真空滅弧室的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及高壓斷路器領(lǐng)域，更具體地說它涉及一種真空滅弧室。
【背景技術(shù)】
[0002]真空滅弧室，又名真空開關(guān)管，是中高壓電力開關(guān)的核心部件，其主要作用是，通過管內(nèi)真空優(yōu)良的絕緣性使中高壓電路切斷電源后能迅速熄弧并抑制電流，避免事故和意外的發(fā)生，主要應(yīng)用于電力的輸配電控制系統(tǒng)，還應(yīng)用于冶金、礦山、石油、化工、鐵路、廣播、通訊、工業(yè)高頻加熱等配電系統(tǒng)。具有節(jié)能、節(jié)材、防火、防爆、體積小、壽命長、維護(hù)費(fèi)用低、運(yùn)行可靠和無污染等特點(diǎn)。
[0003]現(xiàn)有真空滅弧室通常由氣密絕緣外殼、導(dǎo)電回路、屏蔽系統(tǒng)、觸頭、波紋管等部分組成。其利用高真空工作絕緣滅弧介質(zhì)，靠密封在真空中的一對觸頭來實(shí)現(xiàn)電力電路的通斷功能的一種電真空器件。當(dāng)其斷開一定數(shù)值的電流時(shí)，動(dòng)靜觸頭在分離的瞬間，電流收縮到觸頭剛分離的一點(diǎn)上，出現(xiàn)電極間電阻劇烈增大和溫度迅速提高，直至發(fā)生電極金屬的蒸發(fā)，同時(shí)形成極高的電場強(qiáng)度，導(dǎo)致極強(qiáng)烈的發(fā)射和間隙擊穿，產(chǎn)生真空電弧，當(dāng)工頻電流接近零時(shí)，同時(shí)也是觸頭開距的增大，真空電弧的等離子體很快向四周擴(kuò)散，電弧電流過零后，觸頭間隙的介質(zhì)迅速由導(dǎo)電體變?yōu)榻^緣體，于是電流被分?jǐn)唷Ｓ捎谟|頭的特殊構(gòu)造，燃弧期間觸頭間隙會產(chǎn)適當(dāng)?shù)目v向磁場，這個(gè)磁場可使電弧均勻分布在觸頭表面，維持低的電弧電壓，從而使真空滅弧室具有較高弧后介質(zhì)強(qiáng)度恢復(fù)速度，小的電弧能量和小的腐蝕速率。從而提高真空滅弧室開斷電流的能力和使用壽命。
[0004]無疑真空滅弧室內(nèi)的真空度為影響其滅弧性能的重要因素，真空滅弧室管內(nèi)的真空度通常是在10-4~10-6Pa，隨著真空滅弧室使用時(shí)間的增長和開斷次數(shù)增多，以及受外界因素的影響，其真空度逐步下降，下降到一定程度，將會影響它的開斷能力和耐壓水平。因此，真空斷路器在使用過程中必須定期檢查滅弧室管內(nèi)的真空度。而現(xiàn)有技術(shù)中真空滅弧室動(dòng)靜觸頭合閘時(shí)會產(chǎn)生較大沖擊力，從而引起觸頭彈跳現(xiàn)象，該現(xiàn)象很大程度上影響了真空滅弧室的真空度。主要表現(xiàn)為真空滅弧室內(nèi)的觸頭多為對接式結(jié)構(gòu)，在合閘操作中可能產(chǎn)生不同程度的反彈現(xiàn)象，導(dǎo)致波紋管經(jīng)受強(qiáng)迫振動(dòng)而產(chǎn)生裂紋，使滅弧室漏氣；合閘時(shí)的沖擊速度及沖擊力較大，發(fā)生彈跳，可能產(chǎn)生觸頭和導(dǎo)電桿的變形，甚至產(chǎn)生裂紋。上述問題的產(chǎn)生主要在于現(xiàn)有的動(dòng)靜觸頭在接觸時(shí)都為剛性結(jié)構(gòu)，合閘時(shí)，沖擊力較大且得不到緩沖，久之則引發(fā)上述問題，導(dǎo)致漏氣等情況發(fā)生，影響該真空滅弧室的真空度，降低了使用壽命。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種真空滅弧室，更有效的保證該滅弧室內(nèi)的真空度，提高使用壽命。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了如下技術(shù)方案:一種真空滅弧室，包括氣密絕緣外殼、導(dǎo)電回路、屏蔽系統(tǒng)、觸頭、波紋管，觸頭包括動(dòng)觸頭與靜觸頭，所述靜觸頭相對動(dòng)觸頭的一側(cè)設(shè)有凹槽，所述凹槽中設(shè)有彈性緩沖部件，所述彈性緩沖部件連接有第一導(dǎo)電觸塊，第一導(dǎo)電觸塊凸出凹槽設(shè)置，所述第一導(dǎo)電觸塊可受壓縮于凹槽內(nèi)。
[0007]所述凹槽呈圓柱狀，所述凹槽的開口處設(shè)有楔形口，所述動(dòng)觸頭相對靜觸頭的一側(cè)設(shè)有與楔形口契合的第二導(dǎo)電觸塊。
[0008]所述彈性緩沖部件為壓縮彈簧，所述凹槽的內(nèi)壁與第一導(dǎo)電觸塊的外壁設(shè)有相互作用的限位塊，所述壓縮彈簧抵觸于凹槽的底部和第一導(dǎo)電觸塊之間。
