基板保持方法及基板處理裝置的制造方法
【專利摘要】基板保持方法，用于使基板保持水平，包括：載置工序，將基板載置在基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)上；第一準(zhǔn)備工序，在旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的第一區(qū)域中，將沿周向配置的多個(gè)定位銷變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)；第二準(zhǔn)備工序，在旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的與第一區(qū)域在周向上不重疊的第二區(qū)域中，將沿周向配置的多個(gè)把持用銷變?yōu)榇蜷_狀態(tài)；定位工序，在載置工序、第一準(zhǔn)備工序及第二準(zhǔn)備工序之后，通過使基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)并使基板的周緣部與多個(gè)定位銷抵接，來對基板定位；基板把持工序，在定位工序之后，將多個(gè)把持用銷變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)，由此，通過多個(gè)定位銷和多個(gè)把持用銷來保持基板；搬運(yùn)機(jī)構(gòu)退避工序，在基板把持工序之后，使基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)從旋轉(zhuǎn)底座的上方退避。
【專利說明】
基板保持方法及基板處理裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及在具有旋轉(zhuǎn)底座的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置上保持基板的方法，以及包括該基板保持旋轉(zhuǎn)裝置和基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的基板處理裝置。作為處理對象的基板，包括半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用玻璃基板、等離子顯示器用玻璃基板、光掩模用基板、光盤用基板、磁盤用基板、磁光盤用基板、FED(Field Emiss1n Display)用基板、陶瓷基板、太陽能電池用基板等各種基板。
【背景技術(shù)】
[0002]對如同半導(dǎo)體晶片的基板進(jìn)行處理的基板處理裝置大致分為對多個(gè)基板一并處理的批量型處理裝置和在處理室內(nèi)對作為處理對象的基板，一次處理一片的單張式處理裝置。在普通的單張式處理裝置中，處理室內(nèi)一片基板保持為水平，根據(jù)處理的內(nèi)容，進(jìn)行基板的旋轉(zhuǎn)或者向基板供給處理液。
[0003]單張式處理裝置具有旋轉(zhuǎn)卡盤。在旋轉(zhuǎn)卡盤的旋轉(zhuǎn)底座的上表面，多個(gè)卡盤銷以等間隔的方式沿周向配置。各卡盤銷設(shè)置為:能夠?qū)εc基板的周緣部接觸的關(guān)閉狀態(tài)和與基板的周緣部不接觸的打開狀態(tài)的兩種動(dòng)作狀態(tài)進(jìn)行切換。通過由多個(gè)卡盤銷沿水平方向夾持基板，使得基板保持在旋轉(zhuǎn)卡盤上。
[0004]就基板保持在旋轉(zhuǎn)卡盤上而言，通過卡盤銷與水平支撐銷之間的協(xié)作動(dòng)作來進(jìn)行。在日本特開2014-45028號公報(bào)中公開了利用旋轉(zhuǎn)卡盤的基板保持動(dòng)作的一例。在日本特開2014-45028號公報(bào)中，基板處理裝置的旋轉(zhuǎn)卡盤具有:圓盤狀的旋轉(zhuǎn)底座；多個(gè)保持基座，在旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部上，沿與基板的外周形狀相對應(yīng)的圓周隔開間隔地配置;旋轉(zhuǎn)電機(jī)，使旋轉(zhuǎn)底座圍繞通過旋轉(zhuǎn)底座的中心的垂直的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。保持基座具有:水平支撐銷，從基板的下表面支撐基板;卡盤銷，其從基板的側(cè)面方向夾持基板。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]但是，在日本特開2014-45028號公報(bào)中，為了從基板的側(cè)面夾持基板，需要通過水平支撐銷從下面支撐基板的下部的動(dòng)作。為此，需要水平支撐銷及用于使其移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，從而基板處理裝置的小型化變得困難。另外，在夾持基板之前，需要將基板下部載置在水平支撐銷的工序，因此，難以在短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行從搬運(yùn)基板之后到從側(cè)面夾持基板為止的工序。
[0006]優(yōu)選地，不設(shè)置上述水平支撐銷或者其移動(dòng)機(jī)構(gòu)，在基板保持在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(旋轉(zhuǎn)卡盤)中，以簡單的結(jié)構(gòu)從水平方向夾持基板。
