市場上的液晶顯示器大部分為背光型液晶顯不器，其包括液晶顯不面板及背光t旲組(backlight module)。液晶顯不面板的工作原理是在薄膜晶體管陣列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFTArray Substrate)與彩色濾光片(Color F i I ter，CF)基板及彩膜基板之間灌入液晶分子，并在兩片基板上施加驅(qū)動電壓來控制液晶分子的旋轉(zhuǎn)方向，以將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。
[0003]目前，在薄膜晶體管(ThinFilm Transistor，TFT)基板制作過程中，需要使用各種濕式機(jī)臺進(jìn)行清洗、刻蝕、顯影等制程，這些濕式機(jī)臺會用到各種不同的藥液，如濕法刻蝕機(jī)進(jìn)行刻蝕時(shí)，會使用含有硝酸、磷酸、醋酸、鹽酸等物質(zhì)的化學(xué)藥液，如氫氟酸清洗機(jī)清洗過程中會用到氫氟酸藥液。在生產(chǎn)過程中，這類設(shè)備盛放藥液的單元會產(chǎn)生含有藥液成分的揮發(fā)性氣體，揮發(fā)性氣體會在設(shè)備內(nèi)壁凝結(jié)，然后回流到藥液化學(xué)槽。但是阻隔不同單元的擋板安裝在玻璃基板通道的正上方，擋板上凝結(jié)的液滴經(jīng)常會直接滴落到玻璃基板表面，造成玻璃基板滴落區(qū)域膜面異常，導(dǎo)致液晶顯示器出現(xiàn)亮度不均勻的問題。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置及清洗方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中，在生產(chǎn)液晶面板時(shí)，阻隔不同單元的擋板上凝結(jié)的液滴經(jīng)常會直接滴落到玻璃基板表面，導(dǎo)致液晶顯示器出現(xiàn)亮度不均勻的問題。
[0005]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
[0006]—種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，包括:
[0007]化學(xué)槽，用于盛放蝕刻玻璃基板的藥液；
[0008]水洗槽，用于清洗經(jīng)過所述藥液蝕刻過的所述玻璃基板；
[0009]擋板，垂直設(shè)在所述化學(xué)槽與所述水洗槽的上方之間，用于將所述化學(xué)槽與所述水洗槽阻隔開，以避免所述藥液污染所述水洗槽；
[0010]基板傳送通道，位于所述擋板的下方，其由滾輪帶動傳送帶進(jìn)行傳送，用于連接所述化學(xué)槽與所述水洗槽，將多片間隔均勻的所述玻璃基板，依次從所述化學(xué)槽傳送至所述水洗槽；
[0011]其中，所述擋板上連接有振動馬達(dá)，所述基板傳送通道下方設(shè)有傳感器，當(dāng)所述傳感器檢測到第一片所述玻璃基板的前端通過所述基板通道到達(dá)預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述基板傳送通道停止傳送所述玻璃基板，且所述振動馬達(dá)啟動工作以使所述擋板振動，將所述擋板上的所述藥液凝結(jié)成的液滴振落，當(dāng)所述振動馬達(dá)停止振動時(shí)，所述基板傳送通道繼續(xù)將第一片所述玻璃基板通過所述化學(xué)槽傳送至所述水洗槽，后續(xù)各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通過所述擋板到達(dá)所述水洗槽。
[0012]優(yōu)選地，所述預(yù)設(shè)位置位于所述化學(xué)槽一側(cè)對應(yīng)的所述基板傳送通道上。
[0013]優(yōu)選地，所述預(yù)設(shè)位置至所述擋板正下方的水平距離，大于所述藥液的液滴從所述擋板上飛濺到所述玻璃基板上的最大水平距離。
[0014]優(yōu)選地，所述振動馬達(dá)設(shè)有振動時(shí)間長度，所述振動時(shí)間長度根據(jù)所述振動馬達(dá)的振動頻率而定。
[0015]優(yōu)選地，相鄰兩片所述玻璃基板之間的間隔距離，大于所述預(yù)設(shè)位置到所述擋板正下方的水平距離的兩倍。
[0016]—種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗方法，所述濕式蝕刻機(jī)臺包括上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的清洗裝置，所述清洗方法包括以下步驟:
[0017]所述傳感器實(shí)時(shí)檢測多片間隔均勻的所述玻璃基板在所述基板傳送通道的位置；
