一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于硅片水膜的去水裝置，特別是一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]所謂刻蝕，實(shí)際上狹義理解就是光刻腐蝕，先通過(guò)光刻將光刻膠進(jìn)行光刻曝光處理，然后通過(guò)其它方式實(shí)現(xiàn)腐蝕處理掉所需除去的部分。隨著微制造工藝的發(fā)展；廣義上來(lái)講，刻蝕成了通過(guò)溶液、反應(yīng)離子或其它機(jī)械方式來(lái)剝離、去除材料的一種統(tǒng)稱，成為微加工制造的一種普適叫法，而濕法刻蝕是一個(gè)純粹的化學(xué)反應(yīng)過(guò)程，是指利用溶液與預(yù)刻蝕材料之間的化學(xué)反應(yīng)來(lái)去除為被掩蔽膜材料掩蔽的部分而達(dá)到刻蝕目的。
[0003]由于該工藝流程是對(duì)于硅片的擴(kuò)散面進(jìn)行邊緣刻蝕，因而
[0004]在非擴(kuò)散面加上水膜是防止硅片過(guò)刻的重要途徑，而在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，硅片上的水膜會(huì)溢出在刻蝕槽造成刻蝕槽內(nèi)酸性溶液濃度變小，為了達(dá)到要求的濃度，要不斷的增加供酸量，無(wú)形中增加了生產(chǎn)成本。
[0005]專利號(hào)為201220489669.8的了一種改善刻蝕水膜均勻度的裝置，該裝置包括傳送帶、塑膠輥和電機(jī)，所述塑膠輥設(shè)置在傳送帶上方，塑膠輥兩端設(shè)有支架，所述電機(jī)設(shè)置在所述塑膠輥的一端用于驅(qū)動(dòng)塑膠輥轉(zhuǎn)動(dòng)。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)置在噴水器后，可以使水膜均勻得覆蓋在硅片表面，改善水膜均勻度，進(jìn)而避免硅片邊緣過(guò)刻；改方案雖然一定程度上將水膜平均分布在硅片上，但是其實(shí)際實(shí)施起來(lái)比較困難，單純靠塑膠輥壓過(guò)傳送帶上的硅片并擠壓硅片上的水膜，并不能保證多余的水不會(huì)流入刻蝕槽，擠壓出水的流向并不能得到控制。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型需要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，而提供一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置。
[0007]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:
[0008]一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，包括上部的濾水裝置和下部的壓輥，濾水裝置和壓輥之間為硅片濾水過(guò)道；所述濾水裝置朝向硅片的一面具有條形槽，在條形槽內(nèi)設(shè)置有若干連續(xù)的轉(zhuǎn)扇，所述轉(zhuǎn)扇又包括連接在條形槽上的轉(zhuǎn)軸以及等距分布在轉(zhuǎn)軸上的扇葉，位于條形槽內(nèi)端處的轉(zhuǎn)扇由電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，相鄰的兩個(gè)轉(zhuǎn)扇之間相互由扇葉帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述扇葉部分位于條形槽外；所述壓輥的軸向上開設(shè)線槽，在線槽內(nèi)設(shè)置條形凸起，所述條形凸起與線槽內(nèi)底部之間具有彈簧。
[0009]作為更進(jìn)一步的優(yōu)選方案，所述扇葉的底部設(shè)置條狀缺口，在條狀缺口內(nèi)設(shè)置有輥條，所述輥條沿扇葉的長(zhǎng)度方向設(shè)置。
[0010]作為更進(jìn)一步的優(yōu)選方案，所述輥條的兩端分別由輥軸連接在條狀缺口內(nèi)兩端，條狀缺口內(nèi)兩端分別設(shè)置有輥軸槽，所述輥軸槽內(nèi)具有包裹輥軸的限位軸套，所述限位軸套的上部和下部均設(shè)置有彈簧。
[0011]作為更進(jìn)一步的優(yōu)選方案，所述輥條外圍一周設(shè)置有納水間隙，所述納水間隙的間隙為lmm-3mm。
[0012]作為更進(jìn)一步的優(yōu)選方案，所述輥條采用可塑材料。
[0013]有益效果