[0007]因此，本發(fā)明的目的在于，提供基板保持方法及基板處理裝置，在基板保持在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)中，既能夠確保高定位精度，又能夠以簡單的結(jié)構(gòu)從水平方向夾持基板。
[0008]本發(fā)明的第一技術(shù)方案，基板保持方法，用于使基板保持水平，其特征在于，
[0009]包括:
[0010]載置工序，將基板載置在基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)上，
[0011]第一準(zhǔn)備工序，在旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的第一區(qū)域中，將沿周向配置的多個(gè)定位銷變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)，
[0012]第二準(zhǔn)備工序，在所述旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的與所述第一區(qū)域在周向上不重疊的第二區(qū)域中，將沿周向配置的多個(gè)把持用銷變?yōu)榇蜷_狀態(tài)，
[0013]定位工序，在所述載置工序、所述第一準(zhǔn)備工序及所述第二準(zhǔn)備工序之后，通過使所述基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)并使所述基板的周緣部與所述多個(gè)定位銷抵接，來對所述基板定位，
[0014]基板把持工序，在所述定位工序之后，將所述多個(gè)把持用銷變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)，由此，通過所述多個(gè)定位銷和所述多個(gè)把持用銷來保持所述基板，
[0015]搬運(yùn)機(jī)構(gòu)退避工序，在所述基板把持工序之后，使所述基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)從所述旋轉(zhuǎn)底座的上方退避。
[0016]根據(jù)該方法，能夠省略將基板從基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)暫時(shí)載置在水平支撐銷等上的工序。另外，將定位銷預(yù)先置為關(guān)閉狀態(tài)，該關(guān)閉狀態(tài)的定位銷的位置是相對旋轉(zhuǎn)底座的基板的定位基準(zhǔn)，因此，能夠確保定位精度。即，通過旋轉(zhuǎn)卡盤來保持基板，既能夠確?；宓亩ㄎ痪?，又能夠進(jìn)行工序的削減。
[0017]另外，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，所述多個(gè)定位銷配置在分開角度為180度以內(nèi)的所述第一區(qū)域。
[0018]在定位銷的分開角度超過180度的情況下，在本發(fā)明中，定位銷處于關(guān)閉狀態(tài)，因此，與把持用銷是打開狀態(tài)還是關(guān)閉狀態(tài)無關(guān)，使基板與定位銷抵接實(shí)質(zhì)上是困難的。因此，通過該方法，多個(gè)定位銷配置在分開角度為180度以內(nèi)的范圍，從而能夠回避這樣的問題。
[0019]另外，所述多個(gè)定位銷在所述第二準(zhǔn)備工序、所述定位工序、所述基板把持工序及所述搬運(yùn)機(jī)構(gòu)退避工序期間，始終保持關(guān)閉狀態(tài)。
[0020]根據(jù)該方法，在定位銷是在打開狀態(tài)和關(guān)閉狀態(tài)之間能夠開閉的結(jié)構(gòu)的情況下，能夠省略使定位銷的開關(guān)閉狀態(tài)變化的工序。
[0021]本發(fā)明的第二技術(shù)方案，提供基板處理裝置，包括用于使基板水平地保持旋轉(zhuǎn)的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置和用于搬運(yùn)所述基板的基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，該基板處理裝置用于對所述基板進(jìn)行處理，其特征在于，
[0022]所述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置包括:
[0023]旋轉(zhuǎn)底座，以旋轉(zhuǎn)軸為中心能夠旋轉(zhuǎn)，
[0024]旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述旋轉(zhuǎn)底座旋轉(zhuǎn)，
[0025]多個(gè)定位銷，在所述旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的第一區(qū)域中，沿周向配置，
[0026]多個(gè)把持用銷，在所述旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的與所述第一區(qū)域在周向上不重疊的第二區(qū)域中，沿周向配置，
[0027]把持用銷開閉機(jī)構(gòu)，用于使所述多個(gè)把持用銷在關(guān)閉狀態(tài)和打開狀態(tài)之間切換，
[0028]該基板處理裝置還具有控制單元，該控制單元用于控制所述基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)、所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述把持用銷開閉機(jī)構(gòu)的動(dòng)作。
