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      一種蒸鍍坩堝的制作方法

      文檔序號(hào):10658666閱讀:461來源:國(guó)知局
      一種蒸鍍坩堝的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種蒸鍍坩堝,以解決現(xiàn)有的真空熱蒸鍍技術(shù)中,以解決熔融型金屬材料進(jìn)行蒸鍍時(shí)出現(xiàn)的升華速率不穩(wěn)定所導(dǎo)致的蒸鍍效率低和燒壞蒸鍍坩堝的問題。所述蒸鍍坩堝,包括坩堝本體,所述坩堝本體的底部的內(nèi)表面形成有網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)。
      【專利說明】
      一種蒸鍍坩堝
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本發(fā)明涉及有機(jī)電致發(fā)光顯示技術(shù)制程領(lǐng)域,尤其涉及一種蒸鍍坩禍。
      【背景技術(shù)】
      [0002]平板顯示器件具有機(jī)身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點(diǎn),得到了廣泛的應(yīng)用?,F(xiàn)有的平板顯示器件主要包括液晶顯示器件(Liquid CrystalDisplay,LCD)及有機(jī)電致發(fā)光顯示器件(Organic Light Emitting Display,0LED)。其中,OLED顯不器件相較于LCD,不僅具有十分優(yōu)異的顯示性能,還具有全固態(tài)、白發(fā)光、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、超輕薄、響應(yīng)速度快、寬視角、室溫工作、低功耗及易于實(shí)現(xiàn)柔性顯示和3D顯示等優(yōu)點(diǎn),得到了各大顯示器廠家的青睞。
      [0003]OLED顯示器件通常由陽極、陰極、以及夾在陽極和陰極之間的有機(jī)電致發(fā)光材料層構(gòu)成,有機(jī)電致發(fā)光材料層又包括空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、及電子注入層。OLED顯示器件的發(fā)光機(jī)理是從陰、陽兩級(jí)分別注入電子和空穴,被注入的電子和空穴經(jīng)傳輸在發(fā)光層內(nèi)復(fù)合,從而激發(fā)發(fā)光層分子產(chǎn)生單態(tài)激子,單態(tài)激子輻射衰減而發(fā)光。
      [0004]目前,制備OLED顯示器件主流的主要方式是真空熱蒸鍍技術(shù),即在真空腔體內(nèi)使用蒸鍍坩禍加熱OLED材料,使其在一定溫度下升華或者熔融汽化成蒸汽,透過金屬掩膜板上的開孔沉積在基板上。真空熱蒸鍍技術(shù)是在低于5xlO-5Pa的真空環(huán)境下,通過加熱的方式將材料由固態(tài)變?yōu)檎羝麪顟B(tài),高速運(yùn)動(dòng)的氣態(tài)分子到達(dá)基板并在基板上沉積固化,再變回為OLED材料的固體薄膜。對(duì)于熔融型金屬材料,其受熱后會(huì)由固態(tài)變?yōu)橐簯B(tài)最后變?yōu)闅鈶B(tài)分子,但是由于液體金屬表面張力的作用,液滴呈球狀與蒸鍍坩禍內(nèi)壁的接觸面積較小,導(dǎo)致升華的速率不穩(wěn),降低蒸鍍效率;如果設(shè)備運(yùn)行在速率固定模式下,為保持升華速率,設(shè)備會(huì)不斷加熱以提高溫度,這樣極有可能出現(xiàn)蒸鍍坩禍燒壞的現(xiàn)象。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本發(fā)明的目的是提供一種蒸鍍坩禍,以解決現(xiàn)有的真空熱蒸鍍技術(shù)中,以解決熔融型金屬材料進(jìn)行蒸鍍時(shí)出現(xiàn)的升華速率不穩(wěn)定所導(dǎo)致的蒸鍍效率低和燒壞蒸鍍坩禍的問題。
      [0006]本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
      [0007]本發(fā)明實(shí)施例提供一種蒸鍍坩禍,包括坩禍本體,所述坩禍本體的底部的內(nèi)表面形成有網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)。
      [0008]本實(shí)施例中,在所述坩禍本體的底部的內(nèi)表面設(shè)置網(wǎng)格狀的所述凸起結(jié)構(gòu),即便液體金屬由于表面張力的作用而成球狀,但是網(wǎng)格狀的所述凸起結(jié)構(gòu)能夠的邊沿仍然能夠接觸球狀的液體金屬,而且網(wǎng)格狀的所述凸起結(jié)構(gòu)還能夠部分的減小液體金屬由于表面張力的影響,因此可以較大程度的增大所述坩禍本體的接觸面積,從而使升華的速率穩(wěn)定,提高蒸鍍效率并避免蒸鍍坩禍燒壞的現(xiàn)象。
