制造顯示裝置的設(shè)備的制造方法
【專利摘要】公開了一種用于制造顯示裝置的設(shè)備，所述設(shè)備包括：裝載室，構(gòu)造成從外部接收基板；傳送室，連接到裝載室并且包括構(gòu)造成輸送基板的機(jī)械手臂；沉積室，連接到傳送室并且構(gòu)造成在基板從傳送室輸送到沉積室之后將沉積材料沉積到基板上；掩模供給室，連接到沉積室并構(gòu)造成向沉積室供給堆疊在掩模供給室中的多個掩模中的一個；以及站，連接到掩模供給室并且構(gòu)造成向掩模供給室逐個地供給所述多個掩模。
【專利說明】制造顯示裝置的設(shè)備
[0001 ] 本申請要求于2015年2月16日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2015-0023148號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益，所述申請的公開內(nèi)容通過引用全部包含于此。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]—個或更多個示例性實(shí)施例的方面涉及一種用于制造顯示裝置的設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0003]包括顯示面板的電子裝置被廣泛使用。諸如移動電話的小型裝置和平板PC近來被廣泛地用作電子裝置。另外，TV和監(jiān)視器是通常使用的電子裝置。
[0004]為了支持各種功能，電子裝置包括用于向用戶顯示諸如圖像的視覺信息的顯示單元。近來，隨著用于驅(qū)動顯示單元的其他部件已經(jīng)被小型化，電子裝置中的被顯示單元占據(jù)的區(qū)域已經(jīng)逐漸增大。因此，已經(jīng)開發(fā)了可從平坦?fàn)顟B(tài)改變成結(jié)構(gòu)在預(yù)定角度下彎曲的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]附加的方面將在隨后的描述中被部分地闡述，并且通過描述部分地將是明顯的，或者可通過提供的實(shí)施例的實(shí)踐來了解。
[0006]根據(jù)一個或更多個示例性實(shí)施例，提供了一種用于制造顯示裝置的設(shè)備，所述設(shè)備包括:裝載室，構(gòu)造成從外部接收基板;傳送室，連接到裝載室并且包括構(gòu)造成輸送基板的機(jī)械手臂;沉積室，連接到傳送室并且構(gòu)造成在基板從傳送室輸送到沉積室之后將沉積材料沉積到基板上;掩模供給室，連接到沉積室并構(gòu)造成向沉積室供給堆疊在掩模供給室中的多個掩模中的一個；以及站，連接到掩模供給室并且構(gòu)造成向掩模供給室逐個地供給所述多個掩模。
[0007]在實(shí)施例中，傳送室包括:第一傳送室；以及第二傳送室，與第一傳送室分隔開并且經(jīng)由連接室連接到第一傳送室，其中，沉積室包括:第一沉積室，連接到第一傳送室；以及第二沉積室，連接到第二傳送室并且與第一沉積室分隔開。
[0008]在實(shí)施例中，掩模供給室包括:第一掩模供給室，連接到第一沉積室；以及第二掩模供給室，連接到第二沉積室。
[0009]在實(shí)施例中，掩模供給室連接到第一沉積室和第二沉積室兩者。
[0010]在實(shí)施例中，掩模供給室包括構(gòu)造成支承所述多個掩模并且構(gòu)造成向上和向下移動的第二匣盒。
[0011 ]在實(shí)施例中，站包括:站室，在其中具有空間；第一匣盒，構(gòu)造成接收所述多個掩模，第一匣盒在站室中；以及第一匣盒移動器，在站室中并且構(gòu)造成移動第一匣盒。
[0012]在實(shí)施例中，掩模供給室包括構(gòu)造成接收所述多個掩模的梭，并且構(gòu)造成輸送裝載在其上的所述多個掩模中的一個。
[0013]在實(shí)施例中，梭構(gòu)造成移動到掩模供給室和沉積室中。
[0014]在實(shí)施例中，設(shè)備還包括在掩模供給室中的第一掩模移動器，其中，第一掩模移動器構(gòu)造成將所述多個掩模中的一個從站輸送到掩模供給室或者將所述多個掩模中的一個從掩模供給室輸送到站。
[0015]在實(shí)施例中，掩模供給室中的壓力在大氣壓與真空狀態(tài)下的壓力之間變化。
【附圖說明】
[0016]通過下面結(jié)合附圖對示例性實(shí)施例的描述，這些和/或其他方面將變得明顯和更容易理解，在附圖中:
[0017]圖1是示出根據(jù)示例性實(shí)施例的用于制造顯示裝置的設(shè)備的概念圖；
[0018]圖2是示出根據(jù)示例性實(shí)施例的圖1的掩模供給室和站的概念圖；
[0019]圖3是示出根據(jù)示例性實(shí)施例的通過使用圖1的設(shè)備制造的顯示裝置的部分的剖視圖。
[0020]圖4是示出根據(jù)另一示例性實(shí)施例的用于制造顯示裝置的設(shè)備的概念圖；以及
[0021]圖5是示出根據(jù)另一示例性實(shí)施例的用于制造顯示裝置的設(shè)備的概念圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]本發(fā)明構(gòu)思可包括各種實(shí)施例和修改，本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施例將在附圖中示出并且將在這里詳細(xì)地描述。通過下面結(jié)合附圖對實(shí)施例的描述，本發(fā)明構(gòu)思的效果和特征及其伴隨的方法將變得明顯。然而，本發(fā)明構(gòu)思不限于下面描述的實(shí)施例，并且可以以各種模式來實(shí)施。
