通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方法，更詳細地，涉及在圖案化工序之前，還設(shè)置光學功能層來調(diào)節(jié)折射率，利用表面處理劑組合物使金屬納米線透明導(dǎo)電膜的表面發(fā)生氧化或生成鹽化合物而使顏色發(fā)生變化，從而使表面絕緣，并將可視性優(yōu)異的膜進行圖案化的方法。
【專利說明】
通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方法，更詳細 地，涉及在圖案化工序之前，還設(shè)置光學功能層來調(diào)節(jié)折射率，利用表面處理劑使金屬納米 線透明導(dǎo)電膜的表面發(fā)生氧化或生成鹽化合物而使顏色發(fā)生變化，從而使表面絕緣，并將 可視性優(yōu)異的膜進行圖案化的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] -般情況下，ΙΤ0作為透明導(dǎo)電膜廣泛適用于觸摸屏面板、0LED元件、柔性元件等， 但在滿足基板實現(xiàn)大型化的過程中所需的低的面電阻及優(yōu)異的柔韌性等方面，因作為金屬 氧化物的局限性而急需替代物質(zhì)。
[0003] 作為用于解決這種問題的替代材料，正在使用基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜，由 于上述基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜既保持ΙΤ0無法解決的膜中的高的光學特性，又實現(xiàn) 低的面電阻，而且具有優(yōu)異的柔韌性，因而被用于多個領(lǐng)域。
[0004] 但是，在以不同于ΙΤ0的方式經(jīng)過蝕刻工序來進行圖案化的情況下，基于金屬納米 線的透明導(dǎo)電膜具有可視性不佳的缺點。在以往的ΙΤ0膜中，為了調(diào)節(jié)ΙΤ0本身的高的折射 率而進行了諸多努力，但在金屬納米線的情況下，與折射率相比，通過從金屬反射的光的散 射而產(chǎn)生的霧度等被公認為對可視性產(chǎn)生諸多影響的因素，并且在實際的銀納米線的情況 下，這種霧度在蝕刻部和非蝕刻部中產(chǎn)生差異，發(fā)生圖案很容易被人眼識別的問題。
[0005] 在包括現(xiàn)有的金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的情況下，也試圖不考慮這種可視性而通 過蝕刻工序來形成圖案，并在蝕刻面或蝕刻面的背面還形成防反射膜等，來調(diào)節(jié)蝕刻面和 非蝕刻面的折射率或霧度特性，但在不區(qū)分蝕刻面和非蝕刻面來形成防反射膜的情況下， 向非蝕刻面也賦予相同的防反射效果，因而在確?？梢曅苑矫鏌o法具有卓越的效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 為了在基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜中進行圖案化后在沒有追加性的光學功能 層的結(jié)構(gòu)的情況下確?？梢曅裕枰畲笙薅鹊厥箞D案部和非圖案部之間的光學特性差異 最小化。尤其，霧度特性作為基于金屬納米線的情況下對可視性特性產(chǎn)生最大影響的因素， 需要減少圖案部和非圖案部之間的霧度差異。
[0007]為此，為了解決如上所述的問題，本發(fā)明的目的在于，提供在圖案化工序之前，還 設(shè)置光學功能層來調(diào)節(jié)折射率，利用表面處理劑使金屬納米線透明導(dǎo)電膜的表面發(fā)生氧化 或生成鹽化合物而使顏色發(fā)生變化，從而使表面絕緣，并將可視性優(yōu)異的膜進行圖案化的 方法。
[0008] 并且，本發(fā)明的目的在于，提供通過上述方法來制造且可視性優(yōu)異的基于金屬納 米線的透明導(dǎo)電膜及包括上述膜的電子元件。