[0018]當(dāng)檢測到第一片所述玻璃基板到達(dá)所述預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述基板傳送通道停止轉(zhuǎn)動，且所述振動馬達(dá)啟動工作以使所述擋板振動；
[0019]所述擋板振動結(jié)束后，所述基板傳送通道繼續(xù)傳送第一片所述玻璃基板通過所述擋板。
[0020]優(yōu)選地，所述擋板振動結(jié)束后，所述基板傳送通道繼續(xù)傳送第一片所述玻璃基板至所述水洗槽，之后還包括:
[0021]后續(xù)各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通過所述擋板到達(dá)所述水洗槽。
[0022]—種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，包括:
[0023]化學(xué)槽，用于盛放蝕刻玻璃基板的藥液；
[0024]水洗槽，用于清洗經(jīng)過所述藥液蝕刻過的所述玻璃基板；
[0025]擋板，垂直設(shè)在所述化學(xué)槽與所述水洗槽的上方之間，用于將所述化學(xué)槽與所述水洗槽阻隔開，以避免所述藥液污染所述水洗槽；
[0026]基板傳送通道，位于所述擋板的下方，其由滾輪帶動傳送帶進(jìn)行傳送，用于連接所述化學(xué)槽與所述水洗槽，將多片間隔均勻的所述玻璃基板，依次從所述化學(xué)槽傳送至所述水洗槽；
[0027]其中，所述擋板上連接有振動馬達(dá)，所述基板傳送通道下方設(shè)有傳感器，當(dāng)所述傳感器檢測到第一片所述玻璃基板的前端通過所述基板通道到達(dá)第一預(yù)定位置時(shí)，所述振動馬達(dá)啟動工作以使所述擋板振動，將所述擋板上的所述藥液凝結(jié)成的液滴振落，當(dāng)所述傳感器檢測到所述玻璃基板的前端通過所述基板傳送通道到達(dá)第二預(yù)定位置時(shí)，當(dāng)所述振動馬達(dá)停止振動，直至第一片所述玻璃基板的后端到達(dá)第三預(yù)定位置之后，所述振動馬達(dá)按照上述程序重新啟動工作。
[0028]優(yōu)選地，所述第一預(yù)定位置與所述第二預(yù)定位置均位于所述化學(xué)槽一側(cè)的所述基板傳送通道上，所述第三預(yù)定位置位于所述水洗槽一側(cè)的所述基板傳送通道上，所述第二預(yù)定位置與第三預(yù)定位置關(guān)于所述擋板對稱。
[0029]優(yōu)選地，相鄰兩片所述玻璃基板之間的間隔距離大于或等于所述第一預(yù)定位置到所述第三預(yù)定位置的水平距離。
[0030]本發(fā)明的有益效果:
[0031]本發(fā)明的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置及清洗方法，通過在擋板上連接振動馬達(dá)，并在玻璃基板通道下面設(shè)置傳感器，由傳感器檢測玻璃基板通過擋板過程中的預(yù)設(shè)位置，及時(shí)啟動振動馬達(dá)將擋板上的藥液液滴振落，避免了擋板上的藥液液滴滴落到玻璃基板上污染玻璃基板，導(dǎo)致液晶顯示器出現(xiàn)亮度不均勻的問題。
【【附圖說明】】
[0032]圖1為本發(fā)明實(shí)施例的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置的整體裝置示意圖；
[0033]圖2為本發(fā)明實(shí)施例的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置整體結(jié)構(gòu)的剖面示意圖；
[0034]圖3為本發(fā)明實(shí)施例的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗方法實(shí)施步驟示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0035]以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。在圖中，結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號表示。
[0036]實(shí)施例一
[0037]請參考圖1，圖1為本實(shí)施例的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置的整體裝置示意圖，從圖1可以看到，本發(fā)明的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，包括:
[0038]化學(xué)槽10，用于盛放蝕刻玻璃基板70的藥液80。
[0039]水洗槽20，用于清洗經(jīng)過所述藥液80蝕刻過的所述玻璃基板70。