[0023]現(xiàn)在將詳細(xì)地參照實(shí)施例，實(shí)施例的示例在附圖中示出。在附圖中，相同的元件通過相同的附圖標(biāo)記來表示，將不給出其重復(fù)的解釋。
[0024]圖1是示出根據(jù)示例性實(shí)施例的用于制造顯示裝置200的設(shè)備100的概念圖。圖2是示出根據(jù)示例性實(shí)施例的圖1的實(shí)施例的掩模供給室140和站150的概念圖。圖3是示出根據(jù)示例性實(shí)施例的通過使用圖1的實(shí)施例的設(shè)備100制造的顯示裝置200的部分的剖視圖。
[0025]參照圖1至圖3，設(shè)備100可通過使用沉積工藝來形成顯示裝置200的各種膜或?qū)?。然而，為了便于解釋，下面將集中在設(shè)備100通過使用沉積工藝來形成中間層282的情況。
[0026]設(shè)備100可包括裝載室110、傳送室120、沉積室130、連接室160、掩模供給室140、站150和卸載室170。
[0027]基板210可從外部供給到裝載室110，裝載室110可在其中暫時性地儲存基板210，然后可將基板210供給到傳送室120。
[0028]傳送室120可從裝載室110接收基板210并且可在其中暫時性地儲存基板210。另夕卜，傳送室120可連接到其他室并且可將基板210供給到其他室。在這種情況下，用于運(yùn)送(例如，輸送)基板210的機(jī)械手臂R可提供在傳送室120中。
[0029]機(jī)械手臂R可以是機(jī)械手臂R僅形成在一側(cè)上的單型或者機(jī)械手臂R形成在兩側(cè)上的雙型。當(dāng)機(jī)械手臂R為雙型時，機(jī)械手臂R可在一側(cè)處支撐已經(jīng)對其執(zhí)行了沉積的一個基板210并且可在另一側(cè)處支撐將對其執(zhí)行沉積的另一基板210。為了便于解釋，下面將集中在機(jī)械手臂R為雙型的情況。
[0030]機(jī)械手臂R可包括提供在第一傳送室121中的第一機(jī)械手臂Rl和提供在第二傳送室122中的第二機(jī)械手臂R2。
[0031]傳送室120可包括連接到裝載室110的第一傳送室121和與第一傳送室121分隔開的第二傳送室122。在這種情況下，第一傳送室121和第二傳送室122可形成為彼此相同或相似。
[0032]連接室160可設(shè)置在第一傳送室121與第二傳送室122之間并且可連接第一傳送室121和第二傳送室122。在這種情況下，連接室160可充當(dāng)基板210通過其從第一傳送室121運(yùn)送(例如，輸送)到第二傳送室122的路徑。
[0033 ]可提供多個沉積室130。在這種情況下，沉積材料可在多個沉積室130中的每個中沉積在基板210上。具體地，每個沉積室130可通過使用沉積源來蒸發(fā)沉積材料，然后可通過掩模M將沉積材料沉積在基板210上。例如，沉積室130可沉積中間層282。
[0034]沉積室130可包括連接到第一傳送室121的第一沉積室131和連接到第二傳送室122的第二沉積室132。在這種情況下，第一沉積室131和第二沉積室132可形成為彼此相同或相似，并且可在基板210上沉積相同的沉積材料。可選擇地，第一沉積室131和第二沉積室132可在基板210上沉積不同的沉積材料。然而，為了便于解釋，下面將集中在將不同的沉積材料沉積在基板210上的情況。
[0035]可提供多個第一沉積室131和多個第二沉積室132。在這種情況下，多個第一沉積室131中的每個可連接到第一傳送室121。另外，多個第二沉積室132中的每個可連接到第二傳送室122。
[0036]多個第一沉積室131可彼此面對。即，第一沉積室131可關(guān)于第一傳送室121彼此面對。
[0037]另外，與第一沉積室131相似，多個第二沉積室132可關(guān)于第二傳送室122彼此面對。
[0038]第一門Dl和第二門D2可分別提供在第一沉積室131和第二沉積室132中，因此當(dāng)梭(Shuttle)Hl發(fā)生故障時，梭141可被替換或修復(fù)。另外，掩模供給室140和第一沉積室131可經(jīng)由第一連接件181彼此連接。在這種情況下，第一連接件181可形成為使得一個掩模M移動，并且可提供門閥。另外，第一連接件181可包括第三門D3，使得當(dāng)梭141發(fā)生故障時，梭141被替換或修復(fù)。
[0039]掩模供給室140和第二沉積室132可經(jīng)由第二連接件182彼此連接。在這種情況下，第二連接件182可形成為使得一個掩模M移動，并且可提供門閥。另外，梭141可停留的空間可形成在第二連接件182中，第四門D4可提供在所述空間中，使得當(dāng)梭141發(fā)生故障時，梭141被替換或修復(fù)。
[0040]第一沉積室131、第二沉積室132、第一傳送室121和第二傳送室122可以以多邊形來布置。例如，第一沉積室131、第二沉積室132、第一傳送室121和第二傳送室122可布置成具有四邊形。在這種情況下，第一沉積室131和第二沉積室132可彼此平行地設(shè)置。
[0041 ]掩模供給室140可提供在第一沉積室131與第二沉積室132之間。在這種情況下，掩模供給室140可連接到第一沉積室131和第二沉積室132，使得掩模M被分別提供到第一沉積室131和第二沉積室132。
[0042]另外，掩模供給室140可從外部直接接收掩模M并且可將掩模M供給到第一沉積室131或第二沉積室132?？蛇x擇地，站150可連接到掩模供給室140，掩模供給室140可從站150接收掩模M，然后可將掩模M供給到第一沉積室131或第二沉積室132。為了便于解釋，下面將集中在站150連接到掩模供給室140的情況。