[0009] 為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的 圖案化方法，其特征在于，在基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化工序中，包括：1)在導(dǎo) 電層上設(shè)置性能強化層的步驟；以及2)利用包含a)過氧化物及b)有機酸或無機酸的表面處 理劑組合物對金屬納米線透明導(dǎo)電膜進行表面處理的步驟。
[0010]另外，本發(fā)明提供通過上述表面處理方法而進行了圖案化的基于金屬納米線的透 明導(dǎo)電膜。
[0011] 另外，本發(fā)明提供一種電子元件，其特征在于，包括上述透明導(dǎo)電膜。
[0012] 與以往的分解或分離金屬納米線來賦予絕緣特性的蝕刻工序相比，本發(fā)明的金屬 納米線的通過表面處理的圖案化方法在圖案的可視性方面有利，此外，可以導(dǎo)入金屬氧化 物溶膠作為光學功能層，從而不僅可以確保高的可視性，而且可以確?？稍谕獠康臐駳饧?溫度變化條件下能夠保護導(dǎo)電層的優(yōu)異的耐久性及耐環(huán)境性特性。
【附圖說明】
[0013] 圖1~4是本發(fā)明的包括導(dǎo)電層11、性能強化層12及防反射膜21的透明導(dǎo)電膜的結(jié) 構(gòu)。
[0014] 圖5是表示進行表面處理后的膜的絕緣區(qū)域51及導(dǎo)電區(qū)域52的照片。
[0015] 圖6是利用過氧化氫水對具有圖1的結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電膜進行表面處理后的表面照 片。
[0016] 圖7和8是在利用高氯酸和醋酸來進行表面處理后，可視性分數(shù)分別為1和2的情況 下的透明導(dǎo)電膜的顯微鏡照片。
【具體實施方式】
[0017] 本發(fā)明的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方法，其特征在 于，在基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化工序中，包括:1)在導(dǎo)電層上設(shè)置性能強化層 的步驟；以及2)利用包含a)過氧化物及b)有機酸或無機酸的表面處理劑組合物對金屬納米 線透明導(dǎo)電膜進行表面處理的步驟。
[0018] 以下，更加詳細地說明本發(fā)明。
[0019] 1)性能強化層
[0020] 本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜可以在包括金屬納米線的導(dǎo)電性層上放置用于強化性能的 外涂(Over-coating)原材料來提高其功能，用于形成性能強化層的組合物不僅為了具有防 反射特性，而且為了賦予可在外部的濕氣及溫度變化條件下保護導(dǎo)電層的優(yōu)異的耐久性及 耐環(huán)境性特性而包含金屬氧化物溶膠。
[0021] 作為本發(fā)明的一個例子，圖1示出多層透明導(dǎo)電膜，上述多層透明導(dǎo)電膜包括基 板、導(dǎo)電層11和性能強化層12;上述導(dǎo)電層11以均勻涂敷形成于基板上的金屬納米線而能 夠呈現(xiàn)出高的電導(dǎo)率的方式形成;上述性能強化層12在上述導(dǎo)電層11上強化保護層及硬涂 層作用。
[0022] 作為可在本發(fā)明中使用的金屬氧化物溶膠，可以使用選自氟化鎂溶膠、氟化鈣溶 膠、ZT0(Zinc-Tin oxide，鋅錫氧化物)溶膠、ZnO(Zinc Oxide，氧化鋅）溶膠、二氧化娃溶 膠、錫氧化物溶膠(Tin oxide)、錳氧化物溶膠、鎂氧化物溶膠中的一種以上的金屬氧化物 溶膠，在組合物中，金屬氧化物的量優(yōu)選以0.5~5重量％的量包含。