[0040]擋板30，垂直設(shè)在所述化學(xué)槽10與所述水洗槽20的上方之間，用于將所述化學(xué)槽10與所述水洗槽20阻隔開，以避免所述藥液80污染所述水洗槽20。
[0041 ]基板傳送通道60，位于所述擋板30的下方，其由滾輪帶動傳送帶進(jìn)行傳送，用于連接所述化學(xué)槽10與所述水洗槽20，將多片間隔均勻的所述玻璃基板70，依次從所述化學(xué)槽10傳送至所述水洗槽20。
[0042]其中，所述擋板30上連接有振動馬達(dá)40，所述基板傳送通道60下方設(shè)有傳感器50，當(dāng)所述傳感器50檢測到第一片所述玻璃基板70的前端通過所述基板通道到達(dá)預(yù)設(shè)位置(圖中未標(biāo)示)時(shí)，所述基板傳送通道60停止傳送所述玻璃基板70，且所述振動馬達(dá)40啟動工作以使所述擋板30振動，將所述擋板30上的所述藥液80凝結(jié)成的液滴振落，當(dāng)所述振動馬達(dá)40停止振動時(shí)，所述基板傳送通道60繼續(xù)將第一片所述玻璃基板70通過所述化學(xué)槽10傳送至所述水洗槽20，后續(xù)各片所述玻璃基板70，依次按照第一片所述玻璃基板70的方式通過所述擋板30到達(dá)所述水洗槽20。
[0043]在本實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)位置位于所述化學(xué)槽10—側(cè)對應(yīng)的所述基板傳送通道60上，所述預(yù)設(shè)位置為一個固定的位置，它距離擋板30正下方的所述基板傳送通道60有一個固定距離。
[0044]在本實(shí)施例中，所述預(yù)設(shè)位置至所述擋板30正下方的所述基板傳送通道60上的水平距離，大于所述藥液80的液滴從所述擋板30上飛濺到所述玻璃基板70上的最大水平距離。這是就保證了所述玻璃基板70不會受到所述擋板30上的所述藥液80凝結(jié)成的液滴的污染。
[0045]在本實(shí)施例中，所述振動馬達(dá)40設(shè)有振動時(shí)間長度，所述振動時(shí)間長度根據(jù)所述振動馬達(dá)40的振動頻率而定。振動頻率大，所述擋板30上的液滴也會被振落得比較快，反之就振落得比較慢。
[0046]在本實(shí)施例中，相鄰兩片所述玻璃基板70之間的間隔距離，大于所述預(yù)設(shè)位置到所述擋板30正下方的水平距離的兩倍。這樣也可以保證所述玻璃基板70不會受到所述擋板30上的所述藥液80凝結(jié)成的液滴的污染。
[0047]本發(fā)明的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，通過在擋板30上連接振動馬達(dá)40，并在玻璃基板70通道下面設(shè)置傳感器50，由傳感器50檢測玻璃基板70通過擋板30過程中的預(yù)設(shè)位置，及時(shí)啟動振動馬達(dá)40將擋板30上的藥液80液滴振落，避免了擋板30上的藥液80液滴滴落到玻璃基板70上污染玻璃基板70，導(dǎo)致液晶顯示器出現(xiàn)亮度不均勻的問題。
[0048]實(shí)施例二
[0049]請參考圖1和圖2，圖1為本實(shí)施例的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置的整體裝置示意圖，圖2為本實(shí)施例的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置整體結(jié)構(gòu)的剖面示意圖，從圖1和圖2可以看到，本發(fā)明的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，包括:
[0050]一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，包括:
[0051 ]化學(xué)槽10，用于盛放蝕刻玻璃基板70的藥液80;
[0052]水洗槽20，用于清洗經(jīng)過所述藥液80蝕刻過的所述玻璃基板70。
[0053]擋板30，垂直設(shè)在所述化學(xué)槽10與所述水洗槽20的上方之間，用于將所述化學(xué)槽10與所述水洗槽20阻隔開，以避免所述藥液80污染所述水洗槽20。
[0054]基板30傳送通道，位于所述擋板30的下方，其由滾輪帶動傳送帶進(jìn)行傳送，用于連接所述化學(xué)槽10與所述水洗槽20，將多片間隔均勻的所述玻璃基板70，依次從所述化學(xué)槽10傳送至所述水洗槽20。
