清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及清洗裝置，尤其涉及晶片的清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前使用手動提刷，需要操作人員拿手柄在清洗槽中提動舟架作業(yè)，由于人每次用力不一樣，清洗的力度和舟架提升的高度也不一樣，導(dǎo)致晶片表面清洗不均勻，可能造成清洗的產(chǎn)品出現(xiàn)問題，降低了產(chǎn)品的可靠性。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型針對以上問題，提供了一種結(jié)構(gòu)簡單，方便操作，提高晶片清洗可靠性的清洗裝置。
[0004]本實用新型的技術(shù)方案是:包括槽體、滑臺氣缸、提籃和電箱控制器，所述槽體上設(shè)有支架，所述滑臺氣缸設(shè)在所述支架上、且?guī)铀鎏峄@在所述槽體內(nèi)作升降運動；
[0005]所述滑臺氣缸上設(shè)有上磁感應(yīng)開關(guān)和下磁感應(yīng)開關(guān)，所述上磁感應(yīng)開關(guān)位于下磁感應(yīng)開關(guān)的上方，所述滑臺氣缸通過二位五通電磁閥連接電箱控制器；
[0006]所述電箱控制器設(shè)在所述支架上，所述電箱控制器包括開關(guān)，所述上磁感應(yīng)開關(guān)和下磁感應(yīng)開關(guān)分別連接電箱控制器。
[0007]所述電箱控制器還包括時間繼電器和蜂鳴器，所述時間繼電器連接蜂鳴器。
[0008]所述提籃內(nèi)設(shè)有舟架，所述舟架內(nèi)設(shè)有晶片。
[0009]所述槽體上設(shè)有進口和出口，所述槽體的底面傾斜設(shè)置。
[0010]所述槽體的頂口四周設(shè)有傾斜的擋板。
[0011]本實用新型在工作中，通過滑臺氣缸帶動放置在提籃內(nèi)的舟架作上、下運動，上、下磁感應(yīng)開關(guān)通過電箱控制器控制二位五通電磁閥的通斷，從而控制提籃運動的上、下極限位置;到達規(guī)定時間，時間繼電器切斷電箱控制器的電源，保證提籃清洗的時間，同時，觸發(fā)蜂鳴器報警，提醒操作員。本實用新型提升了晶片表面清潔度、降低了勞動強度、改善了產(chǎn)品良率，操作方便，省時省力。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖中1是槽體，2是滑臺氣缸，3是提籃，4是電箱控制器，5是支架，6是上磁感應(yīng)開關(guān)，7是下磁感應(yīng)開關(guān)，8是二位五通電磁閥，9是時間繼電器，10是蜂鳴器，11是舟架，12是進口，13是出口，14是擋板，15是開關(guān)。
【具體實施方式】
[0014]本實用新型如圖1所示，包括槽體1、滑臺氣缸2、提籃3和電箱控制器4，所述槽體1上設(shè)有支架5，所述滑臺氣缸2設(shè)在所述支架5上、且?guī)铀鎏峄@3在所述槽體1內(nèi)作升降運動；
[0015]所述滑臺氣缸2上設(shè)有上磁感應(yīng)開關(guān)6和下磁感應(yīng)開關(guān)7，所述上磁感應(yīng)開關(guān)6位于下磁感應(yīng)開關(guān)7的上方，所述滑臺氣缸2通過二位五通電磁閥8連接電箱控制器4;
[0016]所述電箱控制器4設(shè)在所述支架5上，所述電箱控制器4包括開關(guān)15，所述上磁感應(yīng)開關(guān)6和下磁感應(yīng)開關(guān)7分別連接電箱控制器4。
[0017]所述電箱控制器4還包括時間繼電器9和蜂鳴器10，所述時間繼電器9連接蜂鳴器10。
[0018]所述提籃3內(nèi)設(shè)有舟架11，所述舟架內(nèi)設(shè)有晶片。
[0019]所述槽體1上設(shè)有進口12和出口 13，所述槽體1的底面傾斜設(shè)置;進口用于注入清洗液體，出口用于排出液體;槽體底面傾斜便于將清洗過程中的雜質(zhì)聚于較低處，方便排出。
[0020]所述槽體1的頂口四周設(shè)有傾斜的擋板14;設(shè)置擋板，避免提籃在升降過程中將槽體內(nèi)的液體帶出槽體。
[0021]本實用新型在工作中，不需要人工每次手動不定速上下提刷，使用滑臺氣缸帶動舟架提刷，滑臺氣缸穩(wěn)定性好，運動勻速，上、下磁感應(yīng)開關(guān)控制牢靠，并安裝時間繼電器，時間到了會自動報警，并停止提刷。
【主權(quán)項】
1.清洗裝置，其特征在于，包括槽體、滑臺氣缸、提籃和電箱控制器，所述槽體上設(shè)有支架，所述滑臺氣缸設(shè)在所述支架上、且?guī)铀鎏峄@在所述槽體內(nèi)作升降運動； 所述滑臺氣缸上設(shè)有上磁感應(yīng)開關(guān)和下磁感應(yīng)開關(guān)，所述上磁感應(yīng)開關(guān)位于下磁感應(yīng)開關(guān)的上方，所述滑臺氣缸通過二位五通電磁閥連接電箱控制器； 所述電箱控制器設(shè)在所述支架上，所述電箱控制器包括開關(guān)，所述上磁感應(yīng)開關(guān)和下磁感應(yīng)開關(guān)分別連接電箱控制器。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述電箱控制器還包括時間繼電器和蜂鳴器，所述時間繼電器連接蜂鳴器。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述提籃內(nèi)設(shè)有舟架，所述舟架內(nèi)設(shè)有晶片。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述槽體上設(shè)有進口和出口，所述槽體的底面傾斜設(shè)置。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述槽體的頂口四周設(shè)有傾斜的擋板。
【專利摘要】清洗裝置。提供了一種結(jié)構(gòu)簡單，方便操作，提高晶片清洗可靠性的清洗裝置。包括槽體、滑臺氣缸、提籃和電箱控制器，所述槽體上設(shè)有支架，所述滑臺氣缸設(shè)在所述支架上、且?guī)铀鎏峄@在所述槽體內(nèi)作升降運動；所述滑臺氣缸上設(shè)有上磁感應(yīng)開關(guān)和下磁感應(yīng)開關(guān)，所述上磁感應(yīng)開關(guān)位于下磁感應(yīng)開關(guān)的上方，所述滑臺氣缸通過二位五通電磁閥連接電箱控制器；所述電箱控制器設(shè)在所述支架上，所述電箱控制器包括開關(guān)，所述上磁感應(yīng)開關(guān)和下磁感應(yīng)開關(guān)分別連接電箱控制器。本實用新型提升了晶片表面清潔度、降低了勞動強度、改善了產(chǎn)品良率，操作方便，省時省力。
【IPC分類】H01L21/67, H01L21/677
【公開號】CN205092224
【申請?zhí)枴緾N201520899393
【發(fā)明人】賴建祥, 裘立強, 王毅
【申請人】揚州杰利半導(dǎo)體有限公司
【公開日】2016年3月16日
【申請日】2015年11月12日