[0023] 并且，為了調(diào)節(jié)上述性能強化層及導(dǎo)電層的電阻特性、硬涂層特性等，可以在上述 金屬氧化物溶膠中進一步添加粘合劑，具體地，上述粘合劑樹脂可以在與金屬氧化物溶膠 混合時賦予優(yōu)異的涂敷性，并向膜賦予柔韌性，從而可以防止發(fā)生透明導(dǎo)電膜在彎曲時破 損的現(xiàn)象。
[0024]作為可以與上述金屬氧化物溶膠組合的粘合劑，具有纖維素樹脂、聚乙烯醇樹脂、 聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚氨酯丙烯酸酯樹脂、纖維素醚樹脂、醋酸纖維素樹脂等，而這種粘 合劑可以在與金屬氧化物溶膠混合時賦予優(yōu)異的涂敷性，并向膜賦予柔韌性，從而可以防 止發(fā)生透明導(dǎo)電膜在彎曲時破損的現(xiàn)象。
[0025]更詳細地，上述粘合劑可以使用羥丙基甲基纖維素、羥乙基纖維素、羥基丙基纖維 素、甲基纖維素、乙基纖維素、羧甲基纖維素、三乙酰纖維素、二乙酸纖維素、醋酸丁酸纖維 素、醋酸丙酸纖維素、聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇縮丁醛乙烯醇 共聚物、聚乙烯酯馬來酸共聚物等。
[0026]優(yōu)選地，上述粘合劑樹脂在本發(fā)明的形成性能強化層的組合物中以0.05~10重 量％的量使用。在上述含量少于〇. 05重量％的情況下，無法通過上述有機粘合劑樹脂來達 到調(diào)節(jié)粘度、提高涂敷性、增加與基板之間的附著力及賦予柔韌性的原有的目的，因而在所 形成的膜彎曲規(guī)定范圍以上的情況下，因金屬納米線從基板脫離或?qū)щ娦酝糠蠼M合物無法 均勻地涂敷于整個基板而存在無法形成電導(dǎo)率優(yōu)異的膜的擔憂，另外，上述含量大于10重 量％的情況下，粘合劑樹脂阻礙與金屬納米線的接觸，從而可以起到急劇增加透明導(dǎo)電膜 的接觸電阻的絕緣體作用，并且，因粘度急劇上升而使膜的厚度變厚，從而可以引起使光學 特性惡化的問題。若膜的厚度變得過厚，則整個膜呈現(xiàn)出黃色，從而對可視性帶來壞影響。
[0027] 金屬氧化物之間的組合或金屬氧化物和粘合劑的組合隨著干燥而使下部的導(dǎo)電 層所包括的金屬納米線之間的密合力增大，從而可以降低金屬納米線的接觸電阻，因此，可 以帶來與以往的只存在導(dǎo)電層時相比，體現(xiàn)低的電阻的電阻增強效果，并且，還可以呈現(xiàn)出 改善廣的面積中的電阻均勻性的特性。
[0028] 并且，金屬氧化物的特性可以在耐久性及耐環(huán)境性中呈現(xiàn)出高的可靠性。即，既可 以起到可提高透明導(dǎo)電膜的物理特性的硬涂層(Hard coating)作用，又可以增強硬度、提 高耐磨性、提高耐環(huán)境性，而且可以在用于進行表面處理的化學處理工序中保護金屬納米 線。這種特性是因為金屬氧化物本身起到可以抑制氣體或流體滲透的作用。
[0029] 并且，本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜還可以包括防反射膜。上述防反射膜作為可以減少透 明導(dǎo)電體的反射表面的反射損失的層，起到可以使進行表面處理后發(fā)生改變的表面光學特 性的差異最小化的功能。上述防反射膜可以使用公知的用于形成防反射膜的組合物，作為 一個例子，可以使用MgF2。上述防反射膜可以形成于作為上述保護層的性能強化層的上部、 上述導(dǎo)電層的下部或基板的背面，在形成于保護層的上部的情況下，可以獲得優(yōu)異的可視 性校正效果。
[0030] 像這樣，防反射膜作為可同時執(zhí)行防反射效果、電阻增強效果、硬涂層效果的復(fù)合 功能層，可以根據(jù)需要，以涂敷方式形成于導(dǎo)電層和基板之間或?qū)щ妼拥谋趁?、?dǎo)電層的上 部。
[0031] 本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜可以具有圖2~4所示的結(jié)構(gòu)。
[0032] 圖2表示在基板的背面進一步包括強化了防反射功能的防反射膜21的結(jié)構(gòu)，此時， 上述防反射膜21作為在進行表面處理時不會因表面處理劑而受到損傷的層，是耐化學性優(yōu) 異的膜狀。