[0055]其中，所述擋板30上連接有振動馬達(dá)40，所述基板傳送通道60下方設(shè)有傳感器50，當(dāng)所述傳感器50檢測到第一片所述玻璃基板70的前端通過所述基板通道到達(dá)第一預(yù)定位置I時(shí)，所述振動馬達(dá)40啟動工作以使所述擋板30振動，將所述擋板30上的所述藥液80凝結(jié)成的液滴振落，當(dāng)所述傳感器50檢測到所述玻璃基板70的前端通過所述基板傳送通道60到達(dá)第二預(yù)定位置2時(shí)，當(dāng)所述振動馬達(dá)40停止振動，直至第一片所述玻璃基板70的后端到達(dá)第三預(yù)定位置3之后，所述振動馬達(dá)40按照上述程序重新啟動工作。
[0056]在本實(shí)施例中，所述第一預(yù)定位置I與所述第二預(yù)定位置2均位于所述化學(xué)槽10—側(cè)的所述基板傳送通道60上，所述第三預(yù)定位置3位于所述水洗槽20—側(cè)的所述基板傳送通道60上，所述第二預(yù)定位置2與第三預(yù)定位置3關(guān)于所述擋板30對稱。所述第一預(yù)定位置I距離所述擋板30正下方的所述基板傳送通道60上的距離，大于所述藥液80的液滴從所述擋板30上飛濺到所述玻璃基板70上的最大水平距離。
[0057]在本實(shí)施例中，相鄰兩片所述玻璃基板70之間的間隔距離大于或等于所述第一預(yù)定位置I到所述第三預(yù)定位置3的水平距離，這樣就使得所述玻璃基板70不會受到所述擋板30上的所述藥液80凝結(jié)成的液滴的污染。
[0058]本發(fā)明的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，通過在擋板30上連接振動馬達(dá)40，并在玻璃基板70通道下面設(shè)置傳感器50，由傳感器50檢測玻璃基板70通過擋板30過程中的預(yù)設(shè)位置，及時(shí)啟動振動馬達(dá)40將擋板30上的藥液80液滴振落，避免了擋板30上的藥液80液滴滴落到玻璃基板70上污染玻璃基板70，導(dǎo)致液晶顯示器出現(xiàn)亮度不均勻的問題。
[0059]實(shí)施例三
[0060]請參考圖3，圖3為本實(shí)施例的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗方法實(shí)施步驟示意圖，所述濕式蝕刻機(jī)臺為實(shí)施例一所述的清洗裝置，從圖3可以看到，本發(fā)明的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗方法，包括以下步驟:
[0061 ]步驟SlOl:所述傳感器50實(shí)時(shí)檢測多片間隔均勻的所述玻璃基板70在所述基板傳送通道60的位置。
[0062]步驟S102:當(dāng)檢測到第一片所述玻璃基板70到達(dá)所述預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述基板傳送通道60停止轉(zhuǎn)動，且所述振動馬達(dá)40啟動工作以使所述擋板30振動。
[0063]步驟S103:所述擋板30振動結(jié)束后，所述基板傳送通道60繼續(xù)傳送第一片所述玻璃基板70通過所述擋板30。
[0064]步驟S104:后續(xù)各片所述玻璃基板70，依次按照第一片所述玻璃基板70的方式通過所述擋板30到達(dá)所述水洗槽20。
[0065]本發(fā)明的一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗方法，通過在擋板30上連接振動馬達(dá)40，并在玻璃基板70通道下面設(shè)置傳感器50，由傳感器50檢測玻璃基板70通過擋板30過程中的預(yù)設(shè)位置，及時(shí)啟動振動馬達(dá)40將擋板30上的藥液80液滴振落，避免了擋板30上的藥液80液滴滴落到玻璃基板70上污染玻璃基板70，導(dǎo)致液晶顯示器出現(xiàn)亮度不均勻的問題。
[0066]綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，其特征在于，包括: 化學(xué)槽，用于盛放蝕刻玻璃基板的藥液； 水洗槽，用于清洗經(jīng)過所述藥液蝕刻過的所述玻璃基板； 擋板，垂直設(shè)在所述化學(xué)槽與所述水洗槽的上方之間，用于將所述化學(xué)槽與所述水洗槽阻隔開，以避免所述藥液污染所述水洗槽； 基板傳送通道，位于所述擋板的下方，其由滾輪帶動傳送帶進(jìn)行傳送，用于連接所述化學(xué)槽與所述水洗槽，將多片間隔均勻的所述玻璃基板，依次從所述化學(xué)槽傳送至所述水洗槽； 