[0029]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠從基板保持旋轉(zhuǎn)裝置的結(jié)構(gòu)省略用于暫時(shí)載置基板的水平支撐銷等機(jī)構(gòu)。另外，將定位銷預(yù)先置為關(guān)閉狀態(tài)，該關(guān)閉狀態(tài)的定位銷的位置是相對旋轉(zhuǎn)底座的基板的定位基準(zhǔn)，因此，能夠確保定位精度。即，通過旋轉(zhuǎn)卡盤來保持基板，既能夠確保基板的定位精度，又能夠消減水平支撐銷等的機(jī)構(gòu)。
[0030]另外，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，所述多個(gè)定位銷配置在分開角度為180度以內(nèi)的所述第一區(qū)域。
[0031 ]在定位銷的分開角度超過180度的情況下，在本發(fā)明中，定位銷處于關(guān)閉狀態(tài)，因此，與把持用銷是打開狀態(tài)還是關(guān)閉狀態(tài)無關(guān)，使基板與定位銷抵接實(shí)質(zhì)上是困難的。因此，通過該方法，多個(gè)定位銷配置在分開角度為180度以內(nèi)的范圍，從而能夠回避這樣的問題。
[0032]所述多個(gè)定位銷也可以始終固定在關(guān)閉狀態(tài)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，定位銷也可以維持關(guān)閉狀態(tài)，因此，例如能夠省略切換打開狀態(tài)和關(guān)閉狀態(tài)的機(jī)構(gòu)。
[0033]本發(fā)明的上述或者其他目的、特征及效果，根據(jù)參照附圖進(jìn)行說明的實(shí)施方式會更加清楚。
【附圖說明】
[0034]圖1是示出本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置的概要結(jié)構(gòu)的圖。
[0035]圖2A是示出所述基板處理裝置的旋轉(zhuǎn)卡盤的俯視圖。
[0036]圖2B是示出所述基板處理裝置的旋轉(zhuǎn)卡盤的俯視圖。
[0037]圖3A是用于說明基板處理裝置的主要部分的電器結(jié)構(gòu)的框圖。
[0038]圖3B是示出所述基板處理裝置所執(zhí)行的基板搬入搬出動(dòng)作的流程的流程圖。
[0039]圖4A是用于說明所述流程圖的步驟SI的基板處理裝置的圖。
[0040]圖4B是用于說明所述流程圖的步驟S2的基板處理裝置的圖。
[0041]圖4C是用于說明所述流程圖的步驟S3的基板處理裝置的圖。
[0042]圖4D是用于說明所述流程圖的步驟S4的基板處理裝置的圖。
[0043]圖4E是用于說明所述流程圖的步驟S5的基板處理裝置的圖。
[0044]圖4F是用于說明所述流程圖的步驟S6的基板處理裝置的圖。
[0045]圖4G是用于說明所述流程圖的步驟S7的基板處理裝置的圖。
[0046]圖4H是用于說明所述流程圖的步驟S8的基板處理裝置的圖。
[0047]圖41是用于說明所述流程圖的步驟S9的基板處理裝置的圖。
[0048]圖4J是用于說明所述流程圖的步驟SlO的基板處理裝置的圖。
[0049]圖5是用于說明基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意性的立體圖。
[0050]圖6是其他方式的基板處理裝置的示意性的側(cè)視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0051]圖1是示出本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置I的概要結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖?；逄幚硌b置I具有由腔室壁11包圍的處理室10。處理室10具有旋轉(zhuǎn)卡盤(基板保持旋轉(zhuǎn)裝置)2。在腔室壁11的側(cè)面設(shè)置有能夠開閉開口的擋板部11A。能夠使圖5所示的基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5的手部機(jī)構(gòu)6通過該開口來進(jìn)行進(jìn)退。
[0052]基板處理裝置I還具有處理液噴嘴15和/或氣體噴嘴16。處理液噴嘴15或氣體噴嘴16除了進(jìn)行基板處理時(shí)，通常退避至退避位置，在進(jìn)行基板處理時(shí)，通過未圖示的移動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)至基板W上方的規(guī)定位置。
[0053]旋轉(zhuǎn)卡盤2具有圓盤狀的旋轉(zhuǎn)底座21和使旋轉(zhuǎn)底座21旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)電機(jī)(旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu))22。旋轉(zhuǎn)電機(jī)22配置于旋轉(zhuǎn)底座21的下方。多個(gè)定位銷基座部51A、51B、51C沿周向大致等間隔地配置于旋轉(zhuǎn)底座21的上表面的周緣部。多個(gè)定位銷基座部51A、51B、51C配置于由旋轉(zhuǎn)底座21的上表面周緣部的約120度(I 80度以內(nèi)的規(guī)定角度)的范圍形成的第一區(qū)域21B(參照圖2A)。即，定位銷基座部51A、51B、51C以隔著約60度間隔的方式配置。即，多個(gè)定位銷基座部51A、51B、51C(后述的定位銷50A、50B、50C)的分開角度約為120度(180度以內(nèi)的規(guī)定角度)。