[0033] 圖3表示可以在起到保護層及硬涂層作用的性能強化層12上進一步包括防反射膜 21來呈現(xiàn)出防反射效果的結(jié)構(gòu)，由此，可以校正在進行表面處理后由色差引起的可視性。
[0034] 圖4表示在防反射膜21上形成導(dǎo)電層11，并在上述導(dǎo)電層11上包括強化了保護層 及硬涂層作用的性能強化層12的結(jié)構(gòu)。
[0035] 上述性能強化層12和防反射膜21可通過通常的方法來形成，例如，可以利用狹縫 式涂敷法、棒涂敷法、旋涂法等方法分別以10~500nm的厚度形成。在上述層的厚度大于 500nm的情況下，電阻增強效果消失，且可以抑制金屬納米線本身的面電阻特性，在上述厚 度小于10nm的情況下，具有無法執(zhí)行作為性能強化層的作用的缺點。
[0036] 2)表面處理劑組合物
[0037]在本發(fā)明中，首先在以如上所述的方式準備的透明導(dǎo)電層上放置DFR(Dry Film resist，干膜抗蝕劑），并在通過光圖案化方法使DFR進行圖案化來準備后，經(jīng)過在所選擇的 區(qū)域接觸表面處理劑來進行絕緣的工序，并去除DFR，從而可以實施用于劃分絕緣區(qū)域和導(dǎo) 電區(qū)域的圖案化工序。在上述內(nèi)容中，在所選擇的區(qū)域接觸表面處理劑的方法可以適用噴 涂或浸漬等公知的方法。
[0038]表面處理可以被定義為使導(dǎo)電層所包括的金屬納米線的表面狀態(tài)發(fā)生變化而變 成金屬鹽化合物或金屬氧化物形態(tài)的工序，在一部分變成金屬鹽化合物的過程中，金屬納 米線可以斷成小的單位。
[0039] 為了進行上述表面處理，可以使用包含a)過氧化物及b)有機酸或無機酸，優(yōu)選地， 包含a)高氯酸或其鹽、或過硫酸鹽及b)有機酸的表面處理劑組合物。作為這種高氯酸系列 的化合物，具有次氯酸鹽(Hypochlorite )、亞氯酸鹽(Chlorite )、氯酸鹽(Chlorate )、高氯 酸鹽(Perchlorate)等，更詳細地，上述過氧化物可以使用過氧化鈉(Sodium peroxide)、過 氧化脲（Carbamide peroxide)、Na0Cl、NaC104、NaC102、NaC103、NH4C10、NH4C102、NH4C103、 順4<：104、1((：103、1((：10、1((：104、1((：102及？0(：13(?11〇8口11〇^18(?7(*1〇4(16)。上述化合物可以以 約0.1~10重量％的量在蒸餾水中混合使用。
[0040] 并且，上述過氧化物表面處理劑還可以與無機化合物等混合使用。
[0041 ]由于上述有機酸、無機酸或無機化合物可以通過過氧化物和水之間的反應(yīng)來持續(xù) 消耗，因而可以有助于過氧化物更加穩(wěn)定地存在于表面處理劑?？梢允褂么姿?、乳酸、馬來 酸、琥珀酸、草酸、丙二酸等作為這種有機酸，可以使用磷酸、鹽酸、硝酸等作為無機酸，可以 使用銅、鐵、鋅、錫、鎳的氯化物、氮化物、醋酸鹽、硫化物等作為無機化合物，并能夠以約0.1 ~10重量％與過氧化物一同使用。優(yōu)選地，以有機酸為佳。
[0042] 在上述過氧化物的含量為10重量％以上的情況下，由于會使功能層受損，因而可 以妨礙作為功能層的作用，在上述過氧化物的含量小于0.1重量％的情況下，由于無法使金 屬納米線氧化而存在無法制造絕緣區(qū)域的擔憂。另外，在可以與上述過氧化物一同適用的 有機酸、無機酸或無機化合物的含量大于10重量％的情況下，反而使納米線發(fā)生斷線而對 可視性產(chǎn)生不好的影響，因而可以妨礙作為功能層的作用，而小于0.1重量％的情況下，無 法顯示出與過氧化物一同添加而提高表面處理的效果或縮短時間的效果。即，無法使過氧 化物實現(xiàn)穩(wěn)定化。
