電池片臭氧氧化裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電池領(lǐng)域；
[0002]尤其涉及一種電池片臭氧氧化裝置。
【背景技術(shù)】
[0003]PID(Potential Induced Degradat1n俗稱電位誘發(fā)衰減)是光伏發(fā)電系統(tǒng)實(shí)際使用時(shí)在尚溫尚濕和尚壓偏壓環(huán)境下，因漏電流而引起功率發(fā)減的現(xiàn)象。現(xiàn)在主流的抗PID方式是PECVD鍍膜之前采用臭氧氧化硅片表面生長一層致密的二氧化硅阻擋層，可以有效的阻止鈉離子迀移到電池表面，從而避免電池組件的功率衰減。臭氧氧化系統(tǒng)主要由臭氧發(fā)生裝置、臭氧氧化裝置和抽風(fēng)裝置組成。
[0004]參閱圖1所示，顯示為現(xiàn)有技術(shù)中的臭氧氧化裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。硅片從氧化反應(yīng)器下經(jīng)過時(shí)，氣體從氣體噴孔排出對(duì)硅片進(jìn)行氧化，在硅片表面生長一層二氧化硅氧化膜?，F(xiàn)有臭氧氧化裝置存在的不足是，氧化反應(yīng)器底部為平面，臭氧向四周擴(kuò)散，，部分臭氧未經(jīng)充分利用便被排走，能夠保存的臭氧有限。同時(shí)氧化反應(yīng)器下方的臭氧易于向外界環(huán)境散逸，環(huán)境中的臭氧濃度過高有危害人體健康的風(fēng)險(xiǎn)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的種種不足，本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于提供一種電池片臭氧氧化裝置，以克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供一種電池片臭氧氧化裝置，包括設(shè)于電池片輸送帶上方的氧化反應(yīng)器，所述氧化反應(yīng)器底部設(shè)有多個(gè)氣體噴孔，所述氧化反應(yīng)器底部相鄰的氣體噴孔之間設(shè)有內(nèi)凹的開口槽結(jié)構(gòu)。
[0007 ]優(yōu)選地，氧化反應(yīng)器內(nèi)設(shè)有勻流板。
[0008]優(yōu)選地，沿硅片輸送方向排列的每兩個(gè)相鄰的氣體噴孔之間設(shè)有內(nèi)凹的開口槽結(jié)構(gòu)。
[0009]優(yōu)選地，位于最外側(cè)的氣體噴孔的出氣方向呈45°向內(nèi)傾斜出氣。
[0010]優(yōu)選地，電池片輸送帶下方設(shè)有抽風(fēng)裝置。
[0011]優(yōu)選地，所述開口槽結(jié)構(gòu)為三角形、U形、V形、方形的任一種。
[0012]通過以上技術(shù)方案，本實(shí)用新型相較于現(xiàn)有技術(shù)具有以下技術(shù)效果:氧化反應(yīng)器底部相鄰的氣體噴孔之間設(shè)置的內(nèi)凹開口槽結(jié)構(gòu)能保存部分臭氧氣體，這部分臭氧氣體能夠繼續(xù)和經(jīng)過的硅片反應(yīng)，在達(dá)到相同氧化效果的前提下，相比現(xiàn)有結(jié)構(gòu)更為節(jié)省臭氧，臭氧利用更為充分。同時(shí)由于內(nèi)凹開口槽結(jié)構(gòu)的層層阻攔，能減緩臭氧向外界環(huán)境的散逸，具備高度產(chǎn)業(yè)利用價(jià)值。
【附圖說明】
[0013]圖1顯示為現(xiàn)有技術(shù)中的臭氧氧化裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2顯示為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]元件標(biāo)號(hào)說明:
[0016]I氧化反應(yīng)器
[0017]2勻流板
[0018]3氣體噴孔
[0019]4開口槽結(jié)構(gòu)
[0020]5抽風(fēng)裝置
【具體實(shí)施方式】
[0021]以下由特定的具體實(shí)施例說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，熟悉此技術(shù)的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)及功效。
[0022]請參閱圖1至圖2。須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的限定條件，故不具技術(shù)上的實(shí)質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實(shí)用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本實(shí)用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時(shí)，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的范圍，其相對(duì)關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實(shí)質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本實(shí)用新型可實(shí)施的范疇。