[0043]掩模供給室140可包括堆疊有多個掩模M的第二匣盒142。另外，掩模供給室140可包括將掩模M從第一匣盒152移動到第二匣盒142的第一掩模移動器143。在這種情況下，第一掩模移動器143可被提供為在掩模供給室140中線性地移動。例如，第一掩模移動器143可沿掩模供給室140的內(nèi)壁向上和向下移動，并且可在特定位置處從掩模供給室140線性地移動到站150。(例如，第一掩模移動器143可沿圖1和圖2的Z軸向上和向下移動并且可沿圖1和圖2的Y軸線性地移動)。在這種情況下，第一掩模移動器143可以以軌道形狀來形成。
[0044]掩模供給室140可包括位于第二匣盒142中的梭141。第二匣盒142可在掩模供給室140中線性地移動。在這種情況下，用于線性地移動第二匣盒142的第二匣盒移動器144可提供在掩模供給室140中。
[0045]可提供位于第二匣盒142中的多個梭141，多個梭141可隨著第二匣盒142移動而在掩模供給室140中線性地移動。另外，每個梭141可沿與掩模供給室140的豎直方向垂直的方向(例如，掩模供給室140的寬度方向或長度方向)移動。具體地，在這種情況下，梭141可從掩模供給室140移動到第一沉積室131，或者可從第一沉積室131移動到掩模供給室140。
[0046]在將掩模M定位之后，多個梭141可將掩模M從掩模供給室140運(yùn)送(例如，輸送)到第一沉積室131或者可將掩模M從掩模供給室140運(yùn)送到第二沉積室132。在這種情況下，因?yàn)樗?41支撐掩模M的邊緣，所以可防止掩模M在運(yùn)送掩模M時變形或者可減小掩模變形的發(fā)生率。
[0047]用于運(yùn)送每個掩模M的第二掩模移動器190可提供在掩模供給室140與第一沉積室131之間或者提供在掩模供給室140與第二沉積室132之間。在這種情況下，第二掩模移動器190可形成為線性電機(jī)。在實(shí)施例中，第二掩模移動器190可包括:電磁體構(gòu)件191，具有軌道形狀并且連接到掩模供給室140、第一連接件181和第一沉積室131或者連接到掩模供給室140、第二連接件182和第二沉積室132;以及磁體構(gòu)件192，提供在每個梭141上。在這種情況下，電磁體構(gòu)件191可通過將電磁力施加到磁體構(gòu)件192來運(yùn)送梭141。另外，電磁體構(gòu)件191和磁體構(gòu)件192不限于上述的位置并且可相反地提供。
[0048]站150可連接到掩模供給室140并且可將掩模M提供到掩模供給室140。在這種情況下，站150可包括連接到掩模供給室140的站室151和可插入到站室151中或者從站室151移除的第一匣盒152。另外，站150可包括提供在站室151中并移動第一匣盒152的第一匣盒移動器153。
[0049]站室151可連接到掩模供給室140。在這種情況下，在站室151和掩模供給室140中的壓力可為大氣壓。
[0050]站室151和掩模供給室140可彼此連接以使堆疊在第一匣盒152中的其中一個掩模M移動。具體地，在掩模供給室140將掩模M提供到第一沉積室131之前，掩模供給室140可維持在真空狀態(tài)。當(dāng)站室151與掩模供給室140之間的空間減小或最小化時，掩模供給室140可快速地達(dá)到真空狀態(tài)。
[0051]第一匣盒152可從外部提供到站室151。在這種情況下，站室151可包括當(dāng)?shù)谝幌缓?52插入或移除時打開的第五門D5。具體地，第五門D5可形成在站室151的上部處。
[0052]第一匣盒152可形成為包括多個臺階并且可暫時性儲存或支撐多個掩模M。具體地，多個掩模M可并發(fā)地(例如，同時地)裝載在第一匣盒152中。
[0053]第一匣盒移動器153可在站室151中線性地移動第一匣盒152。例如，第一匣盒移動器153可沿站室151的豎直方向移動第一匣盒152?？蛇x擇地，第一匣盒移動器153可沿站室151的長度方向或?qū)挾确较蛞苿拥谝幌缓?52。在這種情況下，第一匣盒移動器153可將第一匣盒152移動到站室151的形成有第五門D5的上部或者可將第一匣盒152從第五門D5移動到站室151的中心部。
[0054]第一匣盒移動器153可以以各種合適的方式中的任何一種來形成。例如，第一匣盒移動器153可包括連接到第一匣盒152的軸和連接到軸并使軸移動的圓筒?？蛇x擇地，第一匣盒移動器153可包括在其上定位第一匣盒152的定位板以及連接到定位板且其長度變化的圓筒。可選擇地，第一匣盒移動器153可包括在其上定位第一匣盒152的定位板、連接到定位板的齒輪單元以及連接到齒輪單元并通過使齒輪單元旋轉(zhuǎn)來改變(例如，變動)定位板的位置的電機(jī)。然而，第一匣盒移動器153不限于此，并且可包括可使第一匣盒152在站室151中移動的任何設(shè)備和結(jié)構(gòu)。
[0055]現(xiàn)在將解釋設(shè)備100的操作。首先，可在基板210上形成多個層，然后可將基板210運(yùn)送到裝載室110。
[0056]在實(shí)施例中，可在基板210上形成薄膜晶體管(TFT)，且可將鈍化膜270形成為覆蓋TFT。
[0057]在這種情況下，基板210可由玻璃材料形成。然而，本示例性實(shí)施例不限于此，基板210可由塑性材料或者諸如SUS和/或鈦(Ti)等的金屬材料形成?？蛇x擇地，基板210可由聚酰亞胺(PI)形成。為了便于解釋，下面將集中在基板210由玻璃材料形成的情況。