[0043] 圖5表示利用本發(fā)明的表面處理組合物來執(zhí)行表面處理的情況下的絕緣區(qū)域51和 導(dǎo)電區(qū)域52。在上述絕緣區(qū)域和導(dǎo)電區(qū)域中均出現(xiàn)金屬納米線結(jié)構(gòu)，而與導(dǎo)電區(qū)域的表面 相比，絕緣區(qū)域的表面呈現(xiàn)出比原有的亮度更暗的區(qū)域。即，可知在絕緣區(qū)域中，在金屬納 米線結(jié)構(gòu)物不會因斷開或消失而發(fā)生變更的狀態(tài)下，只有金屬納米線的表面狀態(tài)發(fā)生變 更，并且，隨著金屬納米線的表面狀態(tài)發(fā)生變更，可以帶來絕緣效果。
[0044] 具體地，適用銀作為圖5的金屬納米線，在這種情況下，與去除銀納米線或切短銀 納米線來制成絕緣狀態(tài)的以往的方法相比，在可視性方面呈現(xiàn)出更為優(yōu)異的特性。
[0045] 因此，本發(fā)明的圖案化方法的特征在于，可以在不損傷非圖案部的金屬納米線的 情況下確保絕緣性。被賦予絕緣特性的金屬納米線呈現(xiàn)出一部分顏色發(fā)生改變或著色的現(xiàn) 象，因此，與普通的金屬納米線相比，可在可視性方面出現(xiàn)差異。但是，在本發(fā)明中，在經(jīng)表 面處理的金屬納米線層上的調(diào)節(jié)了折射率的性能強化層可克服由這種顏色差異引起的可 視性。即，本發(fā)明的特征在于，導(dǎo)入即使不進行去除金屬納米線的蝕刻工序也能夠確保絕緣 特性的工序，從而使圖案部和非圖案部的霧度差異最小化。
[0046] 以如上所述的方式經(jīng)表面處理的區(qū)域中的表面電阻應(yīng)確保數(shù)Μ Ω以上的絕緣特 性，并且可以使經(jīng)表面處理的區(qū)域和未經(jīng)表面處理的區(qū)域中的光學特性偏差最小化。
[0047] 3)金屬納米線
[0048] 本發(fā)明的導(dǎo)電性涂敷組合物使用金屬納米線作為導(dǎo)電性物質(zhì)。本發(fā)明所使用的金 屬納米線可以使用通常為了形成導(dǎo)電膜而使用的金屬納米線，更加具體的，可使用的金屬 不受特殊限制，但優(yōu)選地，使用選自金、銀、銅、鋁、鎳、錫，鈀、鉑、鋅、鐵、銦、鎂等I族、ΠΑ族、 ΙΠΑ族、IVA族及vmB族金屬中的一種以上的金屬為佳，更優(yōu)選地，使用選自鋅、錯、錫、銅、銀 及金中的一種以上的金屬為佳。
[0049] 優(yōu)選地，上述金屬納米線的直徑為15nm~120nm，長度為5μηι~60μηι。
[0050] 作為在本發(fā)明中可以使用的基板，可以使用通常使用的透明基板，例如，聚酰亞胺 (ΡΙ)基板、聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)基板、聚碳酸酯（PC)基板、環(huán)烯烴聚合物(C0P)基 板、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)基板等。
[0051] 本發(fā)明還提供根據(jù)上述方法形成的透明導(dǎo)電膜。利用本發(fā)明的組合物及方法制造 的透明導(dǎo)電膜的光透射率為80%以上，面電阻為300 Ω/□以下，并且，不僅面電阻、耐環(huán)境 性、總透射率及霧度的特性優(yōu)異，而且即使沒有蝕刻工序，也可以容易地進行表面處理，因 此，可以有用地使用于液晶顯示裝置、等離子顯示裝置、觸控面板、電致發(fā)光裝置、薄膜太陽 能電池、染料敏化太陽能電池、無機物晶質(zhì)太陽能電池等電極。
[0052]以下，為了有助于對本發(fā)明的理解，揭示優(yōu)選的實施例，但下述實施例僅為例示本 發(fā)明，本發(fā)明的范圍并不局限于下述實施例。
[0053]制造例1:包括銀納米線的透明導(dǎo)電膜的制造