[0023]太陽能電池主要以硅片作為原料，本實(shí)用新型的電池片以硅片為例。參閱圖2所示，顯示為本實(shí)用新型電池片臭氧氧化裝置較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，包括設(shè)于電池片輸送帶上方的氧化反應(yīng)器I，氧化反應(yīng)器I內(nèi)設(shè)有勻流板2，氧化反應(yīng)器底部設(shè)有多個(gè)氣體噴孔3，硅片從氧化反應(yīng)器下經(jīng)過時(shí)，氣體經(jīng)勻流板2均勻分至每個(gè)氣體噴孔3排出對(duì)硅片進(jìn)行氧化。本實(shí)用新型通過對(duì)氣體噴孔之間的區(qū)域加以利用，在氧化反應(yīng)器I底部相鄰的氣體噴孔之間設(shè)置開口槽結(jié)構(gòu)4構(gòu)成內(nèi)凹空間，當(dāng)臭氧氣體排出時(shí)，該空間能保存部分臭氧氣體，這部分臭氧氣體能夠繼續(xù)和經(jīng)過的硅片反應(yīng)，在達(dá)到相同氧化效果的前提下，相比現(xiàn)有結(jié)構(gòu)更為節(jié)省臭氧，臭氧利用更為充分。同時(shí)由于內(nèi)凹開口槽結(jié)構(gòu)的層層阻攔，能減緩了臭氧向外界環(huán)境的散逸。
[0024]作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，開口槽結(jié)構(gòu)4設(shè)置于沿硅片輸送方向排列的每兩個(gè)相鄰的氣體噴孔之間，以達(dá)到最優(yōu)空間布置。
[0025]作為本實(shí)用新型的另一改進(jìn)，位于最外側(cè)的氣體噴孔的出氣方向呈45°向內(nèi)傾斜出氣，電池片輸送帶下方設(shè)有抽風(fēng)裝置5，進(jìn)一步減少臭氧向外界環(huán)境的散逸。
[0026]作為本實(shí)用新型的另一改進(jìn)，開口槽結(jié)構(gòu)4優(yōu)選為三角形、U形、V形、方形的任一種。
[0027]上述實(shí)施例僅例示性說明本實(shí)用新型的原理及其功效，而非用于限制本實(shí)用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實(shí)用新型的精神及范疇下，對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在未脫離本實(shí)用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實(shí)用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種電池片臭氧氧化裝置，包括設(shè)于電池片輸送帶上方的氧化反應(yīng)器，其特征在于，所述氧化反應(yīng)器底部設(shè)有多個(gè)氣體噴孔，所述氧化反應(yīng)器底部相鄰的氣體噴孔之間設(shè)有內(nèi)凹的開口槽結(jié)構(gòu)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池片臭氧氧化裝置，其特征在于，氧化反應(yīng)器內(nèi)設(shè)有勻流板。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池片臭氧氧化裝置，其特征在于，沿硅片輸送方向排列的每兩個(gè)相鄰的氣體噴孔之間設(shè)有內(nèi)凹的開口槽結(jié)構(gòu)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池片臭氧氧化裝置，其特征在于，位于最外側(cè)的氣體噴孔的出氣方向呈45°向內(nèi)傾斜出氣。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電池片臭氧氧化裝置，其特征在于，電池片輸送帶下方設(shè)有抽風(fēng)裝置。6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的電池片臭氧氧化裝置，其特征在于，所述開口槽結(jié)構(gòu)為三角形、U形、V形、方形的任一種。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種電池片臭氧氧化裝置，包括設(shè)于電池片輸送帶上方的氧化反應(yīng)器，所述氧化反應(yīng)器底部設(shè)有多個(gè)氣體噴孔，所述氧化反應(yīng)器底部相鄰的氣體噴孔之間設(shè)有內(nèi)凹的開口槽結(jié)構(gòu)。氧化反應(yīng)器底部相鄰的氣體噴孔之間設(shè)置的內(nèi)凹開口槽結(jié)構(gòu)能保存部分臭氧氣體，這部分臭氧氣體能夠繼續(xù)和經(jīng)過的硅片反應(yīng)，在達(dá)到相同氧化效果的前提下，相比現(xiàn)有結(jié)構(gòu)更為節(jié)省臭氧，臭氧利用更為充分。同時(shí)由于內(nèi)凹開口槽結(jié)構(gòu)的層層阻攔，能減緩臭氧向外界環(huán)境的散逸，具備高度產(chǎn)業(yè)利用價(jià)值。
【IPC分類】H01L21/67, H01L31/18
【公開號(hào)】CN205319178
【申請?zhí)枴緾N201521128955
【發(fā)明人】柯希滿, 童銳, 張小剛, 楊大誼
【申請人】太極能源科技（昆山）有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2015年12月30日