[0058]還可在基板210的頂表面上形成由有機(jī)化合物和/或諸如S1xU 2 I)或SiNxU 2 I)的無機(jī)化合物形成的緩沖層220。
[0059]在具有設(shè)定或預(yù)定的圖案的有源層230形成在緩沖層220上之后，通過柵極絕緣層240來覆蓋有源層230。有源層230包括源區(qū)231和漏區(qū)233以及形成在源區(qū)231與漏區(qū)233之間的溝道區(qū)232。
[0060]有源層230可形成為包括各種合適的材料。例如，有源層230可包括諸如非晶硅和/或晶體硅等的無機(jī)半導(dǎo)體材料?？蛇x擇地，有源層230可包括氧化物半導(dǎo)體。可選擇地，有源層230可包括有機(jī)半導(dǎo)體材料。然而，為了便于解釋，下面將集中在有源層230由非晶硅形成的情況。
[0061]可通過在緩沖層220上形成非晶硅膜、使非晶硅膜結(jié)晶以形成多晶硅膜以及圖案化多晶硅膜來形成有源層230。有源層230的源區(qū)231和漏區(qū)233根據(jù)諸如驅(qū)動TFT或開關(guān)TFT的TFT的類型而用雜質(zhì)摻雜。
[0062]在柵極絕緣層240的頂表面上形成與有源層230對應(yīng)的柵電極250和覆蓋柵電極250的層間絕緣層260。
[0063]在層間絕緣層260和柵極絕緣層240中形成接觸孔Hl之后，將源電極271和漏電極272在層間絕緣層260上形成以分別接觸源區(qū)231和漏區(qū)233，由此完成TFT。
[0064]在TFT上形成鈍化膜270，在鈍化膜270上形成有機(jī)發(fā)光裝置(OLED)280的像素電極281。像素電極281通過形成在鈍化膜270中的通孔H2來接觸TFT的漏電極272。鈍化膜270可由無機(jī)材料和/或有機(jī)材料形成以具有單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)。鈍化膜270可不考慮底表面的彎曲形狀而形成為具有平坦頂表面的平坦化膜或可形成為具有遵循底表面的彎曲形狀的彎曲的頂表面。為了獲得共振效應(yīng)，鈍化膜270可由透明絕緣材料形成。
[0065]在鈍化膜270上形成像素電極281之后，像素限定膜290由有機(jī)材料和/或無機(jī)材料形成以覆蓋像素電極281和鈍化膜270，并且被開口以暴露像素電極281。
[0066]在像素電極281上至少形成中間層282和對電極283。
[0067]像素電極281用作陽極，對電極283用作陰極。然而，在其他實(shí)施例中，像素電極281和對電極283的極性可顛倒。
[0068]像素電極281和對電極283通過中間層282彼此絕緣。當(dāng)具有不同極性的電壓施加到中間層282時，有機(jī)發(fā)射層發(fā)射光。
[0069]中間層282可包括有機(jī)發(fā)射層?？蛇x擇地，中間層282可包括有機(jī)發(fā)射層，并且還可包括來自空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、電子傳輸層(ETL)和電子注入層(EIL)當(dāng)中的至少一個。
[0070]—個單元像素可包括多個子像素，多個子像素可發(fā)射各種顏色的光。例如，多個子像素可包括分別發(fā)射紅光、綠光和藍(lán)光的紅色、綠色和藍(lán)色子像素，或者可包括發(fā)射紅光、綠光、藍(lán)光和白光的子像素。
[0071]當(dāng)將基板210引入裝載室110中時，第一傳送室121的第一機(jī)械手臂Rl可將第一沉積室131中的基板210運(yùn)送到第一傳送室121。第一傳送室121的第一機(jī)械手臂Rl可將運(yùn)送的基板210從第一傳送室121運(yùn)送到連接室160?？蛇x擇地，第一機(jī)械手臂Rl可維持第一機(jī)械手臂Rl支撐運(yùn)送的基板210的狀態(tài)。在這種情況下，第一沉積室131中的掩模M可通過梭141運(yùn)送到掩模供給室140。位于梭141上的掩模M可設(shè)置在掩模供給室140中。具體地，在其中定位已經(jīng)完全使用的掩模M的第二匣盒142可在掩模供給室140中向上和向下移動，并且掩模M可儲存在第二匣盒142中。
[0072]新的掩模M可通過第一掩模移動器143從站室151供給到掩模供給室140。在這種情況下，已經(jīng)定位在第二匣盒142中的掩模M可從掩模供給室140運(yùn)送到第一沉積室131。在實(shí)施例中，梭141可通過第二掩模移動器190從掩模供給室140運(yùn)送到第一沉積室131。
[0073]另外，第一傳送室121的第一機(jī)械手臂Rl可將已經(jīng)從裝載室110供給的基板210從第一傳送室121運(yùn)送到第一沉積室131。在這種情況下，如果第一機(jī)械手臂Rl支撐在第一沉積室131中已經(jīng)對其完成沉積的基板210，則在第一機(jī)械手臂Rl將新的基板210從第一傳送室121運(yùn)送到第一沉積室131之前，第一機(jī)械手臂Rl可將在第一沉積室中已經(jīng)對其完成沉積的基板210運(yùn)送到連接室160。
[0074]當(dāng)將基板210引入到第一沉積室131中時，可在第一沉積室131中執(zhí)行沉積。在這種情況下，可在第一沉積室131中形成來自中間層282的層當(dāng)中的至少一層。
[0075]連接室160中的基板210可被運(yùn)送到第二傳送室122。在這種情況下，掩模M可從站室151運(yùn)送到掩模供給室140，然后可被運(yùn)送到第二沉積室132。運(yùn)送掩模M的方法與上述的方法相同或相似，因此可不給出其詳細(xì)的解釋。