[0054]在定位銷基座部51A、51B、51C的各上部設(shè)置有相對所述定位銷基座部51A、51B、51C能夠在徑向上移動(dòng)(或者能夠旋轉(zhuǎn))的定位銷50A、50B、50C。各定位銷50A、50B、50C連接有第一卡盤開閉單元91。作為第一卡盤開閉單元91的動(dòng)力源，可適用利用電動(dòng)馬達(dá)、電磁鐵等各種形式的動(dòng)力源。定位銷50A、50B、50C通過第一卡盤開閉單元91可以在與基板W的周緣部接觸的接觸位置和比接觸位置更遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸線LI的開放位置之間移動(dòng)。將定位銷50A、50B、50C處于接觸位置的狀態(tài)稱為定位銷50A、50B、50C的關(guān)閉位置，將定位銷50A、50B、50C處于開放位置的狀態(tài)稱為定位銷50A、50B、50C的打開位置。
[0055]多個(gè)把持用銷基座部61A、61B、61C沿周向大致等間隔地配置在旋轉(zhuǎn)底座21的上表面的周緣部。多個(gè)把持用銷基座部6IA、61B、61C配置于由旋轉(zhuǎn)底座21的上表面周緣部的約120度(180度以內(nèi)的規(guī)定角度)的范圍形成的第二區(qū)域21C(參照圖2A)。在旋轉(zhuǎn)底座21的上表面周緣部上，第二區(qū)域21C與第一區(qū)域21B在周向上不重疊。
[0056]S卩，把持用銷基座部61A、61B、61C以隔著約60度間隔的方式配置。即，多個(gè)把持用銷基座部61A、61B、61C(后述的把持用銷60A、60B、60C)的分開角度約為120度(180度以內(nèi)的規(guī)定角度)。
[0057]在把持用銷基座部61A、61B、61C的各上部設(shè)置有相對所述把持用銷基座部61A、61B、61C能夠在徑向上移動(dòng)的把持用銷60A、60B、60C。各把持用銷60A、60B、60C連接有第二卡盤開閉單元(把持用銷開閉機(jī)構(gòu))92。作為第二卡盤開閉單元92的動(dòng)力源，可適用利用電動(dòng)馬達(dá)、電磁鐵等的各種形式的動(dòng)力源。把持用銷60A、60B、60C通過第二卡盤開閉單元92可以在與基板W的周緣部接觸的接觸位置和比接觸位置更遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)軸線LI的開放位置之間移動(dòng)。在本實(shí)施方式中，把持用銷60A、60B、60C的開放位置和定位銷50A、50B、50C的開放位置位于以旋轉(zhuǎn)軸線LI為中心的圓周上。將把持用銷60A、60B、60C處于接觸位置的狀態(tài)稱為把持用銷60A、60B、60C的關(guān)閉位置，將把持用銷60A、60B、60C處于開放位置的狀態(tài)稱為把持用銷60A、60B、60C的打開位置。
[0058]此外，在圖1中，為了容易理解附圖，沒有圖示定位銷基座部、定位銷、把持用銷基座部、把持用銷的全部，而僅圖示定位銷50B及與其對應(yīng)的定位銷基座部51B、把持用銷60B及與其對應(yīng)的把持用銷基座部61B。在后述的圖4A?圖4J中也進(jìn)行同樣的省略。
[0059]各定位銷50A、50B、50C具有:抵接部53A、53B、53C，以與基板W的周緣部(周端面)抵接的方式形成為圓柱狀，并且在俯視時(shí)呈圓弧狀；引導(dǎo)部52A、52B、52C，向所述抵接部53A、53B、53C的下部傾斜的方向延伸。在本實(shí)施方式中，與基板W的處理狀態(tài)無關(guān)，定位銷50A、5(?、50(:相對旋轉(zhuǎn)底座21總是設(shè)置成關(guān)閉狀態(tài)。
[0060]各把持用銷60A、60B、60C基本上具有與定位銷50A、50B、50C相同的形狀。即，與定位銷50A、50B、50C相同，各把持用銷60A、60B、60C具有:抵接部63A、63B、63C，以與基板W的周緣部(周端面)抵接的方式形成為圓柱狀，并且在俯視時(shí)呈圓弧狀；引導(dǎo)部62A、62B、62C，向所述抵接部的下部傾斜方向延伸。把持用銷60A、60B、60C通過銷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)64，在把持用銷60A、60B、60C的把持用銷基座部61A、61B、61C上，相對旋轉(zhuǎn)底座21的上表面在徑向上水平移動(dòng)。在打開狀態(tài)下，相對旋轉(zhuǎn)底座21的上表面向外周側(cè)方向水平移動(dòng)，在關(guān)閉狀態(tài)下，相對旋轉(zhuǎn)底座21的上表面稍微向內(nèi)周側(cè)方向水平移動(dòng)(或者旋轉(zhuǎn))。
[0061]圖2A及圖2B是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置I的旋轉(zhuǎn)卡盤2的俯視圖。圖2A示出多個(gè)定位銷50A、50B、50C全部是關(guān)閉狀態(tài)，且多個(gè)把持用銷60A、60B、60C全部是打開狀態(tài)的狀態(tài)。圖2B示出多個(gè)定位銷50A、50B、50C全部是關(guān)閉狀態(tài)，且多個(gè)把持用銷60A、60B、60C也全部是關(guān)閉狀態(tài)的狀態(tài)。這樣，本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的旋轉(zhuǎn)卡盤2具有定位銷50A、50B、50C和把持用銷60A、60B、60C共兩種銷，在本實(shí)施方式的工序中，僅把持用銷60A、60B、60C移動(dòng)至打開狀態(tài)的位置和關(guān)閉狀態(tài)的位置。
