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      一種新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯的制作方法

      文檔序號(hào):9014085閱讀:365來(lái)源:國(guó)知局
      一種新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型一種新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯。
      【背景技術(shù)】
      [0002]磁芯是由各種氧化鐵混合物組成的一種燒結(jié)磁性金屬氧化物,用在電路中能夠加大電磁線圈磁路的磁通密度,降低銅損耗,以增加電磁感應(yīng)強(qiáng)度,提高電壓轉(zhuǎn)化效率。一直以來(lái),磁芯作為磁性元件的重要組成部分,一直備受關(guān)注。特別是近幾年,伴隨著電子元件的不斷發(fā)展,對(duì)磁芯的要求也越來(lái)越高。然而在滿足要求的前提下,降低成本、自動(dòng)化、環(huán)保、開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品、探索新工藝成為了當(dāng)今磁芯制造行業(yè)的發(fā)展主題。
      [0003]傳統(tǒng)的軟磁磁芯結(jié)構(gòu)較多,如圖1所示,磁芯為E E型結(jié)構(gòu);如圖2所示,磁芯為EP型結(jié)構(gòu),還有其他EER、UF、RM、PQ、PM、Q、T和LP等結(jié)構(gòu)的磁芯。雖然現(xiàn)有的磁芯品種足夠多,而且制造工藝簡(jiǎn)單成熟,成本較低。但尺寸較大,且較多磁芯中柱界面為方形,繞線柱均設(shè)在內(nèi)部,給線圈繞制帶來(lái)麻煩,導(dǎo)致磁通密度分布不均勻,磁芯的有效利用面積小,且不利于散熱。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N磁通分布均勻、磁芯有效利用面積大、以及散熱效果好的軟磁磁芯。
      [0005]一種實(shí)施例中提供一種新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,包括:
      [0006]底座;
      [0007]以及若干個(gè)繞線柱,繞線柱為圓柱型結(jié)構(gòu),若干個(gè)繞線柱間隔開(kāi)垂直設(shè)置在底座的一個(gè)面上,且排列在一條直線上。
      [0008]進(jìn)一步地,包括8個(gè)繞線柱,位于中間的兩個(gè)繞線柱之間的間距大于其余相鄰的繞線柱之間的間距,且其余相鄰的繞線柱之間的間距均相等。
      [0009]進(jìn)一步地,位于中間的兩個(gè)繞線柱之間的間距為1.3±0.1mm,其余相鄰的繞線柱之間的間距為1.0±0.I臟。
      [0010]進(jìn)一步地,底座為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)。
      [0011]進(jìn)一步地,繞線柱的高度為底座厚度的0.8?0.9倍。
      [0012]進(jìn)一步地,繞線柱的高度為1.5±0.1mm,半徑為0.7±0.05mm。
      [0013]進(jìn)一步地,兩端的繞線柱分別距離底座兩端的間距相等。
      [0014]進(jìn)一步地,底座和繞線柱由NiZn鐵氧體粉壓一體成型。
      [0015]依據(jù)上述實(shí)施例的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,由于若干個(gè)圓柱型繞線柱間隔開(kāi)垂直設(shè)置在底座上,且排列在一條直線上,使得繞線柱繞線分布均勻,即使得磁通分布均勻,增加了磁芯的有效利用面積。又由于繞線柱裸露在外面,增加了磁芯的散熱面積,即提高了散熱效果。
      【附圖說(shuō)明】
      [0016]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中EE型磁芯的結(jié)構(gòu)示意;
      [0017]圖2為現(xiàn)有技術(shù)中EP型磁芯的結(jié)構(gòu)示意;
      [0018]圖3為本實(shí)用新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0019]圖4為本實(shí)用新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯的俯視圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0020]下面通過(guò)【具體實(shí)施方式】結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
      [0021]如圖3所示,在本實(shí)用新型實(shí)施例中提供一種新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,磁芯包括底座I和8個(gè)繞線柱2。底座I和繞線柱2由磁導(dǎo)率較高的NiZn鐵氧體粉壓一體成型。
      [0022]底座I為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu),具體尺寸為19.8mm*3.3mm*2mm。