[0076]另外，與第一傳送室121的第一機(jī)械手臂Rl相似，第二傳送室122的第二機(jī)械手臂R2可將已經(jīng)對其上完成沉積的基板210從第二沉積室132運(yùn)送到卸載室170，或者可從第二沉積室132運(yùn)送已經(jīng)對其完成沉積的基板210并且維持第二機(jī)械手臂R2支撐運(yùn)送的基板210的狀態(tài)。為了便于解釋，下面將集中在已經(jīng)對其完成沉積的基板210通過第二機(jī)械手臂R2從第二傳送室122運(yùn)送到卸載室170的情況。
[0077]第二傳送室122的第二機(jī)械手臂R2可將連接室160的基板210運(yùn)送到第二傳送室122，然后可將基板210運(yùn)送回到第二沉積室132。與在第一沉積室131中相似，沉積材料可在第二沉積室132中沉積在基板210上。
[0078]可重復(fù)地執(zhí)行上面的工藝。在這種情況下，可在第二沉積室132中執(zhí)行在第一沉積室131中已經(jīng)對其完成沉積工藝的基板210的沉積工藝，可在第一沉積室131中執(zhí)行新的基板210的沉積工藝。具體地，可在第一沉積室131和第二沉積室132中并發(fā)地(例如，同時地)執(zhí)行沉積工藝，掩模供給室140可將掩模M提供到第一沉積室131和第二沉積室132。
[0079]在第一沉積室131和第二沉積室132中已經(jīng)對其完成沉積的基板210可通過第二傳送室122的第二機(jī)械手臂R2而運(yùn)送到卸載室170。在這種情況下，卸載室170可將基板210卸到外部，或者可連接到用于執(zhí)行另一工藝的設(shè)備并且可將基板210運(yùn)送到所述設(shè)備。
[0080]當(dāng)沉積材料完全沉積在基板210上時，薄膜包封層E可形成在對電極283上。在這種情況下，薄膜包封層E可包括多個無機(jī)層，或者可包括無機(jī)層和有機(jī)層。
[0081]為了防止或基本上防止?jié)駳膺M(jìn)入OLED 280，薄膜包封層E的暴露到外部的最上層可以是無機(jī)層。
[0082]薄膜包封層E可包括至少一個有機(jī)層插入在至少兩個無機(jī)層之間的至少一個夾層(sandwich)結(jié)構(gòu)?？蛇x擇地，薄膜包封層E可包括至少一個無機(jī)層插入在至少兩個有機(jī)層之間的至少一個夾層結(jié)構(gòu)?？蛇x擇地，薄膜包封層E可包括至少一個有機(jī)層插入在至少兩個無機(jī)層之間的夾層結(jié)構(gòu)以及至少一個無機(jī)層插入在至少兩個有機(jī)層之間的夾層結(jié)構(gòu)。
[0083]因此，在設(shè)備100和制造顯示裝置200的方法中，因?yàn)檠谀９┙o室140在沉積工藝期間直接供給掩模M，所以可減少用于制造顯示裝置200所花費(fèi)的時間并且可簡化制造顯示裝置200的工藝。
[0084]在設(shè)備100和制造顯示裝置200的方法中，因?yàn)樘峁┰诘谝粋魉褪?21和第二傳送室122中的每個中的機(jī)械手臂R可不運(yùn)送掩模M，所以可減少或最小化施加到機(jī)械手臂R的負(fù)載。
[0085]圖4是不出根據(jù)另一不例性實(shí)施例的用于制造顯不裝置200的設(shè)備10A的概念圖。
[0086]參照圖4，設(shè)備100A可包括裝載室110A、傳送室120A、沉積室130A、連接室160A、掩模供給室140A、站150A和卸載室170A。
[0087]傳送室120A可包括第一傳送室121A和第二傳送室122A，沉積室130A可包括第一沉積室131A和第二沉積室132A。
[0088]在這種情況下，裝載室110A、傳送室120A、沉積室130A、連接室160A和卸載室170A分別與圖1至圖3的實(shí)施例的裝載室110、傳送室120、沉積室130、連接室160和卸載室170相同或相似，因此可不給出其詳細(xì)的解釋。
[0089]掩模供給室140A可包括連接到第一沉積室131A(并且例如不連接到第二沉積室132A)的第一掩模供給室141A。另外，掩模供給室140A可包括連接第二沉積室132A(并且例如不連接到第一沉積室131A)的第二掩模供給室142A。在這種情況下，第一掩模供給室141A和第二掩模沉積室142A與圖1至圖3的實(shí)施例的掩模供給室140相同或相似，因此可不給出其詳細(xì)的描述。
[0090]第一掩模供給室141A和第二掩模供給室142A可彼此面對。即，第一掩模供給室141A和第二掩模供給室142A可設(shè)置在第一沉積室131A與第二沉積室132A之間。
[0091 ]站150A可以以各種合適的方式中的任何一種連接到掩模供給室140A。例如，站150A可連接到第一掩模供給室141A和第二掩模供給室142A兩者?？蛇x擇地，站150A可單獨(dú)地連接到第一掩模供給室141A和第二掩模供給室142A中的每個。然而，為了便于解釋，下面將集中在站150A單獨(dú)地連接到第一掩模供給室141A和第二掩模供給室142A中的每個的情況。
[0092]站150A可包括連接到第一掩模供給室141A(并且例如不連接到第二掩模供給室142A)的第一站151A以及連接到第二掩模供給室142A(并且例如不連接到第一掩模供給室141A)的第二站152A。在這種情況下，第一站151A和第二站152A與圖1至圖3的實(shí)施例的站150相同或基本上相同，因此可不給出其詳細(xì)的解釋。