[0009]所述楔形口表面為銅鉻合金層，所述第一導(dǎo)電觸塊、第二導(dǎo)電觸塊亦采用銅鉻合金制作。
[0010]通過采用上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型對現(xiàn)有的觸頭結(jié)構(gòu)進(jìn)行了改進(jìn)，其中靜觸頭相對動(dòng)觸頭的一側(cè)設(shè)有凹槽，且在凹槽中設(shè)有彈性緩沖部件，彈性緩沖部件又連接有第一導(dǎo)電觸塊，第一導(dǎo)電觸頭延伸出凹槽設(shè)置，并且該第一導(dǎo)電觸塊在受壓時(shí)可縮于凹槽內(nèi)。從而使得當(dāng)動(dòng)觸頭動(dòng)作與靜觸頭合閘時(shí)，動(dòng)觸頭首先接觸到第一導(dǎo)電觸塊，第一導(dǎo)電觸塊另一端連接的為彈性緩沖部件，借助彈性緩沖部件對動(dòng)觸頭、靜觸頭合閘時(shí)的沖擊力進(jìn)行緩沖，從而防止因合閘時(shí)沖擊力過大而引發(fā)觸頭的彈跳現(xiàn)象，更好的保護(hù)波紋管以及導(dǎo)電桿等內(nèi)部部件，防止其破損而導(dǎo)致真空滅弧室漏氣現(xiàn)象的發(fā)生，更有效的保證其內(nèi)部的真空度。且借助彈性部件的作用，當(dāng)動(dòng)觸頭、靜觸頭達(dá)到完全合閘狀態(tài)時(shí)(即動(dòng)觸頭與靜觸頭完全貼合)，第一導(dǎo)電觸塊可借助彈性緩沖部件的彈性作用達(dá)到與動(dòng)觸頭更緊密的接觸，接觸電阻小，不容易發(fā)熱，同時(shí)導(dǎo)電性能提高。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型真空滅弧室分閘時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為圖1的A部分放大圖；
[0013]圖3為本實(shí)用新型真空滅弧室合閘時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖4為圖3的B部分放大圖。
[0015]附圖標(biāo)記說明:1、氣密絕緣外殼；2、靜觸頭；3、動(dòng)觸頭；4、屏蔽筒；5、波紋管；21、凹槽；22、壓縮彈簧；23、第一導(dǎo)電觸塊；24、楔形口 ；25、靜導(dǎo)電桿；26、限位塊；31、第二導(dǎo)電觸塊；32、動(dòng)導(dǎo)電桿。
【具體實(shí)施方式】
[0016]參照圖1至圖4對本實(shí)用新型真空滅弧室實(shí)施例做進(jìn)一步說明。
[0017]本實(shí)施例所述的真空滅弧室，包括氣密絕緣外殼1、導(dǎo)電回路、屏蔽系統(tǒng)、觸頭、波紋管5，觸頭包括動(dòng)觸頭3與靜觸頭2，所述靜觸頭2相對動(dòng)觸頭3的一側(cè)設(shè)有凹槽21，所述凹槽21中設(shè)有彈性緩沖部件，所述彈性緩沖部件連接有第一導(dǎo)電觸塊23，第一導(dǎo)電觸塊23凸出凹槽21設(shè)置，所述第一導(dǎo)電觸塊23可受壓縮于凹槽21內(nèi)。
[0018]本實(shí)用新型對現(xiàn)有的觸頭結(jié)構(gòu)進(jìn)行了改進(jìn)，其中靜觸頭2相對動(dòng)觸頭3的一側(cè)設(shè)有凹槽21，且在凹槽21中設(shè)有彈性緩沖部件，彈性緩沖部件又連接有第一導(dǎo)電觸塊23，第一導(dǎo)電觸頭延伸出凹槽21設(shè)置，并且該第一導(dǎo)電觸塊23在受壓時(shí)可縮于凹槽21內(nèi)。從而使得當(dāng)動(dòng)觸頭3動(dòng)作與靜觸頭2合閘時(shí)，動(dòng)觸頭3首先接觸到第一導(dǎo)電觸塊23，第一導(dǎo)電觸塊23另一端連接的為彈性緩沖部件，借助彈性緩沖部件對動(dòng)觸頭3、靜觸頭2合閘時(shí)的沖擊力進(jìn)行緩沖，從而防止因合閘時(shí)沖擊力過大而引發(fā)觸頭的彈跳現(xiàn)象，更好的保護(hù)波紋管5以及導(dǎo)電桿等內(nèi)部部件，防止其破損而導(dǎo)致真空滅弧室漏氣現(xiàn)象的發(fā)生，更有效的保證其內(nèi)部的真空度，提高使用壽命。且借助彈性部件的作用，當(dāng)動(dòng)觸頭3、靜觸頭2達(dá)到完全合閘狀態(tài)時(shí)(即動(dòng)觸頭3與靜觸頭2完全貼合)，第一導(dǎo)電觸塊23可借助彈性緩沖部件的彈性作用達(dá)到與動(dòng)觸頭3更緊密的接觸，接觸電阻小，不容易發(fā)熱，同時(shí)導(dǎo)電性能提高。