      [0023]8個(gè)繞線柱2均為圓柱型結(jié)構(gòu)且大小相等。8個(gè)繞線柱2間隔開(kāi)設(shè)置在底座I的19.8mm*3.3mm面上,8個(gè)繞線柱2排列在一條直線上。如圖4所示,位于中間的兩個(gè)繞線柱2之間的間距LI大于其余相鄰的繞線柱2之間的間距L2,具體的,位于中間的兩個(gè)繞線柱2之間的間距LI為1.3±0.1mm,其余相鄰的繞線柱2之間的間距LI為1.0±0.1mm。繞線柱2的高度為底座I厚度的0.8?0.9倍,具體的,繞線柱2的高度為1.5 ±0.1mm。兩端的繞線柱2分別距離底座I兩端的間距L3相等,間距L3均為0.65mm。
      [0024]本實(shí)施例提供的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,由于8個(gè)圓柱型繞線柱2間隔開(kāi)垂直設(shè)置在底座I上,且排列在一條直線上,使得繞線柱2繞線分布均勻,即使得磁通分布均勻,增加了磁芯的有效利用面積,即本實(shí)用新型的磁芯整體結(jié)構(gòu)可小于相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的磁芯,而磁芯的有效利用面積與現(xiàn)有磁芯保存一致或更大,實(shí)現(xiàn)了磁芯的小型化。又由于繞線柱2裸露在外面,增加了磁芯的散熱面積,即提高了散熱效果,降低了磁芯溫度,從而使磁芯損耗更低,減少了器件的功率損耗。
      [0025]以上應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行闡述,只是用于幫助理解本實(shí)用新型,并不用以限制本實(shí)用新型。對(duì)于本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員,依據(jù)本實(shí)用新型的思想,還可以做出若干簡(jiǎn)單推演、變形或替換。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,其特征在于,包括: 底座; 以及若干個(gè)繞線柱,所述繞線柱為圓柱型結(jié)構(gòu),若干個(gè)所述繞線柱間隔開(kāi)垂直設(shè)置在所述底座的一個(gè)面上,且排列在一條直線上。2.如權(quán)利要求1所述的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,其特征在于,包括8個(gè)所述繞線柱,位于中間的兩個(gè)所述繞線柱之間的間距大于其余相鄰的所述繞線柱之間的間距,且其余相鄰的所述繞線柱之間的間距均相等。3.如權(quán)利要求2所述的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,其特征在于,位于中間的兩個(gè)所述繞線柱之間的間距為1.3±0.1臟,其余相鄰的所述繞線柱之間的間距為1.0±0.1mm。4.如權(quán)利要求3所述的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,其特征在于,所述底座為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)。5.如權(quán)利要求4所述的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,其特征在于,所述繞線柱的高度為所述底座厚度的0.8?0.9倍。6.如權(quán)利要求5所述的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,其特征在于,所述繞線柱的高度為1.5±0.1mm,半徑為 0.7±0.05mm。7.如權(quán)利要求6所述的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,其特征在于,兩端的所述繞線柱分別距離所述底座兩端的間距相等。8.如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,其特征在于,所述底座和繞線柱由NiZn鐵氧體粉壓一體成型。
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種新型磁路結(jié)構(gòu)的軟磁磁芯,包括:底座;以及若干個(gè)繞線柱,繞線柱為圓柱型結(jié)構(gòu),若干個(gè)繞線柱間隔開(kāi)垂直設(shè)置在底座的一個(gè)面上,且排列在一條直線上。由于若干個(gè)圓柱型繞線柱間隔開(kāi)垂直設(shè)置在底座上,且排列在一條直線上,使得繞線柱繞線分布均勻,即使得磁通分布均勻,增加了磁芯的有效利用面積。又由于繞線柱裸露在外面,增加了磁芯的散熱面積,即提高了散熱效果。
      【IPC分類】H01F1/36, H01F27/24, H01F27/26
      【公開(kāi)號(hào)】CN204668095
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520390487
      【發(fā)明人】朱勇, 張沖
      【申請(qǐng)人】深圳市高斯博電子科技有限公司
      【公開(kāi)日】2015年9月23日
      【申請(qǐng)日】2015年6月8日
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