[0093]現(xiàn)在將解釋設(shè)備100A的操作。首先，基板210可通過裝載室IlOA引入到第一傳送室121A中，然后可被運(yùn)送到第一沉積室131A。在這種情況下，已經(jīng)在第一沉積室131A中使用的掩模M可定位在從第一掩模供給室141A移動的梭上并可運(yùn)送到第一掩模供給室141A。另外，在第一沉積室131A中已經(jīng)對其完成沉積的基板210可通過第一機(jī)械手臂Rl從第一沉積室131A運(yùn)送到第一傳送室121A。
[0094]新的掩模M可通過第一掩模供給室141A從第一站151A運(yùn)送到第一沉積室131A。可在第一沉積室131A中對基板210執(zhí)行沉積工藝。
[0095]在第一沉積室131A中已經(jīng)對其完成沉積工藝的基板210可通過第一傳送室121A從第一沉積室131A運(yùn)送到連接室160A?；?10可通過第二傳送室122A從連接室160A運(yùn)送到第二沉積室132A。
[0096]在這種情況下，已經(jīng)在第二沉積室132A中使用的掩模M可如上所述地運(yùn)送到第二掩模供給室142A，在第二沉積室132A中已經(jīng)對其完成沉積的基板210可通過第二機(jī)械手臂R2從第二沉積室132A運(yùn)送到第二傳送室122A。
[0097]另外，新的掩模M可從第二掩模供給室142A運(yùn)送到第二沉積室132A。接著，可在第二沉積室132A中執(zhí)行沉積工藝。
[0098]已經(jīng)對其完成沉積工藝的基板210可通過第二傳送室122A從第二沉積室132A運(yùn)送到卸載室170A。
[0099]因此，設(shè)備100A以及制造顯示裝置200的方法可減少在沉積工藝期間用于制造顯示裝置200所花費(fèi)的時間，并且可簡化制造顯示裝置200的工藝。
[0100]在設(shè)備100A和制造顯示裝置200的方法中，因?yàn)樘峁┰诘谝粋魉褪?21A和第二傳送室122A中的每個中的機(jī)械手臂R可不運(yùn)送掩模M，所以可減小或最小化施加到機(jī)械手臂R的負(fù)載。
[0101]圖5是示出根據(jù)另一示例性實(shí)施例的用于制造顯示裝置200的設(shè)備100B的概念圖。
[0102]參照圖5，設(shè)備10B可包括裝載室I1B、傳送室120B、沉積室130B、連接室160B、掩模供給室140B、站150B和卸載室170B。
[0103]傳送室120B可包括第一傳送室121B和第二傳送室122B，沉積室130B可包括第一沉積室13IB和第二沉積室132B。
[0104]在這種情況下，裝載室110B、傳送室120B、沉積室130B、連接室160B和卸載室170B分別與圖1至圖3的實(shí)施例的裝載室110、傳送室120、沉積室130、連接室160和卸載室170相同或相似，因此可不給出其詳細(xì)的解釋。
[0105]掩模供給室140B可包括連接到第一沉積室131B(并且例如不連接到第二沉積室132B)的第一掩模供給室141B。另外，掩模供給室140B可包括連接到第二沉積室132B(并且例如不連接到第一沉積室131B)的第二掩模供給室142B。在這種情況下，第一掩模供給室141B和第二掩模供給室142B與圖1至圖3的實(shí)施例的掩模供給室140相同或相似，因此，可不給出其詳細(xì)的解釋。
[0106]第一掩模供給室141B和第二掩模供給室142B可沿相同的方向設(shè)置。例如，當(dāng)?shù)谝谎谀９┙o室141B設(shè)置在第一沉積室131B的右側(cè)時，第二掩模供給室142B可設(shè)置在第二沉積室132B的右側(cè)。另外，當(dāng)?shù)谝谎谀９┙o室141B設(shè)置在第一沉積室131B的左側(cè)時，第二掩模供給室142B可設(shè)置在第二沉積室132B的左側(cè)。
[0107]站150B可以以各種合適的方式中的任何一種連接到掩模供給室140B。例如，站150B可連接到第一掩模供給室141B和第二掩模供給室142B兩者。可選擇地，站150B可單獨(dú)地連接到第一掩模供給室141B和第二掩模供給室142B中的每個。然而，為了便于解釋，下面將集中在站150B單獨(dú)地連接到第一掩模供給室141B和第二掩模供給室142B中的每個的情況。
[0108]站150B可包括連接到第一掩模供給室141B(并且例如不連接到第二掩模供給室142B)的第一站151B以及連接到第二掩模供給室142B(并且例如不連接到第一掩模供給室141B)的第二站152B。在這種情況下，第一站151B和第二站152B與圖1至圖3的實(shí)施例的站150相同或相似，因此可不給出其詳細(xì)的解釋。
[0109]現(xiàn)在將解釋設(shè)備100B的操作。首先，可通過裝載室IlOB將基板210引入到第一傳送室121B中，然后可將基板210運(yùn)送到第一沉積室131B。在這種情況下，已經(jīng)對其完成沉積的基板210可通過第一機(jī)械手臂Rl從第一沉積室131B運(yùn)送到第一傳送室121B，已經(jīng)在第一沉積室131B中使用的掩模M可定位在從第一掩模供給室141B移動的梭上并且可運(yùn)送到第一掩模供給室141B。另外，新的掩模M可通過第一掩模供給室141B從第一站151B運(yùn)送到第一沉積室131B。新的基板210可從第一傳送室121B運(yùn)送到第一沉積室131B，并且可在第一沉積室131B中對基板210執(zhí)行沉積工藝。