[0062]圖3A是用于說明基板處理裝置I的主要部分的電器結(jié)構(gòu)的框圖。
[0063]基板處理裝置I具有用于控制基板處理裝置I的動(dòng)作的控制部(控制單元)70?？刂撇?0例如利用微型計(jì)算機(jī)來構(gòu)成?？刂撇?0具有CPU等運(yùn)算單元、固定存儲設(shè)備、硬盤驅(qū)動(dòng)器等存儲部80、及輸入輸出單元。存儲單元存儲有供運(yùn)算單元執(zhí)行的程序。
[0064]控制部70通過預(yù)定的程序來控制旋轉(zhuǎn)電機(jī)22、第一卡盤開閉單元91及第二卡盤開閉單元92、基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5等的動(dòng)作。
[0065]圖3B是表示本發(fā)明的實(shí)施方式的基板處理裝置I將基板W搬入處理室10之后到搬出為止的工序的流程圖。以下，一邊參照圖1?圖3B，一邊對本發(fā)明實(shí)施方式的工序進(jìn)行說明。
[0066]首先，對基板W搬入處理室10之后到變?yōu)槟軌蜻M(jìn)行處理室中的各種處理的狀態(tài)為止的各工序(SI?S6)。
[0067][步驟SI]
[0068]圖4A是用于說明步驟SI中旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。
[0069]圖5示出基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5的裝置結(jié)構(gòu)?；灏徇\(yùn)機(jī)構(gòu)5具有:臂部68，以關(guān)節(jié)部67為軸在水平方向上能夠自由屈曲；手部機(jī)構(gòu)6，與臂部68連結(jié)并將基板W載置于該手部機(jī)構(gòu)6的上部；上下驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)66，使關(guān)節(jié)部52、臂部53及手部機(jī)構(gòu)6在垂直方向上下移動(dòng)。控制部70(參照圖3A)控制基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5并使其向垂直方向(即垂直方向)移動(dòng)，并且使手部機(jī)構(gòu)6移動(dòng)。上述移動(dòng)中的手部機(jī)構(gòu)6的位置提前利用模擬晶片等，通過所謂教學(xué)(示教)來決定，并作為基板處理裝置I的一連串的處理工序參數(shù)存儲在存儲部80(參照圖3A)內(nèi)。
[0070]控制部70(參照圖3A)根據(jù)各工序，將關(guān)于合適的手部機(jī)構(gòu)6的位置的指示從存儲部80傳遞給基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5。在步驟SI中，基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5從處理室10外的未圖示的加載/卸載部接收基板W，并將基板W載置在手部機(jī)構(gòu)6的上部(基板載置工序)。在該狀態(tài)下，向旋轉(zhuǎn)卡盤2的上方移動(dòng)，在俯視時(shí)，在載置的基板W的中心比旋轉(zhuǎn)卡盤2的中心部稍微靠近把持用銷60B的位置，使手部機(jī)構(gòu)6停止。
[0071][步驟S2]
[0072]圖4B是用于說明步驟S2中的旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。在步驟S2中，把持用銷60A、60B、60C全部為打開狀態(tài)。在基板處理裝置I中，在基板W到目前為止沒有被處理的情況下，通過開閉傳感器(未圖示)來檢測把持用銷60A、60B、60C是否位于旋轉(zhuǎn)底座21的徑向的外周側(cè)。并且，當(dāng)把持用銷60A、60B、60C位于旋轉(zhuǎn)底座21的徑向的內(nèi)周側(cè)(即把持用銷60A、60B、60C為關(guān)閉狀態(tài)的情況下)的情況下，控制部70控制第二卡盤開閉單元92，使把持用銷60A、60B、60C變成打開狀態(tài)(第二準(zhǔn)備工序)。在基板處理裝置I中，在基板W到目前為止已被處理的情況下，從該處理的前一個(gè)基板W被搬出到下一個(gè)基板W被搬入為止，把持用銷60A、60B、60C維持在搬出前一個(gè)基板W時(shí)所設(shè)定的打開狀態(tài)，因此，不需要重新設(shè)定打開狀態(tài)。
[0073][步驟S3]
[0074]圖4C是用于說明步驟S3中旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。在步驟S3中，控制部70控制第一^^盤開閉單元91，使定位銷50A、50B、50C的位置變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)(第一準(zhǔn)備工序)。關(guān)閉狀態(tài)下的定位銷50A、50B、50C相對于旋轉(zhuǎn)底座21的位置設(shè)定為:當(dāng)后述的步驟S6中基板W由把持用銷60A、60B、60C把持時(shí)，基板W的中心位置與旋轉(zhuǎn)底座21的旋轉(zhuǎn)軸線相交。在該基板處理例中，此后，定位銷50A、50B、50C相對于旋轉(zhuǎn)底座21的位置在基板W的搬出的之前為止不移動(dòng)。此外，在本基板處理例中，由于不需要使定位銷50A、50B、50C相對于旋轉(zhuǎn)底座21移動(dòng)，因此，可以利用省略定位銷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)54A、54B、54C的裝置結(jié)構(gòu)。此外，在本基板處理例中，在步驟SI的階段中，定位銷50A、50B、50C的位置已經(jīng)變成關(guān)閉狀態(tài)，因此，從步驟SI到步驟S2，定位銷50A、50B、50C的位置無變化。