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，硅片鍍完水膜后，經(jīng)過(guò)濾水裝置和壓輥之間的硅片濾水過(guò)道，可以將硅片表面多余的水分給去除，達(dá)到濾水的效果，避免多余的水進(jìn)入硅片的刻蝕槽降低酸度，而具有條形凸起的壓輥在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)可以間歇縮小硅片與轉(zhuǎn)扇的間距，可將已進(jìn)入刻蝕槽表面的積水去除，防止進(jìn)一步融入酸性溶液，具體具有以下效果:
[0015]1.上部的濾水裝置和下部的壓輥形成的硅片濾水過(guò)道，可以使硅片經(jīng)過(guò)該處時(shí)，將硅片水膜上多余的水給擠壓出。
[0016]2.相鄰的轉(zhuǎn)扇之間相互帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，通過(guò)轉(zhuǎn)扇的轉(zhuǎn)動(dòng)，將擠壓出的多余的水給甩出硅片表面，避免水分集中后流向刻蝕槽，影響刻蝕槽內(nèi)酸濃度。
[0017]3.輥條可以增強(qiáng)扇葉在與硅片表面接觸時(shí)的緩沖，避免轉(zhuǎn)扇在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)對(duì)硅片的磨損，另一方面，輥條上的納水間隙可以增加吸收的水分量，加強(qiáng)去水效率。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2是轉(zhuǎn)扇仰視圖；
[0020]圖3是轉(zhuǎn)扇的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖4是限位軸套的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖5是壓輥的截面圖；
[0023]其中，1_濾水裝置，2-壓棍，3_轉(zhuǎn)扇，31-轉(zhuǎn)軸，32-扇葉，4_棍條，5_限位軸套，6-納水間隙，7-線槽，8-條形凸起。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的優(yōu)選技術(shù)方案。
[0025]如圖1-5所示，本實(shí)用新型的一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，包括上部的濾水裝置1和下部的壓輥2，濾水裝置1和壓輥2之間為硅片濾水過(guò)道，硅片濾水過(guò)道的間隙可以根據(jù)需要而改變間隙寬度，該間隙可以過(guò)濾下硅片上多余的水；
[0026]所述濾水裝置1朝向硅片的一面具有條形槽，在條形槽內(nèi)設(shè)置有若干連續(xù)的轉(zhuǎn)扇3，轉(zhuǎn)扇3數(shù)量根據(jù)情況而定，通常在十個(gè)以下，所述轉(zhuǎn)扇3又包括連接在條形槽上的轉(zhuǎn)軸31以及等距分布在轉(zhuǎn)軸31上的扇葉32，轉(zhuǎn)軸31活動(dòng)連接在條形槽上，扇葉32圍繞轉(zhuǎn)軸31設(shè)置，位于條形槽內(nèi)端處的轉(zhuǎn)扇3由電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，端處的轉(zhuǎn)扇3具有齒輪，由外部的驅(qū)動(dòng)設(shè)備帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)其他轉(zhuǎn)扇3轉(zhuǎn)動(dòng)，相鄰的兩個(gè)轉(zhuǎn)扇3之間相互由扇葉32帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述扇葉32部分位于條形槽外，即扇葉32的尺寸需多余條形槽的深度。
[0027]所述壓輥2的軸向上開設(shè)線槽7，在線槽7內(nèi)設(shè)置條形凸起8，所述條形凸起8與線槽7內(nèi)底部之間具有彈簧，條形凸起8凸起的高度小于蝕槽表面與轉(zhuǎn)扇3的距離。
[0028]所述扇葉32的底部設(shè)置條狀缺口，在條狀缺口內(nèi)設(shè)置有輥條4，所述輥條4沿扇葉32的長(zhǎng)度方向設(shè)置，所述輥條4的兩端分別由輥軸連接在條狀缺口內(nèi)兩端，條狀缺口內(nèi)兩端分別設(shè)置有輥軸槽，所述輥軸槽內(nèi)具有包裹輥軸的限位軸套5，所述限位軸套5的上部和下部均設(shè)置有彈簧，通過(guò)限位軸套5的上下緩沖，可以實(shí)現(xiàn)輥條4的良好避震和防磨損效果，凸顯出其只針對(duì)水分的過(guò)濾去除。
[0029]所述輥條4外圍一周設(shè)置有納水間隙6，所述納水間隙6的間隙為lmm-3mm，在水膜水分量較大時(shí)，可以帶走更多的水分，保持硅片表面水膜的含量。