[0019]進(jìn)一步的，所述凹槽21呈圓柱狀，所述凹槽21的開口處設(shè)有楔形口 24，所述動(dòng)觸頭3相對靜觸頭2的一側(cè)設(shè)有與楔形口 24契合的第二導(dǎo)電觸塊31。通過第二導(dǎo)電觸塊31與楔形口 24的配合可提高第二導(dǎo)電觸塊31與靜觸頭2間的接觸性能，通過楔形口 24的形狀與第二導(dǎo)電觸塊31貼合并預(yù)緊，提高動(dòng)觸頭3與靜觸頭2間的導(dǎo)電性能。
[0020]進(jìn)一步的，所述楔形口 24表面為銅鉻合金層，所述第一導(dǎo)電觸塊23、第二導(dǎo)電觸塊31亦采用銅鉻合金制作。銅鉻合金是以Cu為基體，加入鉻和其它微量合金元素形成的合金。該合金在室溫及400°C以下均具有較高的機(jī)械強(qiáng)度和硬度，具有良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能，并且具有抗高溫氧化、耐磨蝕和加工性能好等特性，廣泛應(yīng)用于在高溫下要求高強(qiáng)度、高硬度、高導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性的零件。通過上述方案，更進(jìn)一步提高動(dòng)觸頭3、靜觸頭2的使用性能。
[0021]進(jìn)一步的，如圖2所示，所述彈性緩沖部件為壓縮彈簧22，所述凹槽21的內(nèi)壁與第一導(dǎo)電觸塊23的外壁設(shè)有相互作用的限位塊26，其中第一導(dǎo)電觸塊23的限位塊26為位于第一導(dǎo)電觸塊23底部的翻邊，而凹槽21開口處的限位塊26則由焊接于楔形口 24表面的銅鉻合金層構(gòu)成，銅鉻合金層朝向凹槽21內(nèi)的一端將上述翻邊阻擋。所述壓縮彈簧22抵觸于凹槽21的底部和第一導(dǎo)電觸塊23之間。
[0022]綜上所述，本實(shí)用新型不但有效地保證了該滅弧室內(nèi)的真空度，提高了使用壽命，且具有更好的導(dǎo)電性能和使用效果。
[0023]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不用于限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)構(gòu)思之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空滅弧室，包括氣密絕緣外殼、導(dǎo)電回路、屏蔽系統(tǒng)、觸頭、波紋管，觸頭包括動(dòng)觸頭與靜觸頭，其特征是:所述靜觸頭相對動(dòng)觸頭的一側(cè)設(shè)有凹槽，所述凹槽中設(shè)有彈性緩沖部件，所述彈性緩沖部件連接有第一導(dǎo)電觸塊，第一導(dǎo)電觸塊凸出凹槽設(shè)置，所述第一導(dǎo)電觸塊可受壓縮于凹槽內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室，其特征是:所述凹槽呈圓柱狀，所述凹槽的開口處設(shè)有楔形口，所述動(dòng)觸頭相對靜觸頭的一側(cè)設(shè)有與楔形口契合的第二導(dǎo)電觸塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空滅弧室，其特征是:所述彈性緩沖部件為壓縮彈簧，所述凹槽的內(nèi)壁與第一導(dǎo)電觸塊的外壁設(shè)有相互作用的限位塊，所述壓縮彈簧抵觸于凹槽的底部和第一導(dǎo)電觸塊之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室，其特征是:所述楔形口表面為銅鉻合金層，所述第一導(dǎo)電觸塊、第二導(dǎo)電觸塊亦采用銅鉻合金制作。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種真空滅弧室，其技術(shù)方案要點(diǎn)包括氣密絕緣外殼、導(dǎo)電回路、屏蔽系統(tǒng)、觸頭、波紋管，觸頭包括動(dòng)觸頭與靜觸頭，所述靜觸頭相對動(dòng)觸頭的一側(cè)設(shè)有凹槽，所述凹槽中設(shè)有彈性緩沖部件，所述彈性緩沖部件連接有第一導(dǎo)電觸塊，第一導(dǎo)電觸塊凸出凹槽設(shè)置，所述第一導(dǎo)電觸塊可受壓縮于凹槽內(nèi)。本實(shí)用新型能夠有效地保證該滅弧室內(nèi)的真空度，提高使用壽命，且具有更好的導(dǎo)電性能和使用效果。
【IPC分類】H01H33-664
【公開號】CN204375641
【申請?zhí)枴緾N201520082230
【發(fā)明人】余旭光, 趙成華
【申請人】浙江安光電氣科技有限公司
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2015年2月5日