[0075][步驟S4]
[0076]圖4D是用于說明步驟S4中的旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。在步驟S4中，使基板W抵接于定位銷50A、50B、50C。更詳細(xì)地說，控制部70控制基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5使手部機(jī)構(gòu)6下降，由此，使載置于手部機(jī)構(gòu)6上的基板W的周緣部(周端面)抵接于定位銷50A、50B、50C的引導(dǎo)部52A、52B、52C及把持用銷的引導(dǎo)部62A、62B、62C。由此，能夠?qū)錡的周緣部(周端面)定位(定位工序)。
[0077][步驟S5]
[0078]圖4E是用于說明步驟S5中的旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。在步驟S5中，把持用銷60A、60B、60C全部從打開狀態(tài)向關(guān)閉狀態(tài)移動(dòng)。換言之，把持用銷60A、60B、60C全部在朝向旋轉(zhuǎn)底座21的中心的徑向上移動(dòng)規(guī)定距離。根據(jù)該移動(dòng)，基板W的周緣部沿定位銷50A、50B、50C的引導(dǎo)部52A、52B、52C及把持用銷60A、60B、60C的引導(dǎo)部62A、62B、62C的傾斜面移動(dòng)。該移動(dòng)持續(xù)至基板W與定位銷50A、50B、50C的抵接部53A、53B、53C及把持用銷60A、60B、60C的抵接部63A、63B、63C相碰為止。其結(jié)果，在旋轉(zhuǎn)卡盤2上，通過定位銷50A、50B、50C及把持用銷60A、60B、60C來夾持基板W。
[0079]在此，定位銷50A、50B、50C的關(guān)閉狀態(tài)的旋轉(zhuǎn)底座21上的位置以使旋轉(zhuǎn)底座21上的基板W正確定位為目的而進(jìn)行調(diào)整。換言之，在基板W的周面部(周端面)與定位銷50A、50B、50C的抵接部53A、53B、53C抵接的狀態(tài)下，以使基板W的中心與旋轉(zhuǎn)底座21的中心一致的方式進(jìn)行調(diào)整。定位銷50A、50B、50C具有這樣的目的，因此，優(yōu)選為在關(guān)閉狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)底座21上的相對位置不變動(dòng)。換言之，優(yōu)選為:定位銷50A、50B、50C在關(guān)閉狀態(tài)下，在旋轉(zhuǎn)底座21上的所謂位置的“活動(dòng)”少。
[0080]另一方面，就把持用銷60A、60B、60C而言，關(guān)閉狀態(tài)中的相對于旋轉(zhuǎn)底座21的相對位置，通過內(nèi)置有彈簧機(jī)構(gòu)等，存在少許的位置的“活動(dòng)”。在步驟S5結(jié)束的時(shí)刻，優(yōu)選為，把持用銷60A、60B、60C的抵接部63A、63B、63C處于朝向旋轉(zhuǎn)卡盤2的中心的徑向的規(guī)定收緊力傳遞給基板W的周緣部(周端面)的狀態(tài)。換言之，就把持用銷60A、60B、60C而言，優(yōu)選為，關(guān)閉狀態(tài)的位置與定位銷50A、50B、50C相比，設(shè)定成稍微靠近旋轉(zhuǎn)底座21的中心，并且，即便關(guān)閉狀態(tài)下把持用銷60A、60B、60C也能夠在旋轉(zhuǎn)底座21的徑向上稍微移動(dòng)，使得把持用銷60A、60B、60C發(fā)揮把持用銷的作用。
[0081][步驟S6]
[0082]圖4F是用于說明步驟S6中的旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。在步驟S6中，控制部70控制基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5，使手部機(jī)構(gòu)6從基板W的下表面退避(搬運(yùn)機(jī)構(gòu)退避工序)。當(dāng)手部機(jī)構(gòu)6從基板W的下表面退避時(shí)，基板W在旋轉(zhuǎn)底座21的上方被定位銷50A、50B、50C及把持用銷60A、60B、60C夾持。之后，包括手部機(jī)構(gòu)6，基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5的整體通過腔室壁11上的擋板部IlA從處理室10退避。
[0083][步驟S7]