[0110]在第一沉積室131B中已經(jīng)對其完成沉積工藝的基板210可通過第一傳送室121B從第一沉積室131B運(yùn)送到連接室160B?；?10可通過第二傳送室122B從連接室160B運(yùn)送到第二沉積室132B。
[0111]在這種情況下，已經(jīng)在第二沉積室132B中使用的掩模M可如上所述地運(yùn)送到第二掩模供給室142B，已經(jīng)對其完成沉積的基板210可通過第二機(jī)械手臂R2從第二沉積室132B運(yùn)送到第二傳送室122B。另外，新的掩模M可從第二掩模供給室142B運(yùn)送到第二沉積室132B。接著，可在第二沉積室132B中執(zhí)行沉積工藝。
[0112]在第二沉積室132B中已經(jīng)對其完成沉積工藝的基板210可通過第二傳送室122B從第二沉積室132B運(yùn)送到卸載室170B。
[0113]因此，設(shè)備100B和制造顯示裝置200的方法可減少在沉積工藝期間用于制造顯示裝置200所花費(fèi)的時間并且可簡化制造顯示裝置200的工藝。
[0114]在設(shè)備100B和制造顯示裝置200的方法中，因?yàn)樘峁┰诘谝粋魉褪?21B和第二傳送室122B中的每個中的機(jī)械手臂R可不運(yùn)送掩模M，所以可減小或最小化施加到機(jī)械手臂R的負(fù)載。
[0115]如上所述，根據(jù)上面的示例性實(shí)施例中的一個或更多個示例性實(shí)施例的設(shè)備和制造顯示裝置的方法，可延長設(shè)備的壽命。
[0116]根據(jù)上面的示例性實(shí)施例中的一個或更多個示例性實(shí)施例的設(shè)備和制造顯示裝置的方法，因?yàn)榛搴脱谀１粏为?dú)移動，所以當(dāng)制造大的顯示裝置時，可傳送掩模。
[0117]根據(jù)上面的示例性實(shí)施例中的一個或更多個示例性實(shí)施例的設(shè)備和制造顯示裝置的方法，因?yàn)橛糜谶\(yùn)送基板和掩模的結(jié)構(gòu)和工藝被簡化，因此可縮短工藝時間。
[0118]根據(jù)上面的示例性實(shí)施例中的一個或更多個示例性實(shí)施例的設(shè)備和制造顯示裝置的方法，因?yàn)閭魉褪业臋C(jī)械手臂僅運(yùn)送基板，所以可延長機(jī)械手臂的壽命并且可減小故障率。
[0119]將理解的是，雖然可在這里使用術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”等來描述各種元件、組件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)受這些術(shù)語限制。這些術(shù)語用于將一個元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一元件、組件、區(qū)域、層或部分區(qū)分開。因此，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的精神和范圍的情況下，下面討論的第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可稱為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。
[0120]為了便于描述，這里可使用諸如“在……之下”、“在……下面”、“下”、“在……下方”、“在……上面”和“上”等的空間相對術(shù)語來描述如附圖中所示的一個元件或特征與另一元件或特征的關(guān)系。將理解的是，除了在附圖中描繪的方位之外，空間相對術(shù)語意圖包括裝置在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的裝置被翻轉(zhuǎn)，則描述為“在”其他元件或特征“下面”或“之下”或“下方”的元件隨后將被定位為“在”其他元件或特征“上面”。因此，示例術(shù)語“在……下面”或“在……下方”可包括在……上面和在……下面兩種方位。裝置可被另外定位(例如，旋轉(zhuǎn)90度或在其他方位)，并應(yīng)該相應(yīng)地解釋這里使用的空間相對描述語。此外，還將理解的是，當(dāng)元件被稱為“在”兩個組件“之間”時，它可以是在所述兩個組件之間的唯一組件，或者也可存在一個或更多個中間組件。
[0121]這里使用的術(shù)語出于描述具體實(shí)施例的目的，而不意圖限制本發(fā)明構(gòu)思。除非上下文另外清楚地表示，否則如這里使用的單數(shù)形式“一個”和“一種”也意圖包括復(fù)數(shù)形式。還將理解的是，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包括”和/或“包含”時，說明存在所述特征、整體、步驟、操作、元件和/或組件，但不排除存在或添加一個或更多個其他特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組。如在這里使用的，術(shù)語“和/或”包括一個或更多個相關(guān)所列項(xiàng)的任何組合和所有組合。當(dāng)諸如“……中的至少一個”的表述在一系列元件之后時，修飾整列的元件(要素)而不是修飾列中的單個元件(要素)。此外，當(dāng)描述本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例時“可(可以)”的使用是指“本發(fā)明構(gòu)思的一個或更多個實(shí)施例”。另外，術(shù)語“示例性”意圖表示示例或例證。