      [0009]優(yōu)選的,所述凸起結(jié)構(gòu)之上形成有導(dǎo)熱膜層。本實(shí)施例中,所述導(dǎo)熱膜層能夠使加熱均勻。
      [0010]優(yōu)選的,所述凸起結(jié)構(gòu)的每一條凸起線段的橫截面的寬度為0.5?I毫米。本實(shí)施例中,凸起線段的橫截面的寬度為0.5?I毫米,能夠有效分散液滴體積,且使液體金屬的整體不會(huì)被完全被分隔開幾部分。
      [0011]優(yōu)選的,所述凸起結(jié)構(gòu)的高度為I?2毫米。本實(shí)施例中,高度為I?2毫米的所述凸起結(jié)構(gòu)接近液體金屬所形成液滴的直徑,能有效分散液滴體積。
      [0012]優(yōu)選的,所述凸起結(jié)構(gòu)圍設(shè)的多個(gè)凹陷圖形為規(guī)則的幾何圖形。
      [0013]優(yōu)選的,所述凹陷圖形包括矩形、菱形、圓形、三角形、扇形、正五邊形和正六邊形中的至少一種。
      [0014]優(yōu)選的,所述導(dǎo)熱膜層的厚度為0.5?3微米。
      [0015]優(yōu)選的,所述導(dǎo)熱膜層為氧化鋁膜層。
      [0016]優(yōu)選的,所述凸起結(jié)構(gòu)與所述坩禍本體為一體結(jié)構(gòu)。
      [0017]優(yōu)選的,所述凸起結(jié)構(gòu)的材料為鈦合金、鉬或鎢。
      [0018]本發(fā)明實(shí)施例有益效果如下:在所述坩禍本體的底部的內(nèi)表面設(shè)置網(wǎng)格狀的所述凸起結(jié)構(gòu),即便液體金屬由于表面張力的作用而成球狀,但是網(wǎng)格狀的所述凸起結(jié)構(gòu)能夠的邊沿仍然能夠接觸球狀的液體金屬,而且網(wǎng)格狀的所述凸起結(jié)構(gòu)還能夠部分的減小液體金屬由于表面張力的影響,因此可以較大程度的增大所述坩禍本體的接觸面積,從而使升華的速率穩(wěn)定,提高蒸鍍效率并避免蒸鍍坩禍燒壞的現(xiàn)象。
      【附圖說明】
      [0019]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍坩禍的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0020]圖2為圖1所示的蒸鍍坩禍在AB處的剖面示意圖;
      [0021 ]圖3為圖1所示的蒸鍍坩禍在CD處的剖面示意圖;
      [0022]圖4為圖1所示的網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)上形成有導(dǎo)熱膜層的剖面示意圖;
      [0023]圖5為本發(fā)明實(shí)施例中凸起結(jié)構(gòu)的凸起線段的寬度和高度的示意圖;
      [0024]圖6為本發(fā)明實(shí)施例中凸起結(jié)構(gòu)圍設(shè)的凹陷圖形為矩形的示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0025]下面結(jié)合說明書附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的實(shí)現(xiàn)過程進(jìn)行詳細(xì)說明。需要注意的是,自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的,僅用于解釋本發(fā)明,而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
      [0026]參見圖1至圖3,本發(fā)明實(shí)施例提供一種蒸鍍坩禍,包括坩禍本體I,坩禍本體I的底部的內(nèi)表面形成有網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)2。
      [0027]圖2為圖1所示蒸鍍坩禍在AB處的剖面示意圖,圖3為圖1所示蒸鍍坩禍在CD處的剖面示意圖,顯然該凸起結(jié)構(gòu)2形成于坩禍本體I的底部的內(nèi)表面,即便液體金屬由于表面張力的作用而成球狀,但是網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)2能夠的邊沿仍然能夠接觸球狀的液體金屬,而且網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)2還能夠部分的減小液體金屬由于表面張力的影響,因此可以較大程度的增大坩禍本體I的接觸面積,從而使升華的速率穩(wěn)定,提高蒸鍍效率并避免蒸鍍坩禍燒壞的現(xiàn)象。
      [0028]為了蒸鍍坩禍加熱更均勻,如圖4所示,在凸起結(jié)構(gòu)2之上形成有導(dǎo)熱膜層3,該導(dǎo)熱膜層3能夠有效的傳導(dǎo)熱能,使蒸鍍坩禍對(duì)液體金屬的加熱更均勻,有利于升華的速率穩(wěn)定,從而提高蒸鍍效率。該導(dǎo)熱膜層3可以選擇多種利于導(dǎo)熱且具有較高熔點(diǎn)的材料制備,例如以氧化鋁形成的氧化鋁膜層作為導(dǎo)熱膜層3。優(yōu)選的,導(dǎo)熱膜層3的厚度為0.5?3微米。