[0054] 作為基板，使用作為光學上透明的絕緣體的50~188μηι厚度的聚對苯二甲酸乙二 醇酯膜(PET)。就銀納米線（AgNW)而言，將寬度為約20nm~70nm、長度為約10~30μπι的銀納 米線（AgNW)以約0 . 1 % w/v的濃度分散在乙醇中使用。使用羥丙基纖維素（HPC， Hydroxypropyl cellulose)作為粘度調(diào)節(jié)用增粘劑。在基板上沉淀（sediment)上述銀納米 線分散液，并使用棒涂布機來涂敷于PET基板上后，進行蒸發(fā)干燥，從而制造包括基板及導(dǎo) 電層的透明導(dǎo)電膜。
[0055] 制造例2:性能強化層的形成
[0056] 作為金屬氧化物溶膠，在乙醇中以12.5 %w/v的濃度分散氧化硅系列的化合物后， 向其中將以〇.5%w/v的濃度溶解于乙醇的羥丙基纖維素作為粘合劑按2:1的重量比混合， 并使用棒涂布機在包括上述銀納米線的基板的上部進行涂敷和蒸發(fā)干燥來作為保護層，從 而在基板的上部形成性能強化層作為保護層。
[0057] 制造例3:具有圖2~4的結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電膜的制造
[0058]使用上述制造例1和2的組合物，并為了形成防反射膜而使用MgF2來制造具有圖2 ~4的結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電膜。
[0059] 參考制造例1:透明導(dǎo)電膜的制造
[0060] 除了使用包括銀納米線的油墨來代替銀納米線分散液之外，以與上述實施例1相 同的方法來制造基板后，作為上部保護層，將以〇.15%w/v的濃度在超純水中溶解氧化硅系 列化合物而得到的溶液利用棒涂布機涂敷在銀納米線基板的上部而作為保護層。
[0061] * 比較例 1-2
[0062] 使用包含1重量％的過氧化氫(H202)的表面處理劑1對上述制造例2的透明導(dǎo)電膜 進行表面處理，使用包含1重量％的他0(：1及1重量％的隊1〇4的表面處理劑2對參考制造例 的透明導(dǎo)電膜分別進行表面處理，并對可視性進行評價。
[0063]就可視性評價而言，交叉評價由2名實驗人員分別進行試驗后的試片，并將未完整 地識別圖案的情況下的分數(shù)定為1分，將肉眼完整地識別的情況下的分數(shù)定為5分來進行評 價，并在以下表1中示出結(jié)果。
[0064]并且，在圖6中示出對具有圖1的結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電膜進行表面處理后的表面的照 片。
[0065] 表 1
[0066] [表1]
[0067]
[0068] 如圖6所示，確認了透明導(dǎo)電膜完全去除了銀納米線而成為開路，如上述表1所示， 在以這種形態(tài)去除銀納米線的情況下，確認可視性分數(shù)為5。這被判斷為因上部性能強化層 或保護層無法充分阻擋過氧化物而去除銀納米線，因此，被判斷為可視性不佳。
[0069] 實施例1-8
[0070] 根據(jù)以下表2的組成來制造包含用蒸餾水稀釋的高氯酸及用于高氯酸的穩(wěn)定化的 2.5重量％的醋酸的組合物后，分別對具有圖1~4的結(jié)構(gòu)的上述制造例2~5的透明導(dǎo)電膜 進行處理來評價可視性，并在以下表2中示出結(jié)果。
[0071] 表2
[0072] [表 2]
[0073]
[0074] 如上述表2所示，可知若利用包含a)過氧化物及b)有機酸或無機酸的表面處理劑 組合物，則可以在不去除銀納米線的情況下進行圖案化，可視性為1或2(參照圖7和8)，可以 確保優(yōu)異的可視性。尤其，確認了在圖3結(jié)構(gòu)的情況下，可以進行具有更為優(yōu)異的可視性(可 視性1，圖7)的圖案化。
[0075] 產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0076]與以往的分解或分離金屬納米線來賦予絕緣特性的蝕刻工序相比，本發(fā)明的金屬 納米線的通過表面處理的圖案化方法在圖案的可視性方面有利，而且，可以導(dǎo)入金屬氧化 物溶膠作為光學功能層，從而不僅可以具有高的可視性，而且可以確保可在外部的濕氣及 溫度變化條件下保護導(dǎo)電層的優(yōu)異的耐久性及耐環(huán)境性特性。
