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      一種mis晶體硅太陽(yáng)能電池的制作方法

      文檔序號(hào):10212317閱讀:246來(lái)源:國(guó)知局
      一種mis晶體硅太陽(yáng)能電池的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池。
      【背景技術(shù)】
      [0002]太陽(yáng)能電池分為薄膜太陽(yáng)能電池和晶體硅太陽(yáng)能電池,不管是哪種形式的電池,p-n上的電子都需要通過(guò)金屬電極進(jìn)行收集,因此金屬電極在太陽(yáng)能電池結(jié)構(gòu)上發(fā)揮著舉足輕重的作用。晶體硅太陽(yáng)能電池正面的電子通過(guò)Ag主柵線和Ag副柵線進(jìn)行收集,由于Ag價(jià)格高,地球儲(chǔ)備量有限,極大的制約了太陽(yáng)能電池的普及。目前很多研究者和電池制造商將研究的重點(diǎn)放在Ag的替代材料上,在降低太陽(yáng)能電池的制造成本上做了很多的工作,也取一定的成果。
      [0003]Ag的替代材料有A1和Cu,其價(jià)格比Ag低很多,但在制備太陽(yáng)能電池上有很多的弊端:采用A1,由于A1為P型導(dǎo)體,A1和P型硅太陽(yáng)能電池的N+層直接接觸,會(huì)再次形成p-n結(jié),會(huì)大幅度降低太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率;因?yàn)镃u會(huì)破壞p-n結(jié),因此Cu和娃的中間必須有金屬層進(jìn)行隔絕,工藝復(fù)雜,且Cu在燒結(jié)時(shí)氧化嚴(yán)重。因此,如何開(kāi)發(fā)一種新的晶體娃太陽(yáng)能電池工藝,在將Ag進(jìn)行替換的同時(shí),能保證或者進(jìn)一步提升太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0004]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于,提供一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,用A1正電極替換傳統(tǒng)的Ag正電極,降低了制造成本,提升了電池轉(zhuǎn)換效率。
      [0005]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型提供了一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,從下往上依次包括Ag背電極、A1背場(chǎng)、P型硅、N+層、隧穿層、減反膜和A1正電極,A1背場(chǎng)、P型硅、N+層、隧穿層和減反膜為層疊式設(shè)置,所述隧穿層沉積在N+層上,所述減反膜沉積于隧穿層上而沒(méi)沉積在A1正電極上。
      [0006]作為上述方案的改進(jìn),所述隧穿層的厚度為0.5-2nm。
      [0007]作為上述方案的改進(jìn),所述隧穿層為二氧化硅層或氮化硅層。
      [0008]作為上述方案的改進(jìn),所述A1正電極由A1主柵線和A1副柵線組成,且A1主柵線與A1副柵線相互垂直。
      [0009]作為上述方案的改進(jìn),所述A1主柵線的根數(shù)為2-5根,A1副柵線的根數(shù)為90-120根。
      [0010]作為上述方案的改進(jìn),所述A1正電極通過(guò)絲網(wǎng)印刷A1漿制成。
      [0011]作為上述方案的改進(jìn),所述減反膜為SiNx:H膜,厚度為75-90nm,折射率為2.05-2.15ο
      [0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有如下有益效果:A1正電極取代傳統(tǒng)昂貴的Ag正電極,A1正電極-隧穿層-N+層形成MIS結(jié)構(gòu),利用MIS隧穿效應(yīng),使得N+層硅收集的電子可以完全穿透絕緣的隧穿層和A1正電極接觸,從而將電子導(dǎo)出;A1正電極因?yàn)橛兴泶拥母綦x,和N+層無(wú)直接接觸,不會(huì)再次形成p-n結(jié),不會(huì)影響電池的轉(zhuǎn)換效率;本實(shí)用新型可以大大降低制造成本,提升轉(zhuǎn)換效率。
      【附圖說(shuō)明】
      [0013]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的晶體硅太陽(yáng)能電池結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0014]圖2是圖1的俯視圖;
      [0015]圖3是本實(shí)用新型的一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0016]圖4是圖3的俯視圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0017]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
      [0018]如圖1、圖2所示:現(xiàn)有技術(shù)的晶體硅太陽(yáng)能電池結(jié)構(gòu)從下往上依次為Ag背電極1'、A1背電場(chǎng)f、P型硅:V、N+層V、減反膜Y和Ag正電極V,太陽(yáng)能電池的Ag正電極由Ag主柵線61'和Ag副柵線62'組成,Ag主柵線61'和Ag副柵線62'垂直,Ag主柵線61'相互平行且均勻分布,Ag副柵線62'相互平行且均勻分布。