      [0029]基于有效分散液滴體積,且使液體金屬的整體不會(huì)被完全被分隔開幾部分的考慮,優(yōu)選的,凸起結(jié)構(gòu)2的每一條凸起線段的橫截面的寬度為0.5?I毫米,凸起結(jié)構(gòu)2的高度為I?2毫米。如圖5所示,凸起線段的橫截面的寬度W為0.5?I毫米,凸起結(jié)構(gòu)2的高度H為I?2毫米,實(shí)際上凸起結(jié)構(gòu)2的高度H也即凸起線段的高度。需要說明的是,本實(shí)施例中凸起線段的橫截面的寬度W和高度H只是為了對(duì)本發(fā)明進(jìn)行說明,本發(fā)明并不以此為限,在實(shí)際應(yīng)用中,該凸起線段的橫截面的寬度W和高度H可以考慮接近液體金屬所形成液滴的直徑,這樣有利于有效分散液滴體積。
      [0030]凸起結(jié)構(gòu)2圍設(shè)的多個(gè)凹陷圖形可以為各種幾何圖形。以規(guī)則的幾何圖形較佳,便于設(shè)計(jì)和實(shí)現(xiàn),其中規(guī)定的幾何圖形可以為矩形、菱形、圓形、三角形、扇形、正五邊形和正六邊形中的至少一種或者組合,在此不再贅述。優(yōu)選的,如圖6所示,坩禍本體I的底部的內(nèi)壁形成有凸起結(jié)構(gòu)2,凸起結(jié)構(gòu)2圍設(shè)的凹陷圖形4為矩形,矩形的寬度為2?3毫米,矩形的長(zhǎng)度為3?4暈米。
      [0031]需要說明的是,凸起結(jié)構(gòu)2與坩禍本體I可以為一體結(jié)構(gòu),也可以是凸起結(jié)構(gòu)2在坩禍本體I的底部單獨(dú)形成或者連接于坩禍本體I的底部,這并不影響本發(fā)明的實(shí)施。優(yōu)選的,凸起結(jié)構(gòu)2的材料為鈦合金、鉬或鎢。
      [0032]本發(fā)明實(shí)施例有益效果如下:在坩禍本體的底部的內(nèi)表面設(shè)置網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu),即便液體金屬由于表面張力的作用而成球狀,但是網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)能夠的邊沿仍然能夠接觸球狀的液體金屬,而且網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)還能夠部分的減小液體金屬由于表面張力的影響,因此可以較大程度的增大坩禍本體的接觸面積,從而使升華的速率穩(wěn)定,提高蒸鍍效率并避免蒸鍍坩禍燒壞的現(xiàn)象。
      [0033]顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種蒸鍍坩禍,包括坩禍本體,其特征在于,所述坩禍本體的底部的內(nèi)表面形成有網(wǎng)格狀的凸起結(jié)構(gòu)。2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述凸起結(jié)構(gòu)之上形成有導(dǎo)熱膜層。3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述凸起結(jié)構(gòu)的每一條凸起線段的橫截面的寬度為0.5?I毫米。4.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述凸起結(jié)構(gòu)的高度為I?2毫米。5.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述凸起結(jié)構(gòu)圍設(shè)的多個(gè)凹陷圖形為規(guī)則的幾何圖形。6.如權(quán)利要求5所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述凹陷圖形包括矩形、菱形、圓形、三角形、扇形、正五邊形和正六邊形中的至少一種。7.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述導(dǎo)熱膜層的厚度為0.5?3微米。8.如權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述導(dǎo)熱膜層為氧化鋁膜層。9.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述凸起結(jié)構(gòu)與所述坩禍本體為一體結(jié)構(gòu)。10.如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的蒸鍍坩禍,其特征在于,所述凸起結(jié)構(gòu)的材料為鈦合金、鉬或媽。
      【文檔編號(hào)】H01L51/56GK106025102SQ201610366063
      【公開日】2016年10月12日
      【申請(qǐng)日】2016年5月27日
      【發(fā)明人】張微
      【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司
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