其中，所述擋板上連接有振動馬達(dá)，所述基板傳送通道下方設(shè)有傳感器，當(dāng)所述傳感器檢測到第一片所述玻璃基板的前端通過所述基板通道到達(dá)預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述基板傳送通道停止傳送所述玻璃基板，且所述振動馬達(dá)啟動工作以使所述擋板振動，將所述擋板上的所述藥液凝結(jié)成的液滴振落，當(dāng)所述振動馬達(dá)停止振動時(shí)，所述基板傳送通道繼續(xù)將第一片所述玻璃基板通過所述化學(xué)槽傳送至所述水洗槽，后續(xù)各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通過所述擋板到達(dá)所述水洗槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述預(yù)設(shè)位置位于所述化學(xué)槽一側(cè)對應(yīng)的所述基板傳送通道上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述預(yù)設(shè)位置至所述擋板正下方的水平距離，大于所述藥液的液滴從所述擋板上飛濺到所述玻璃基板上的最大水平距離。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述振動馬達(dá)設(shè)有振動時(shí)間長度，所述振動時(shí)間長度根據(jù)所述振動馬達(dá)的振動頻率而定。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，相鄰兩片所述玻璃基板之間的間隔距離，大于所述預(yù)設(shè)位置到所述擋板正下方的水平距離的兩倍。6.—種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗方法，所述濕式蝕刻機(jī)臺包括權(quán)利要求1至5的任一項(xiàng)所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗方法包括以下步驟: 所述傳感器實(shí)時(shí)檢測多片間隔均勻的所述玻璃基板在所述基板傳送通道的位置； 當(dāng)檢測到第一片所述玻璃基板到達(dá)所述預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述基板傳送通道停止轉(zhuǎn)動，且所述振動馬達(dá)啟動工作以使所述擋板振動； 所述擋板振動結(jié)束后，所述基板傳送通道繼續(xù)傳送第一片所述玻璃基板通過所述擋板。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗方法，其特征在于，所述擋板振動結(jié)束后，所述基板傳送通道繼續(xù)傳送第一片所述玻璃基板至所述水洗槽，之后還包括: 后續(xù)各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通過所述擋板到達(dá)所述水洗槽。8.一種濕式蝕刻機(jī)臺的清洗裝置，其特征在于，包括: 化學(xué)槽，用于盛放蝕刻玻璃基板的藥液； 水洗槽，用于清洗經(jīng)過所述藥液蝕刻過的所述玻璃基板； 擋板，垂直設(shè)在所述化學(xué)槽與所述水洗槽的上方之間，用于將所述化學(xué)槽與所述水洗槽阻隔開，以避免所述藥液污染所述水洗槽； 基板傳送通道，位于所述擋板的下方，其由滾輪帶動傳送帶進(jìn)行傳送，用于連接所述化學(xué)槽與所述水洗槽，將多片間隔均勻的所述玻璃基板，依次從所述化學(xué)槽傳送至所述水洗槽； 其中，所述擋板上連接有振動馬達(dá)，所述基板傳送通道下方設(shè)有傳感器，當(dāng)所述傳感器檢測到第一片所述玻璃基板的前端通過所述基板通道到達(dá)第一預(yù)定位置時(shí)，所述振動馬達(dá)啟動工作以使所述擋板振動，將所述擋板上的所述藥液凝結(jié)成的液滴振落，當(dāng)所述傳感器檢測到所述玻璃基板的前端通過所述基板傳送通道到達(dá)第二預(yù)定位置時(shí)，當(dāng)所述振動馬達(dá)停止振動，直至第一片所述玻璃基板的后端到達(dá)第三預(yù)定位置之后，所述振動馬達(dá)按照上述程序重新啟動工作。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清洗裝置，其特征在于，所述第一預(yù)定位置與所述第二預(yù)定位置均位于所述化學(xué)槽一側(cè)的所述基板傳送通道上，所述第三預(yù)定位置位于所述水洗槽一側(cè)的所述基板傳送通道上，所述第二預(yù)定位置與第三預(yù)定位置關(guān)于所述擋板對稱。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清洗裝置，其特征在于，相鄰兩片所述玻璃基板之間的間隔距離大于或等于所述第一預(yù)定位置到所述第三預(yù)定位置的水平距離。
【文檔編號】H01L21/02GK105895564SQ201610294306
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年5月6日
【發(fā)明人】劉思洋
【申請人】武漢華星光電技術(shù)有限公司