【主權(quán)項】
1. 一種通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方法，其特征在于，在 基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化工序中，包括： 1) 在導(dǎo)電層上設(shè)置性能強化層的步驟；以及 2) 利用包含a)過氧化物及b)有機酸或無機酸的表面處理劑組合物對金屬納米線透明 導(dǎo)電膜進行表面處理的步驟。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述過氧化物為選自過氧化鈉、過氧化脲、NaOCl、NaCl〇4、NaCl〇2、NaCl〇3、 順4(：10、順4(：1〇2、順4(：1〇3、順4(：1〇4、1((：1〇3、1((：10、1((：1〇4、1((：1〇2及?0(：13中的一種以上。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述過氧化物以0.1~10重量％的量包含在表面處理劑中。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述有機酸為選自醋酸、乳酸、馬來酸、琥珀酸、草酸及丙二酸中的一種以 上。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述無機酸為選自磷酸、鹽酸及硝酸中的一種以上。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述表面處理劑組合物還包含無機化合物。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述有機酸或無機酸以0.1~10重量％的量包含在表面處理劑中。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述性能強化層由包含金屬氧化物溶膠的組合物形成。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述金屬氧化物溶膠為選自氟化鎂溶膠、氟化鈣溶膠、鋅錫氧化物溶膠、氧 化鋅溶膠、二氧化硅溶膠、錫氧化物溶膠、錳氧化物溶膠、鎂氧化物溶膠中的一種以上的金 屬氧化物溶膠。10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述組合物還包含粘合劑。11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述粘合劑選自纖維素樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚氨酯 丙烯酸酯樹脂、纖維素醚樹脂及醋酸纖維素樹脂中的一種以上。12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的通過表面處理的基于金屬納米線的透明導(dǎo)電膜的圖案化方 法，其特征在于，所述金屬納米線的直徑為15nm~120nm，長度為5μηι~60μηι。13. -種透明導(dǎo)電膜，其由權(quán)利要求1~12所述的圖案化方法制造。14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的透明導(dǎo)電膜，其特征在于，所述透明導(dǎo)電膜的透射率至少為 80%，面電阻為300 Ω/□以下。15. -種電子元件，其特征在于，包括權(quán)利要求13所述的透明導(dǎo)電膜。
【文檔編號】H01B5/14GK105900188SQ201480071451
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2014年12月29日
【發(fā)明人】李炳昱, 李圣賢, 金京恩, 金明珍, 徐東敏, 金圣培
【申請人】東進世美肯株式會社