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      一種觸頭支撐件及使用該支撐件的觸頭組件、真空滅弧室的制作方法

      文檔序號(hào):10370384閱讀:435來(lái)源:國(guó)知局
      一種觸頭支撐件及使用該支撐件的觸頭組件、真空滅弧室的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及一種觸頭支撐件及使用該支撐件的觸頭組件、真空滅弧室。
      【背景技術(shù)】
      [0002]目前,12kV系列的真空滅弧室的觸頭結(jié)構(gòu)有兩種,一種是橫向磁場(chǎng)觸頭,另一種是縱向磁場(chǎng)觸頭。其中橫向磁場(chǎng)出頭的觸頭片上開設(shè)有螺旋形或萬(wàn)字形的型槽,該型槽使得橫向磁場(chǎng)出頭的開斷能力優(yōu)于縱向磁場(chǎng)出頭,有利于真空滅弧室的小型化、成本低,受到越來(lái)越多的廠家青睞。但是橫向磁場(chǎng)觸頭的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度和產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度是相互矛盾的,即橫向磁場(chǎng)觸頭上開槽的路徑越長(zhǎng),磁感應(yīng)強(qiáng)度越強(qiáng),但是觸頭的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度就會(huì)越低,在額定的短路開斷電流下的電氣壽命就會(huì)越短,因此現(xiàn)有真空滅弧室中采用的橫向磁場(chǎng)觸頭存在磁感應(yīng)性能差、結(jié)構(gòu)強(qiáng)度差的缺陷。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種提高觸頭結(jié)構(gòu)強(qiáng)度的觸頭支撐件,同時(shí)還提供了一種使用該支撐件的觸頭組件及使用該觸頭組件的真空滅弧室。
      [0004]為了實(shí)現(xiàn)以上目的,本實(shí)用新型中觸頭支撐件的技術(shù)方案如下:
      [0005]觸頭支撐件,包括用于套裝固定在導(dǎo)電桿上的導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)電環(huán)具有用于設(shè)置在觸頭片的外周邊沿和型槽的槽底之間的外周面及用于與觸頭片的背面導(dǎo)電接觸的接觸端面,接觸端面上開設(shè)有用于與觸頭片的型槽對(duì)應(yīng)部分沿同一走向延伸、且不窄于所述型槽的避讓槽。
      [0006]避讓槽貫穿導(dǎo)電環(huán)的兩端端面。
      [0007]導(dǎo)電環(huán)為機(jī)加工或沖裁而成的不銹鋼板。
      [0008]本實(shí)用新型中觸頭組件的技術(shù)方案如下:
      [0009]觸頭組件,包括導(dǎo)電桿及其端頭上固定的觸頭片,觸頭片上設(shè)有沿周向間隔均布的型槽及處于相鄰兩型槽之間的分瓣,并定義觸頭片與導(dǎo)電桿連接的一端的端面為背面、用于與另一觸頭組件配合的端面為正面,觸頭片的背面和導(dǎo)電桿之間固定有支撐件,支撐件包括套裝固定在導(dǎo)電桿上的導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)電環(huán)具有設(shè)置在觸頭片的外周邊沿和型槽的槽底之間的外周面及與觸頭片的背面導(dǎo)電接觸的接觸端面,接觸端面上開設(shè)有與觸頭片的型槽對(duì)應(yīng)部分沿同一走向延伸、且不窄于所述型槽的避讓槽。
      [0010]避讓槽貫穿導(dǎo)電環(huán)的兩端端面。
      [0011]支撐件的外周邊沿處于觸頭片上的型槽的槽深二分之一處。
      [0012]支撐件與導(dǎo)電桿之間及支撐件與觸頭片之間均焊接固連。
      [0013]本實(shí)用新型中真空滅弧室的技術(shù)方案如下:
      [0014]真空滅弧室,包括用于沿軸向相對(duì)分合的兩觸頭組件,觸頭組件包括導(dǎo)電桿及其端頭上固定的觸頭片,觸頭片上設(shè)有沿周向間隔均布的型槽及處于相鄰兩型槽之間的分瓣,并定義觸頭片與導(dǎo)電桿連接的一端的端面為背面、用于與另一觸頭組件配合的端面為正面,觸頭片的背面和導(dǎo)電桿之間固定有支撐件,支撐件包括套裝固定在導(dǎo)電桿上的導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)電環(huán)具有設(shè)置在觸頭片的外周邊沿和型槽的槽底之間的外周面及與觸頭片的背面導(dǎo)電接觸的接觸端面,接觸端面上開設(shè)有與觸頭片的型槽對(duì)應(yīng)部分沿同一走向延伸、且不窄于所述型槽的避讓槽。
      [0015]避讓槽貫穿導(dǎo)電環(huán)的兩端端面。
      [0016]支撐件的外周邊沿處于觸頭片上的型槽的槽深二分之一處。