[0030]所述輥條4采用可塑材料。
[0031]以上所述，僅為本申請(qǐng)較佳的【具體實(shí)施方式】，但本申請(qǐng)的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本申請(qǐng)揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本申請(qǐng)的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本申請(qǐng)的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，其特征在于:包括上部的濾水裝置(1)和下部的壓輥(2)，濾水裝置(1)和壓輥(2)之間為硅片濾水過(guò)道；所述濾水裝置(1)朝向硅片的一面具有條形槽，在條形槽內(nèi)設(shè)置有若干連續(xù)的轉(zhuǎn)扇(3 )，所述轉(zhuǎn)扇(3 )又包括連接在條形槽上的轉(zhuǎn)軸(31)以及等距分布在轉(zhuǎn)軸(31)上的扇葉(32)，位于條形槽內(nèi)端處的轉(zhuǎn)扇(3)由電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，相鄰的兩個(gè)轉(zhuǎn)扇(3)之間相互由扇葉(32)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述扇葉(32)部分位于條形槽外；所述壓輥(2)的軸向上開設(shè)線槽(7)，在線槽(7)內(nèi)設(shè)置條形凸起(8)，所述條形凸起(8)與線槽(7)內(nèi)底部之間具有彈簧。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，其特征在于:所述扇葉(32 )的底部設(shè)置條狀缺口，在條狀缺口內(nèi)設(shè)置有輥條(4)，所述輥條(4)沿扇葉(32 )的長(zhǎng)度方向設(shè)置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，其特征在于:所述輥條(4)的兩端分別由輥軸連接在條狀缺口內(nèi)兩端，條狀缺口內(nèi)兩端分別設(shè)置有輥軸槽，所述輥軸槽內(nèi)具有包裹輥軸的限位軸套(5)，所述限位軸套(5)的上部和下部均設(shè)置有彈簧。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，其特征在于:所述輥條(4)外圍一周設(shè)置有納水間隙(6)，所述納水間隙(6)的間隙為lmm-3mm。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，其特征在于:所述輥條(4)采用可塑材料。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種刻蝕硅片的水膜間歇去水裝置，包括上部的濾水裝置和下部的壓輥；濾水裝置朝向硅片的一面具有條形槽，在條形槽內(nèi)設(shè)置連續(xù)的轉(zhuǎn)扇，轉(zhuǎn)扇又包括連接在條形槽上的轉(zhuǎn)軸以及等距分布在轉(zhuǎn)軸上的扇葉，位于條形槽內(nèi)端處的轉(zhuǎn)扇由電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，相鄰的兩個(gè)轉(zhuǎn)扇之間相互由扇葉帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，扇葉部分位于條形槽外；壓輥的軸向上開設(shè)線槽，在線槽內(nèi)設(shè)置條形凸起。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的硅片鍍完水膜后，經(jīng)過(guò)濾水裝置和壓輥之間的硅片濾水過(guò)道，可以將硅片表面多余的水分給去除，避免多余的水進(jìn)入硅片的刻蝕槽降低酸度，而具有條形凸起的壓輥在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)可以間歇縮小硅片與轉(zhuǎn)扇的間距，可將刻蝕槽表面積水去除，防止進(jìn)一步融入酸性溶液。
【IPC分類】H01L21/67, C23F1/08
【公開號(hào)】CN204966450
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520581461
【發(fā)明人】何晨旭, 孔祥照, 朱潔, 朱姚培
【申請(qǐng)人】江蘇榮馬新能源有限公司
【公開日】2016年1月13日
【申請(qǐng)日】2015年8月5日