一種硅片清洗槽的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]太陽(yáng)能是最大的無(wú)污染的可再生資源，取之不盡、用之不竭，是今后人類(lèi)能源利用的重點(diǎn)之一。自上世紀(jì)末以來(lái)，隨著全世界對(duì)能源消耗的劇增，傳統(tǒng)能源枯竭的威脅，以及多晶硅、單晶硅發(fā)電技術(shù)的發(fā)展，太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)方興未艾。
[0003]隨著太陽(yáng)能級(jí)單晶硅片的發(fā)展，客戶(hù)對(duì)硅片質(zhì)量的要求越來(lái)越嚴(yán)苛，硅片表面潔凈度直接影響著硅片的轉(zhuǎn)換效率，所以客戶(hù)對(duì)硅片表面質(zhì)量要求越發(fā)的嚴(yán)格。此外隨著切割工藝的調(diào)整，切割中使用的砂漿不斷的回收使用，造成砂漿在硅片表面附著較強(qiáng)，清洗較為困難，導(dǎo)致氧化片頻繁產(chǎn)生，就此情況特對(duì)目前的清洗設(shè)備進(jìn)行完善和提高。
[0004]為解決上述問(wèn)題，現(xiàn)在在硅片進(jìn)入清洗線(xiàn)之前添加了一個(gè)硅片清洗槽，提前對(duì)硅片進(jìn)行清洗。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種硅片清洗槽，該裝置利用超聲波震動(dòng)對(duì)硅片表面的雜質(zhì)進(jìn)行清洗，可有效清除硅片表面附著的砂漿等物質(zhì)，操作簡(jiǎn)單快捷。
[0006]為解決上述問(wèn)題本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案是:一種硅片清洗槽，所述清洗槽為長(zhǎng)方體形狀，在清洗槽的上部設(shè)有進(jìn)水口和溢流口，所述溢流口的高度低于進(jìn)水口的高度，所述清洗槽的槽底板為可震動(dòng)的鋼板，所述鋼板的外側(cè)底面上連接有超聲波換能器。
[0007]優(yōu)選的，所述清洗槽的槽底還設(shè)有排水口。
[0008]優(yōu)選的，所述清洗槽的槽寬1.2米，長(zhǎng)1.8米，槽內(nèi)深度為20厘米，優(yōu)選的，所述溢流口距離槽頂口的距離為2厘米。
[0009]采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:硅片清洗線(xiàn)在清洗硅片的時(shí)候不夠直觀，不能夠?qū)杵那逑辞闆r進(jìn)行觀察，而且清洗效果不是很理想，所以在硅片進(jìn)入到清洗線(xiàn)之前，添加了一個(gè)清洗槽，清洗槽內(nèi)裝滿(mǎn)水，并且為流動(dòng)的水，可通過(guò)進(jìn)水口和溢流口不斷的進(jìn)行進(jìn)水和出水，使清洗槽內(nèi)的水循環(huán)起來(lái)，硅片放在塑料花籃中，然后手持塑料花籃將其放到清洗槽的槽底板上，開(kāi)啟與槽底相連接的超聲波轉(zhuǎn)換器，產(chǎn)生超聲波，槽內(nèi)的水在鋼板的震動(dòng)下隨之震動(dòng)，超聲波清洗可有效去除硅片表面的砂漿等雜質(zhì)，并且可通過(guò)人眼直接對(duì)清洗情況進(jìn)行觀測(cè)，較直觀，所以本裝置清洗效果好，操作簡(jiǎn)單方便，十分實(shí)用。
【附圖說(shuō)明】
[0010]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明:
[0011]圖1本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]其中，1、清洗槽，2、進(jìn)水口，3、溢流口，4、鋼板，5、超聲波換能器，6、排水口。
【具體實(shí)施方式】