      [0017]本實(shí)用新型中支撐件在觸頭片的背面起到加固作用,使得觸頭片的中心部位直接固定在導(dǎo)電桿上、分瓣部位被導(dǎo)電環(huán)的相鄰避讓槽之間的實(shí)體部分所支撐,并因?qū)щ姯h(huán)的外徑比觸頭片的外徑小,所以導(dǎo)電環(huán)上的避讓槽對(duì)結(jié)構(gòu)強(qiáng)度造成的影響會(huì)比觸頭片上的型槽小,也就使得支撐件自身的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度得到保證,這樣在觸頭片上的型槽加深后,分瓣部位仍然會(huì)被導(dǎo)電片所支撐,也就保證了整個(gè)觸頭組件整體的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,避免觸頭片的分瓣過(guò)渡懸伸的問(wèn)題。同時(shí),導(dǎo)電環(huán)上的避讓槽又會(huì)使得電流在支撐件和觸頭片之間的流動(dòng)軌跡保持原有軌跡,而不會(huì)直接在導(dǎo)電環(huán)的中心部位和觸頭片的中心部位之間傳遞,保證了觸頭片的分瓣部位電流強(qiáng)度不受損失,也就使得觸頭片的感應(yīng)磁場(chǎng)強(qiáng)度不會(huì)損失。
      【附圖說(shuō)明】
      [0018]圖1是本實(shí)用新型的真空滅弧室的實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0019]圖2是圖1中支撐件和觸頭片的配合結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0020]圖3是圖1支撐件的結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0021]本實(shí)用新型中真空滅弧室的實(shí)施例:如圖1至圖3所示,包括沿軸向相對(duì)分合的兩觸頭組件,兩觸頭組件的結(jié)構(gòu)相同,均由導(dǎo)電桿1、支撐件2和觸頭片3構(gòu)成。
      [0022]導(dǎo)電桿I和觸頭片3的結(jié)構(gòu)均與傳統(tǒng)橫向磁場(chǎng)觸頭組件的結(jié)構(gòu)相同。導(dǎo)電桿I的端部設(shè)置有比中部細(xì)的軸端,軸端插裝焊接在圓盤形的觸頭片3的中心部位,并定義觸頭片3的連接導(dǎo)電桿I的軸端的一端端面為背面、相背的另一端為正面,以通過(guò)兩觸頭組件沿軸向的相對(duì)分合來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)真空滅弧室的分合閘。觸頭片3的外周上開設(shè)有四個(gè)在軸向均布的螺旋形的型槽31,這四個(gè)型槽31均為貫通觸頭片3的兩端端面的直通槽,而觸頭片3的處于相鄰型槽31之間的實(shí)體部分為分瓣32,這些分瓣32使得通過(guò)觸頭片3可以驅(qū)動(dòng)收縮電弧進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),從而使得電弧產(chǎn)生的熱量分散,避免觸頭片3燒蝕。
      [0023]支撐件2是不銹鋼板經(jīng)平板機(jī)加(即機(jī)加工)或沖裁翻邊(即沖壓)而成的圓環(huán)形的導(dǎo)電環(huán)21。導(dǎo)電環(huán)21為規(guī)則的圓環(huán),導(dǎo)電環(huán)21的內(nèi)控同軸焊接固定在導(dǎo)電桿的軸端外周上,導(dǎo)電環(huán)21的外周邊沿處于各型槽31的槽深二分之一處,并在導(dǎo)電環(huán)21的邊緣上開設(shè)有與各型槽31—一對(duì)應(yīng)設(shè)置的避讓槽22,避讓槽22的走向、槽寬均與型槽31相同,且該避讓槽22為貫穿導(dǎo)電環(huán)21兩端環(huán)端面的直通槽,相鄰避讓槽22之間的實(shí)體部分是與觸頭片的分瓣32吻合相貼的導(dǎo)電觸指,導(dǎo)電環(huán)21正面的環(huán)端面為與觸頭片的背面吻合相貼的導(dǎo)電接觸端面。
      [0024]在上述實(shí)施例中,避讓槽是直通槽,在其他實(shí)施例中,避讓槽也可以是在導(dǎo)電環(huán)的正面開口、背面封閉的半通槽。另外,避讓槽也可以比型槽短。避讓槽的形狀也是隨觸頭片上型槽的形狀變化的,即在型槽是萬(wàn)字形的凹槽是,避讓槽也是吻合的萬(wàn)字形的凹槽。
      [0025]在上述實(shí)施例中,支撐件焊接固定在導(dǎo)電桿和觸頭片之間,在其他實(shí)施例中,支撐件也可以通過(guò)螺紋連接、壓接、過(guò)盈裝配等方式固定在導(dǎo)電桿和觸頭片之間。
      [0026]本實(shí)用新型中觸頭組件的實(shí)施例:本實(shí)施例中觸頭組件的結(jié)構(gòu)與上述實(shí)施例中觸頭組件的結(jié)構(gòu)相同,因此不再贅述。