      [0019]如圖3、圖4所示,本實(shí)用新型的一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,從下往上依次包括Ag背電極1、A1背場(chǎng)2、P型硅3、N+層4、隧穿層5、減反膜6和A1正電極7,A1背場(chǎng)2、P型硅3、N+層4、隧穿層5和減反膜6為層疊式設(shè)置,隧穿層5沉積在N+層4上,減反膜6沉積于隧穿層5上而沒(méi)沉積在A1正電極7上。
      [0020]隧穿層5的厚度為0.5-2nm,隧穿層5的厚度直接影響MIS器件的隧穿效果,一般厚度越薄,隧穿效果要好;但是,厚度越薄,越容易導(dǎo)致隧穿層5厚度不均勻,同樣會(huì)影響隧穿效果。
      [0021]隧穿層5為二氧化硅層或氮化硅層,隧穿層5是絕緣層,二氧化硅層或氮化硅層效果差不多。
      [0022]A1正電極7由A1主柵線71和A1副柵線72組成,A1主柵線71和A1副柵線72相互垂直;A1主柵線71的根數(shù)為2-5根,A1副柵線72的根數(shù)為90-120根;A1正電極7通過(guò)絲網(wǎng)印刷A1漿的方法制備。
      [0023]減反膜6為SiNx:H膜,厚度為75_90nm,折射率為2.05-2.15。
      [0024]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有如下有益效果:A1正電極取代傳統(tǒng)昂貴的Ag正電極,A1正電極-隧穿層-N+層形成MIS結(jié)構(gòu),利用MIS隧穿效應(yīng),使得N+層硅收集的電子可以完全穿透絕緣的隧穿層和A1正電極接觸,從而將電子導(dǎo)出;A1正電極因?yàn)橛兴泶拥母綦x,和N+層無(wú)直接接觸,不會(huì)再次形成p-n結(jié),不會(huì)影響電池的轉(zhuǎn)換效率;本實(shí)用新型可以大大降低制造成本,提升轉(zhuǎn)換效率。
      [0025]以上所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,其特征在于,從下往上依次包括Ag背電極、A1背場(chǎng)、P型硅、N+層、隧穿層、減反膜和A1正電極,A1背場(chǎng)、P型硅、N+層、隧穿層和減反膜為層疊式設(shè)置,所述隧穿層沉積在N+層上,所述減反膜沉積于隧穿層上而沒(méi)沉積在A1正電極上。2.如權(quán)利要求1所述的一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述隧穿層的厚度為0.5_2nm03.如權(quán)利要求1所述的一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述隧穿層為二氧化娃層或氮化娃層。4.如權(quán)利要求1所述的一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述A1正電極由A1主柵線和A1副柵線組成,且A1主柵線與A1副柵線相互垂直。5.如權(quán)利要求4所述的一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述A1主柵線的根數(shù)為2-5根,A1副柵線的根數(shù)為90-120根。6.如權(quán)利要求1所述的一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述A1正電極通過(guò)絲網(wǎng)印刷A1漿制成。7.如權(quán)利要求1所述的一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述減反膜為SiNx:H 膜,厚度為 75-90nm,折射率為 2.05-2.15。
      【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種MIS晶體硅太陽(yáng)能電池,從下往上依次包括Ag背電極、Al背場(chǎng)、P型硅、N+層、隧穿層、減反膜和Al正電極,Al背場(chǎng)、P型硅、N+層、隧穿層和減反膜為層疊式設(shè)置,所述隧穿層沉積在N+層上,所述減反膜沉積于隧穿層上而沒(méi)沉積在Al正電極上。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有如下有益效果:Al正電極取代傳統(tǒng)昂貴的Ag正電極,Al正電極-隧穿層-N+層形成MIS結(jié)構(gòu),利用MIS隧穿效應(yīng),使得N+層硅收集的電子可以完全穿透絕緣的隧穿層和Al正電極接觸,從而將電子導(dǎo)出;Al正電極因?yàn)橛兴泶拥母綦x,和N+層無(wú)直接接觸,不會(huì)再次形成p-n結(jié),不會(huì)影響電池的轉(zhuǎn)換效率;本實(shí)用新型可以大大降低制造成本,提升轉(zhuǎn)換效率。
      【IPC分類(lèi)】H01L31/0224, H01L31/068
      【公開(kāi)號(hào)】CN205122598
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520878065
      【發(fā)明人】石強(qiáng), 秦崇德, 方結(jié)彬, 黃玉平, 何達(dá)能, 陳剛
      【申請(qǐng)人】廣東愛(ài)康太陽(yáng)能科技有限公司
      【公開(kāi)日】2016年3月30日
      【申請(qǐng)日】2015年11月4日
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