[0013]如圖1所示:一種硅片清洗槽，清洗槽I為長(zhǎng)方體形狀，在清洗槽I的上部設(shè)有進(jìn)水口 2和溢流口 3，所述溢流口 3的高度低于進(jìn)水口 2的高度，所述清洗槽I的槽底板為可震動(dòng)的鋼板4，所述鋼板4的外側(cè)底面上連接有超聲波換能器5。所述清洗槽I的槽底還設(shè)有排水口 6。所述清洗槽I的槽寬1.2米，長(zhǎng)1.8米，槽內(nèi)深度為20厘米，所述溢流口 3距離槽頂口的距離為2厘米。
[0014]該清洗裝置首先利用的是超聲波進(jìn)行清洗，利用超聲波換能器5產(chǎn)生超聲波，通過(guò)鋼板4使槽內(nèi)的水共振，對(duì)置于塑料花籃且浸泡在水中的硅片表面進(jìn)行清洗，清洗效果顯著。
[0015]硅片清洗線(xiàn)在清洗硅片的時(shí)候不夠直觀，不能夠?qū)杵那逑辞闆r進(jìn)行觀察，而且清洗效果不是很理想，所以在硅片進(jìn)入到清洗線(xiàn)之前，添加了一個(gè)清洗槽1，清洗槽I內(nèi)裝滿(mǎn)水，并且為流動(dòng)的水，可通過(guò)進(jìn)水口 2和溢流口 3不斷的進(jìn)行進(jìn)水和出水，使清洗槽I內(nèi)的水循環(huán)起來(lái)，硅片放在塑料花籃中，然后手持塑料花籃將其放到清洗槽I的槽底板上，開(kāi)啟與槽底相連接的超聲波轉(zhuǎn)換器5，產(chǎn)生超聲波，槽內(nèi)的水在鋼板4的震動(dòng)下隨之震動(dòng)，超聲波清洗可有效去除硅片表面的砂漿等雜質(zhì)，并且可通過(guò)人眼直接對(duì)清洗情況進(jìn)行觀測(cè)，較直觀，所以本裝置清洗效果好，操作簡(jiǎn)單方便，十分實(shí)用。
[0016]綜上所述:該裝置利用超聲波震動(dòng)對(duì)硅片表面的雜質(zhì)進(jìn)行清洗，可有效清除硅片表面附著的砂漿等物質(zhì)，操作簡(jiǎn)單快捷。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種硅片清洗槽，其特征是:所述清洗槽(I)為長(zhǎng)方體形狀，在清洗槽(I)的上部設(shè)有進(jìn)水口( 2 )和溢流口( 3 )，所述溢流口( 3 )的高度低于進(jìn)水口( 2 )的高度，所述清洗槽(I)的槽底板為可震動(dòng)的鋼板(4 )，所述鋼板(4 )的外側(cè)底面上連接有超聲波換能器(5 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片清洗槽，其特征是:所述清洗槽(I)的槽底還設(shè)有排水口(6)，所述超聲波換能器(5)的數(shù)量為3個(gè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種硅片清洗槽，其特征是:所述清洗槽(I)的槽寬1.2米，長(zhǎng)1.8米，槽內(nèi)深度為20厘米，所述溢流口(3)距離槽頂口的距離為2厘米。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種硅片清洗槽，涉及硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域，清洗槽為長(zhǎng)方體形狀，在清洗槽的上部設(shè)有進(jìn)水口和溢流口，所述溢流口的高度低于進(jìn)水口的高度，所述清洗槽的槽底板為可震動(dòng)的鋼板，所述鋼板的外側(cè)底面上連接有超聲波換能器。該裝置利用超聲波震動(dòng)對(duì)硅片表面的雜質(zhì)進(jìn)行清洗，可有效清除硅片表面附著的砂漿等物質(zhì)，并且可直觀的觀測(cè)硅片表面的清洗情況，操作簡(jiǎn)單快捷。
【IPC分類(lèi)】H01L21-67, B08B3-12
【公開(kāi)號(hào)】CN204289404
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420703272
【發(fā)明人】劉彬國(guó), 何京輝, 李立偉, 張立濤, 張穩(wěn)
【申請(qǐng)人】邢臺(tái)晶龍電子材料有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月22日
【申請(qǐng)日】2014年11月21日