[0122]將理解的是，當(dāng)元件或?qū)颖环Q為“在”另一元件或?qū)印吧稀?、“連接到”、“結(jié)合到”或“鄰近于”另一元件或?qū)訒r，它可直接在另一元件或?qū)由稀⒅苯舆B接到、直接結(jié)合到或者直接鄰近于另一元件或?qū)樱蛘呖纱嬖谝粋€或更多個中間元件或?qū)?。?dāng)元件或?qū)颖环Q為“直接在”另一元件或?qū)印吧稀薄ⅰ爸苯舆B接到”、“直接結(jié)合到”或“直接鄰近于”另一元件或?qū)訒r，不存在中間元件或?qū)印?br>[0123]如在這里所使用的，術(shù)語“基本上”或“大約”以及相似的術(shù)語用作包括近似值的術(shù)語而不用作程度的術(shù)語，并且意圖解釋本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將認(rèn)識到的測量或計算值的固有偏差。
[0124]如在這里使用的，術(shù)語“使用”可被認(rèn)為與術(shù)語“利用”同義。
[0125]為了便于解釋，可夸大附圖中的元件的尺寸。換句話說，因?yàn)闉榱吮阌诮忉尪我獾厥境龈綀D中的元件的尺寸和厚度，所以下面的實(shí)施例不限于此。
[0126]當(dāng)可不同地實(shí)施特定實(shí)施例時，可與描述的順序不同地執(zhí)行特定的工藝順序。例如，可基本上同時執(zhí)行或按照與描述的順序相反的順序執(zhí)行兩個連續(xù)描述的工藝。
[0127]盡管已經(jīng)參照本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施例具體示出并描述了本發(fā)明構(gòu)思，但是提供實(shí)施例是出于舉例說明的目的，并且本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將理解的是，可從本發(fā)明構(gòu)思作出各種合適的修改和等同的其他實(shí)施例。因此，本發(fā)明構(gòu)思的真實(shí)技術(shù)范圍由所附權(quán)利要求及其等同物的技術(shù)精神來限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于制造顯示裝置的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括: 裝載室，構(gòu)造成從外部接收基板； 傳送室，連接到所述裝載室并且包括構(gòu)造成輸送所述基板的機(jī)械手臂； 沉積室，連接到所述傳送室并且構(gòu)造成在所述基板從所述傳送室輸送到所述沉積室之后將沉積材料沉積到所述基板上； 掩模供給室，連接到所述沉積室并構(gòu)造成向所述沉積室供給堆疊在所述掩模供給室中的多個掩模中的一個;以及 站，連接到所述掩模供給室并且構(gòu)造成向所述掩模供給室逐個地供給所述多個掩模。2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述傳送室包括: 第一傳送室；以及 第二傳送室，與所述第一傳送室分隔開并且經(jīng)由連接室連接到所述第一傳送室， 其中，所述沉積室包括: 第一沉積室，連接到所述第一傳送室；以及 第二沉積室，連接到所述第二傳送室并且與所述第一沉積室分隔開。3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述掩模供給室包括: 第一掩模供給室，連接到所述第一沉積室；以及 第二掩模供給室，連接到所述第二沉積室。4.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述掩模供給室連接到所述第一沉積室和所述第二沉積室兩者。5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述掩模供給室包括構(gòu)造成支承所述多個掩模并且構(gòu)造成向上和向下移動的第二匣盒。6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述站包括: 站室，在其中具有空間； 第一匣盒，構(gòu)造成接收所述多個掩模，所述第一匣盒在所述站室中；以及 第一匣盒移動器，在所述站室中并且構(gòu)造成移動所述第一匣盒。7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述掩模供給室包括構(gòu)造成接收所述多個掩模的梭，并且構(gòu)造成輸送裝載在其上的所述多個掩模中的一個。8.如權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其特征在于，所述梭構(gòu)造成移動到所述掩模供給室和所述沉積室中。9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，所述設(shè)備還包括在所述掩模供給室中的第一掩模移動器，其中，所述第一掩模移動器構(gòu)造成將所述多個掩模中的一個從所述站輸送到所述掩模供給室或者將所述多個掩模中的一個從所述掩模供給室輸送到所述站。10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述掩模供給室中的壓力在大氣壓與真空狀態(tài)下的壓力之間變化。
【文檔編號】H01L21/677GK105895568SQ201610011946
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年1月8日
【發(fā)明人】車裕敏, 尹相皓, 朱星中
【申請人】三星顯示有限公司