[0084]圖4G是用于說明步驟S7中的旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。在步驟S7中，根據(jù)控制部70從存儲部80讀出的方法，進(jìn)行基板W的各種基板處理。作為這里的基板處理的例，可以有基板W的蝕刻、清洗、干燥等。在基板處理中，控制部70基于方法從處理液噴嘴15吐出規(guī)定的處理液，從氣體噴嘴16吐出規(guī)定的處理氣體，且使基板W以基于方法的規(guī)定轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)。
[0085]接著，說明在基板W的處理結(jié)束之后，基板W從交接至基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5的手部機(jī)構(gòu)6到從處理室10搬出為止的工序(S8?Sll)。
[0086][步驟S8]
[0087]圖4H是用于說明步驟S8中的旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。在步驟S8中，控制部70控制基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5，使沒有載置基板W的手部機(jī)構(gòu)6通過腔室壁11上的擋板部IIA進(jìn)入處理室10。
[0088]接著，控制部70控制基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5，使手部機(jī)構(gòu)6移動(dòng)到由定位銷50A、50B、50C及把持用銷60A、60B、60C夾持的基板W的下表面與旋轉(zhuǎn)底座21的上表面之間的規(guī)定位置，并使手部機(jī)構(gòu)6上升到手部機(jī)構(gòu)6的上表面與基板W的下表面幾乎接觸的位置為止。
[0089][步驟S9]
[0090]圖41是用于說明步驟S9中的旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的關(guān)系的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。
[0091 ] 在步驟S9中，把持用銷60A、60B、60C全部為打開狀態(tài)。由此，基板W通過自重，沿把持用銷60A、60B、60C的引導(dǎo)部62A、62B、62C及定位銷50A、50B、50C的引導(dǎo)部52A、52B、52C向下方移動(dòng)。其結(jié)果，基板W的下表面與手部機(jī)構(gòu)6的上表面接觸。其結(jié)果，基板W的下表面由手部機(jī)構(gòu)6的上表面從下面支撐。由此，基板W交接至手部機(jī)構(gòu)6。
[0092][步驟S10]
[0093]圖4J是用于說明步驟SlO中的旋轉(zhuǎn)卡盤2與基板W之間的旋轉(zhuǎn)卡盤2的側(cè)視圖。
[0094]在步驟SlO中，控制部70控制基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)5，使手部機(jī)構(gòu)6相對旋轉(zhuǎn)卡盤2向垂直上方移動(dòng)。由此，阻斷基板W的下表面與定位銷50A、50B、50C及把持用銷60A、60B、60C之間的接觸，從而實(shí)現(xiàn)僅由手部機(jī)構(gòu)6從下面支撐的狀態(tài)。手部機(jī)構(gòu)6的下表面位于定位銷50A、50B、50C及把持用銷60A、60B、60C的上方之后，手部機(jī)構(gòu)6通過水平移動(dòng)從旋轉(zhuǎn)底座21的上方退避。之后，手部機(jī)構(gòu)6將載置的基板W交接至未圖示的加載/卸載部。
[0095]本發(fā)明的實(shí)施方式的說明如上所述，但是本發(fā)明也可以以其他的方式實(shí)施。
[0096]例如，在上述說明的實(shí)施方式中，定位銷50A、50B、50C及把持用銷60A、60B、60C為通過在旋轉(zhuǎn)底座21的徑向上移動(dòng)來實(shí)現(xiàn)關(guān)閉狀態(tài)或者打開狀態(tài)的結(jié)構(gòu)。但是，針對實(shí)現(xiàn)打開狀態(tài)或者關(guān)閉狀態(tài)的結(jié)構(gòu)，除此之外，可以采用通過將定位銷50A、50B、50C及把持用銷60A、60B、60C在沿垂直方向立接的狀態(tài)與沿垂直傾斜方向立接的狀態(tài)切換來切換開閉狀態(tài)的方式，或者通過使定位銷50A、50B、50C及把持用銷60A、60B、60C自轉(zhuǎn)而使與基板W抵接的狀態(tài)變化來切換開閉狀態(tài)的方式。
[0097]圖6示出其他方式的基板處理裝置101的示意性的側(cè)視圖?；逄幚硌b置101具有由腔室壁111包圍的處理空間，所述處理空間具有用于使未圖示的基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的未圖示的手部機(jī)構(gòu)進(jìn)退的擋板部111A。該收容空間收容有旋轉(zhuǎn)卡盤102、用于供給處理液的處理液噴嘴115、用于供氣的氣體噴嘴116等。旋轉(zhuǎn)底座121具有圓盤狀的上部板12IA。上部板12IA的周緣部大致等角度間隔地配置有多個(gè)卡盤銷130。各卡盤銷130具有:基座部131，固定在旋轉(zhuǎn)底座121的上部板121A上；引導(dǎo)部132，與基座部131的上方連接并在卡盤銷130的垂直傾斜上方向延伸;抵接部133，與引導(dǎo)部132連接并垂直地形成;未圖示的卡盤銷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過使引導(dǎo)部132及抵接部133相對于基座部131移動(dòng)，將卡盤銷130切換為打開狀態(tài)或關(guān)閉狀態(tài)。多個(gè)水平支撐銷140以大致等角度間隔地配置在上部板121A的內(nèi)周部側(cè)。上述水平支撐銷140可通過水平支撐銷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)141相對于上部板121A在垂直方向上下移動(dòng)。