      [0027]本實(shí)用新型中觸頭支撐件的實(shí)施例:本實(shí)施例中觸頭支撐件的結(jié)構(gòu)與上述實(shí)施例中觸頭支撐件的結(jié)構(gòu)相同,因此不再贅述。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.觸頭支撐件,其特征在于,包括用于套裝固定在導(dǎo)電桿上的導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)電環(huán)具有用于設(shè)置在觸頭片的外周邊沿和型槽的槽底之間的外周面及用于與觸頭片的背面導(dǎo)電接觸的接觸端面,接觸端面上開設(shè)有用于與觸頭片的型槽對(duì)應(yīng)部分沿同一走向延伸、且不窄于所述型槽的避讓槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸頭支撐件,其特征在于,避讓槽貫穿導(dǎo)電環(huán)的兩端端面。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的觸頭支撐件,其特征在于,導(dǎo)電環(huán)為機(jī)加工或沖裁而成的不銹鋼板。4.觸頭組件,包括導(dǎo)電桿及其端頭上固定的觸頭片,觸頭片上設(shè)有沿周向間隔均布的型槽及處于相鄰兩型槽之間的分瓣,并定義觸頭片與導(dǎo)電桿連接的一端的端面為背面、用于與另一觸頭組件配合的端面為正面,其特征在于,觸頭片的背面和導(dǎo)電桿之間固定有支撐件,支撐件包括套裝固定在導(dǎo)電桿上的導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)電環(huán)具有設(shè)置在觸頭片的外周邊沿和型槽的槽底之間的外周面及與觸頭片的背面導(dǎo)電接觸的接觸端面,接觸端面上開設(shè)有與觸頭片的型槽對(duì)應(yīng)部分沿同一走向延伸、且不窄于所述型槽的避讓槽。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的觸頭組件,其特征在于,避讓槽貫穿導(dǎo)電環(huán)的兩端端面。6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的觸頭組件,其特征在于,支撐件的外周邊沿處于觸頭片上的型槽的槽深二分之一處。7.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的觸頭組件,其特征在于,支撐件與導(dǎo)電桿之間及支撐件與觸頭片之間均焊接固連。8.真空滅弧室,包括用于沿軸向相對(duì)分合的兩觸頭組件,觸頭組件包括導(dǎo)電桿及其端頭上固定的觸頭片,觸頭片上設(shè)有沿周向間隔均布的型槽及處于相鄰兩型槽之間的分瓣,并定義觸頭片與導(dǎo)電桿連接的一端的端面為背面、用于與另一觸頭組件配合的端面為正面,其特征在于,觸頭片的背面和導(dǎo)電桿之間固定有支撐件,支撐件包括套裝固定在導(dǎo)電桿上的導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)電環(huán)具有設(shè)置在觸頭片的外周邊沿和型槽的槽底之間的外周面及與觸頭片的背面導(dǎo)電接觸的接觸端面,接觸端面上開設(shè)有與觸頭片的型槽對(duì)應(yīng)部分沿同一走向延伸、且不窄于所述型槽的避讓槽。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空滅弧室,其特征在于,避讓槽貫穿導(dǎo)電環(huán)的兩端端面。10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的真空滅弧室,其特征在于,支撐件的外周邊沿處于觸頭片上的型槽的槽深二分之一處。
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種觸頭支撐件及使用該支撐件的觸頭組件、真空滅弧室。觸頭組件包括導(dǎo)電桿及其端頭上固定的觸頭片,觸頭片上設(shè)有沿周向間隔均布的型槽及處于相鄰兩型槽之間的分瓣,觸頭片的背面和導(dǎo)電桿之間固定有支撐件,支撐件包括套裝固定在導(dǎo)電桿上的導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)電環(huán)具有設(shè)置在觸頭片的外周邊沿和型槽的槽底之間的外周面及與觸頭片的背面導(dǎo)電接觸的接觸端面,接觸端面上開設(shè)有與觸頭片的型槽對(duì)應(yīng)部分沿同一走向延伸、且不窄于所述型槽的避讓槽。支撐件在觸頭片的背面起到加固作用,使得觸頭片的中心部位直接固定在導(dǎo)電桿上、分瓣部位被導(dǎo)電環(huán)的相鄰避讓槽之間的實(shí)體部分所支撐,也就保證了整個(gè)觸頭組件整體的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。
      【IPC分類】H01H33/664
      【公開號(hào)】CN205282374
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520991329
      【發(fā)明人】王曉琴, 李敏, 李文藝, 舒小平, 孫淑萍, 王南南, 葛媛媛
      【申請(qǐng)人】天津平高智能電氣有限公司, 平高集團(tuán)有限公司, 國(guó)家電網(wǎng)公司
      【公開日】2016年6月1日
      【申請(qǐng)日】2015年12月3日
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