[0098]對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但這些不過是為了使本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容清楚所使用的具體例，本發(fā)明不限于這些具體例，本發(fā)明的范圍僅由權(quán)利要求書的范圍進(jìn)行限定。
[0099]本申請與2015年3月27日向日本特許廳提出的發(fā)明專利申請2015-066241號和2016年I月25日向日本專利廳提出的發(fā)明專利申請2016-11694號分別對應(yīng)，上述申請的全部內(nèi)容在此引入本申請作為參考。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基板保持方法，用于使基板保持水平，其特征在于， 包括: 載置工序，將基板載置在基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)上， 第一準(zhǔn)備工序，在旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的第一區(qū)域中，將沿周向配置的多個(gè)定位銷變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)， 第二準(zhǔn)備工序，在所述旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的與所述第一區(qū)域在周向上不重疊的第二區(qū)域中，將沿周向配置的多個(gè)把持用銷變?yōu)榇蜷_狀態(tài)， 定位工序，在所述載置工序、所述第一準(zhǔn)備工序及所述第二準(zhǔn)備工序之后，通過使所述基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)移動(dòng)并使所述基板的周緣部與所述多個(gè)定位銷抵接，來對所述基板定位，基板把持工序，在所述定位工序之后，將所述多個(gè)把持用銷變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)，由此，通過所述多個(gè)定位銷和所述多個(gè)把持用銷來保持所述基板， 搬運(yùn)機(jī)構(gòu)退避工序，在所述基板把持工序之后，使所述基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)從所述旋轉(zhuǎn)底座的上方退避。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板保持方法，其特征在于， 所述多個(gè)定位銷配置在分開角度為180度以內(nèi)的所述第一區(qū)域。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板保持方法，其特征在于， 所述多個(gè)定位銷在所述第二準(zhǔn)備工序、所述定位工序、所述基板把持工序及所述搬運(yùn)機(jī)構(gòu)退避工序期間，始終保持關(guān)閉狀態(tài)。4.一種基板處理裝置，包括用于使基板水平地保持旋轉(zhuǎn)的基板保持旋轉(zhuǎn)裝置和用于搬運(yùn)所述基板的基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，該基板處理裝置用于對所述基板進(jìn)行處理，其特征在于， 所述基板保持旋轉(zhuǎn)裝置包括: 旋轉(zhuǎn)底座，以旋轉(zhuǎn)軸為中心能夠旋轉(zhuǎn)， 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述旋轉(zhuǎn)底座旋轉(zhuǎn)， 多個(gè)定位銷，在所述旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的第一區(qū)域中，沿周向配置， 多個(gè)把持用銷，在所述旋轉(zhuǎn)底座的上表面周緣部的與所述第一區(qū)域在周向上不重疊的第二區(qū)域中，沿周向配置， 把持用銷開閉機(jī)構(gòu)，用于使所述多個(gè)把持用銷在關(guān)閉狀態(tài)和打開狀態(tài)之間切換， 該基板處理裝置還具有控制單元，該控制單元用于控制所述基板搬運(yùn)機(jī)構(gòu)、所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述把持用銷開閉機(jī)構(gòu)的動(dòng)作。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述多個(gè)定位銷配置在分開角度為180度以內(nèi)的所述第一區(qū)域。6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述多個(gè)定位銷始終保持關(guān)閉狀態(tài)。
【文檔編號】H01L21/683GK106024688SQ201610177290
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年3月25日
【發(fā)明人】小林和貴, 加藤洋
【申請人】株式會社思可林集團(tuán)